methoxymethyl (E)-but-2-enoate | 135360-05-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: methoxymethyl (E)-but-2-enoate
• CAS: 135360-05-3
• 化学式: C₆H₁₀O₃
• 分子量: 130.144
• InChiKey: QNSLLFNJHLXQGV-ONEGZZNKSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  巴豆酸 、 氯甲基甲基醚 在 三乙胺 作用下， 生成 methoxymethyl (E)-but-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  在醚中用溴化镁对甲氧基甲基，甲硫基甲基，甲氧基乙氧基甲基和β-（三甲基甲硅烷基）乙氧基甲基酯进行轻度脱保护

  摘要：

  MOM，MTM，MEM和SEM酯在温和条件下通过在室温下用溴化镁在乙醚中的处理干净地脱保护。

  DOI：

  10.1016/0040-4039(91)80699-7

文献信息

• Coating composition
  申请人：Gallagher Michael K.

  公开号：US20080248331A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  The invention relates to organic coating compositions useful for photolithographic processes including the manufacture of semiconductors and other electronic devices. Compositions of the invention comprise component that comprise a nitrile-containing component, such as a resin component that contains nitrile moieties. Compositions of the invention are particularly useful as an underlayer material in two, three, four or more layer pattern forming processes.