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2-(2,2,2-trifluoroacetoxy)ethylmethacrylate | 95615-40-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-(2,2,2-trifluoroacetoxy)ethylmethacrylate
英文别名
2-(2,2,2-Trifluoroacetyl)oxyethyl 2-methylprop-2-enoate
2-(2,2,2-trifluoroacetoxy)ethylmethacrylate化学式
CAS
95615-40-0
化学式
C8H9F3O4
mdl
——
分子量
226.152
InChiKey
VXFSZYMNTQZDDH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    227.6±40.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.264±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.1
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    52.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    7

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    甲基丙烯酸羟乙酯4-甲基-2-戊酮碳酸氢钠三氟乙酸酐 作用下, 以 为溶剂, 以92%的产率得到2-(2,2,2-trifluoroacetoxy)ethylmethacrylate
    参考文献:
    名称:
    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND POLYMERIZABLE COMPOUND
    摘要:
    一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物,其中包括酸敏感基团,酸发生剂用于在辐射照射后生成酸,以及第二聚合物,其中包括氟原子和由通用公式(x)表示的功能基团。第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。R1代表碱性易裂解基团。A代表氧原子,-NR′—,-CO—O—#或-SO2—O—##,其中A代表的氧原子不是直接与芳香环、酰基或亚砜基结合的氧原子,R′代表氢原子或碱性易裂解基团,“#”和“##”表示与R1结合的键合手。-A-R1(x)
    公开号:
    US20120237875A1
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文献信息

  • SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ANRYU Yukako
    公开号:US20120328986A1
    公开(公告)日:2012-12-27
    A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L l represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or carbonyl group, provided that L l is not a single bond when n is 0, ring W represents a C3-C36 aliphatic ring in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group, a C1-C12 alkyl group or a C1-C12 alkoxy group, R l represents a hydroxyl group or a hydroxyl group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.
    一种用化学式(I)表示的盐:其中Q1和Q2分别表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团,n表示0或1,Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团,其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代,但当n为0时,Ll不是单键,环W表示C3-C36脂肪环,其中一个亚甲基基团可被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基取代,氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代,Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基,Z+表示有机阳离子。
  • SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:YOSHIDA Isao
    公开号:US20130052588A1
    公开(公告)日:2013-02-28
    A photoresist composition containing a resin that is hardly soluble or insoluble, but which is soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid, and a salt represented by formula (I): wherein Q 1 , Q 2 , L 1 , W 1 , W 2 , R 1 , R 2 , t1 and t2 are defined in the specification, and Z + represents an organic cation.
    一种光刻胶组合物,包含一种树脂,该树脂几乎不溶解或不溶解,但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中,并且包含由式(I)表示的盐:其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义,Z+代表有机阳离子。
  • COMPOUND, RESIN, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20120295201A1
    公开(公告)日:2012-11-22
    A compound represented by formula (I): wherein T 1 represents a single bond or a C6-C14 aromatic hydrocarbon group, L 1 represents a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, L 2 and L 3 each independently represent a single bond or a C1-C6 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, ring W 1 and ring W 2 each independently represent a C3-C36 hydrocarbon ring, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, or C1-C6 alkyl group, R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group, or C1-C6 alkyl group, R 5 represents a hydroxyl group or a methyl group, m represents 0 or 1, and t and u each independently represent an integer of 0 to 2.
    一个由化学式(I)表示的化合物:其中T1代表一个单键或一个C6-C14芳香烃基,L1代表一个C1-C17二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可以被氧原子或羰基所取代,L2和L3分别独立地代表一个单键或一个C1-C6二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可以被氧原子或羰基所取代,环W1和环W2分别独立地代表一个C3-C36碳氢环,R1和R2分别独立地代表一个氢原子、一个羟基或一个C1-C6烷基基团,R3和R4分别独立地代表一个羟基或一个C1-C6烷基基团,R5代表一个羟基或一个甲基基团,m代表0或1,t和u分别独立地代表0到2之间的整数。
  • Acrylate and methacrylate monomers and polymers and process for thermoformed articles
    申请人:MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
    公开号:EP0128701A1
    公开(公告)日:1984-12-19
    Polymerizable monomer compounds selected from the group having the formulae: wherein R is hydrogen or methyl; X is fluoro, chloro, bromo, iodo, hydroxyl, perfluoroalkylsulfonoxy of one to three carbon atoms, perfluoroacyloxy of one to three carbon atoms, benzoyloxy, or trichloroacetoxy; Y is trichloroacetyl, perfluoroacyl of the formula trialkylsilyl of the formula [CH3(CH2)m]3Si- or hydrogen, wherein n is zero to six; and m is zero to three, with the proviso that when Y in formula I or II is hydrogen, X is selected from fluoro, chloro, bromo, iodo in formulas I and II, and additionally from hydroxyl in formula I, are disclosed. Polymers and copolymers of the invention are useful for preparing hydrogel processed articles such as contact lenses, and when dissolved in solvents they can be coated onto articles and then hydrolyzed to provide hydrogel coatings. A process for preparing thermoformed articles including ocular device using certain polymers and copolymers of the invention is described.
    可聚合单体化合物,选自具有以下式子的组别 式中 R 是氢或甲基 X 是氟、氯、溴、碘、羟基、一至三个碳原子的全氟烷基磺酰氧基、一至三个碳原子的全氟乙酰氧基、苯甲酰氧基或三氯乙酰氧基; Y 是三氯乙酰基、式中的全氟乙酰基 式[CH3(CH2)m]3Si-的三烷基硅烷基或氢,其中 n 为 0 至 6;m 为 0 至 3,但条件是当式 I 或 II 中的 Y 为氢时,X 在式 I 和 II 中选自氟、氯、溴、碘,另外在式 I 中选自羟基。本发明的聚合物和共聚物可用于制备水凝胶加工制品,如隐形眼镜,当溶解在溶剂中时,它们可以涂覆在制品上,然后水解以提供水凝胶涂层。 本文描述了一种使用本发明的某些聚合物和共聚物制备热成型物品(包括眼部装置)的工艺。
  • Hydrogel material
    申请人:Pilkington Visioncare Inc. (a Delaware corp.)
    公开号:EP0495603A1
    公开(公告)日:1992-07-22
    A polymeric composition suitable for use in ophthalmic devices such as contact lenses, intraocular lenses and other medical and non-medical devices which composition comprises a copolymer that incorporates repeating units containing a solvolyzable group and various desired hydrophilic repeating units in predetermined ratios, which copolymer is mechanically stable and upon hydration the dimensions of polymeric articles which as formed therefrom can be controlled. In particular, the hydrophilic compositions resulting from the invention are useful in applications where stresses and distortions of the polymer article due to water absorption etc must be minimized or, if possible, eliminated.
    一种适用于眼科设备(如隐形眼镜、眼内镜片及其他医疗和非医疗设备)的聚合物组合物,该组合物由一种共聚物组成,共聚物按预定比例包含含有可溶解基团的重复单元和各种所需的亲水重复单元,该共聚物具有机械稳定性,在水合时,可控制由其形成的聚合物制品的尺寸。本发明产生的亲水性组合物尤其适用于必须尽量减小或尽可能消除聚合物制品因吸水等原因而产生的应力和变形的应用场合。
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