2,5-diphenylpenta-2,4-dienenitrile | 79144-47-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,5-diphenylpenta-2,4-dienenitrile
• 英文别名: (2E,4E)-2,5-diphenylpenta-2,4-dienenitrile
• CAS: 79144-47-1
• 化学式: C₁₇H₁₃N
• 分子量: 231.297
• InChiKey: MEAXDVRKAWCVJF-DESBJYGPSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三甲基氰硅烷 、 1,4-二苯基-1,3丁二烯 在 1-[bis(trifluoroacetoxy)iodo]-3,5-bis(trifluoromethyl)benzene 、 三氟甲磺酸三甲基硅酯 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 15.02h， 以18.3 mg的产率得到(2Z,4E)-2,5-diphenylpenta-2,4-dienenitrile
  参考文献：
  名称：

  烯烃的无金属直接CH氰化

  摘要：

  描述了无金属的直接烯烃CH氰化。不需要导向基团，并且该机理涉及通过由[双（三氟乙酰氧基）碘]芳烃和三甲基甲硅烷基氰化物作为氰化物源原位产生的氰基碘（III）物质对烯烃的亲电子活化。这种CH功能化可以以克为单位进行，对于非环状1,1,1，和1,2-二取代的烯烃，可以实现高立体选择性，因此使该方法具有很高的价值。

  DOI：

  10.1002/anie.201807303

文献信息

• Polymers based on cinnamic acid as a bottom antireflective coating for 157 NM photolithography
  申请人：Hohle Christoph

  公开号：US20050170283A1

  公开（公告）日：2005-08-04

  A bottom antireflective coating for photolithography at 157 nm or less, where the bottom antireflective coating includes a crosslinkable polymer which contains cinnamic acid derivatives.
• US7405028B2
  申请人：——

  公开号：US7405028B2

  公开（公告）日：2008-07-29