2-乙氧基乙基氯乙酸酯 | 60682-94-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 2-乙氧基乙基氯乙酸酯
• 英文名称: chloro-acetic acid-(2-ethoxy-ethyl ester)
• 英文别名: Chlor-essigsaeure-(2-aethoxy-aethylester)；2-ethoxyethyl chloroacetate；2-ethoxyethyl 2-chloroacetate
• CAS: 60682-94-2
• 化学式: C₆H₁₁ClO₃
• mdl: MFCD11046426
• 分子量: 166.605
• InChiKey: KPAIAQWSRMSXDB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.833
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2915400090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-乙氧基乙基氯乙酸酯 在 三乙胺 作用下， 生成 2-(2-Ethoxyethoxy)-2-oxoethyl 2-cyanoprop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  Aronovich,D.A. et al., Journal of applied chemistry of the USSR, 1979, vol. 52, p. 900 - 902

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙二醇乙醚 、 氯乙酰氯 在 吡啶 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以84%的产率得到2-乙氧基乙基氯乙酸酯
  参考文献：
  名称：

  Svoboda, Jiri; Palecek, Jaroslav; Dedek, Vaclav, Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1986, vol. 51, # 6, p. 1304 - 1310

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Resist compositions, their preparation and use for patterning processes
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP0908783A1

  公开（公告）日：1999-04-14

  A resist composition comprising (A) an organic solvent; (B) at least two polymers with weight average molecular weights of 1,000-500,000, which have at least one type of acid labile group and are crosslinked within a molecule and/or between molecules with crosslinking groups having C-O-C linkages; and (C) a photoacid generator is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and plasma etching resistance, and provides resist patterns of outstanding thermal stability and reproducibility. Patterns obtained with this resist composition are less prone to overhanging and have excellent dimensional controllability. The resist composition is suitable as a micropatterning material for VLSI fabrication because it has a low absorption at the exposure wavelength of a KrF excimer laser, thus enabling the easy formation of a finely defined pattern having sidewalls perpendicular to the substrate.

  一种抗蚀剂组合物包含（A）一种有机溶剂；（B）至少两种重量平均分子量在 1,000-500,000 之间的聚合物，这些聚合物具有至少一种酸易变基团，并在分子内和/或分子之间用具有 C-O-C 连接的交联基团交联；以及（C）一种光酸发生器，这种光酸发生器对高能辐射敏感，具有出色的灵敏度、分辨率和抗等离子刻蚀能力，并能提供具有出色热稳定性和可重复性的抗蚀图案。使用这种抗蚀剂组合物获得的图案不易悬空，具有极佳的尺寸可控性。这种抗蚀剂组合物适合用作超大规模集成电路制造中的微图案材料，因为它在 KrF 准分子激光的曝光波长下具有低吸收率，从而能够轻松形成具有垂直于基底侧壁的精细图案。
• Novel styrene polymer, chemically amplified positive resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20030013832A1

  公开（公告）日：2003-01-16

  A styrene polymer represented by formula (1), terminated with P, and having a weight average molecular 1 wherein R is OH or OR 3 , R 1 is H or CH 3 , R 2 is alkyl, R 3 is acid labile group, x≧0, y>0, k≧0, m≧0, n>0, 0

  由式（1）代表的苯乙烯聚合物，以 P 结尾，其重量平均分子为 1 其中 R 是 OH 或 OR 3 , R 1 是 H 或 CH 3 , R 2 是烷基，R 3 是酸性基团，x≧0, y>0, k≧0, m≧0, n>0, 0
• Faass; Hilgert, Chemische Berichte, 1954, vol. 87, p. 1343,1350
  作者：Faass、Hilgert

  DOI：——

  日期：——
• Etlis; Beshenova; Semenova, Journal of applied chemistry of the USSR, 1986, vol. 59, # 3 pt 2, p. 551 - 555
  作者：Etlis、Beshenova、Semenova、Shomina、Dreiman、Balaev

  DOI：——

  日期：——
• Etlis,V.S. et al., Journal of applied chemistry of the USSR, 1971, vol. 44, p. 944 - 946
  作者：Etlis,V.S. et al.

  DOI：——

  日期：——