6-(3-nitrophenyl)-2-thioxo-2,3-dihydropyrimidin-4(1H)-one | 1483686-66-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二嗪类
• 英文名称: 6-(3-nitrophenyl)-2-thioxo-2,3-dihydropyrimidin-4(1H)-one
• 英文别名: 6-(3-nitrophenyl)-2-sulfanylidene-1H-pyrimidin-4-one
• CAS: 1483686-66-3
• 化学式: C₁₀H₇N₃O₃S
• mdl: MFCD21567206
• 分子量: 249.25
• InChiKey: ZBELZEOKBUNGOZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  119
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-(3-nitrophenyl)-2-thioxo-2,3-dihydropyrimidin-4(1H)-one 在 一水合肼 作用下， 反应 4.0h， 生成 2-hydrazinyl-6-(3-nitrophenyl)pyrimidin-4(3H)-one
  参考文献：
  名称：

  评价作为组蛋白乙酰转移酶抑制剂的（噻唑-2-基））酮和类似物的大型文库：酶和细胞研究

  摘要：

  最近，我们描述了一些（噻唑-2-基）azo作为抗原生动物，抗真菌和抗MAO试剂以及Gcn5 HAT抑制剂。在这些最后的化合物中，CPTH2和CPTH6在细胞中显示出HAT抑制作用和广泛的抗癌特性。为了鉴定比两个原型更有效的HAT抑制剂，我们合成了几种新的（噻唑-2-基）azo酮，包括一些相关的噻唑烷和嘧啶4（3 H）-酮，并测试了我们现有的整个文库针对人p300和PCAF HAT酶的实验室。某些化合物（1x，1c '，1d '，1i '和2m）在抑制p300 HAT酶方面比CPTH2和CPTH6更有效。在人白血病U937和结肠癌HCT116细胞（100μM，30小时）中进行测试时，1x，1i '和2m产生的凋亡（U937细胞）或类似细胞（HCT116细胞）高于CPTH6，并且在诱导细胞分化方面比CPTH6更有效（U937细胞）。

  DOI：

  10.1016/j.ejmech.2014.04.042
• 作为产物：
  描述：

  3-硝基苯甲酰乙酸乙酯 、 硫脲 在 sodium 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 6-(3-nitrophenyl)-2-thioxo-2,3-dihydropyrimidin-4(1H)-one
  参考文献：
  名称：

  评价作为组蛋白乙酰转移酶抑制剂的（噻唑-2-基））酮和类似物的大型文库：酶和细胞研究

  摘要：

  最近，我们描述了一些（噻唑-2-基）azo作为抗原生动物，抗真菌和抗MAO试剂以及Gcn5 HAT抑制剂。在这些最后的化合物中，CPTH2和CPTH6在细胞中显示出HAT抑制作用和广泛的抗癌特性。为了鉴定比两个原型更有效的HAT抑制剂，我们合成了几种新的（噻唑-2-基）azo酮，包括一些相关的噻唑烷和嘧啶4（3 H）-酮，并测试了我们现有的整个文库针对人p300和PCAF HAT酶的实验室。某些化合物（1x，1c '，1d '，1i '和2m）在抑制p300 HAT酶方面比CPTH2和CPTH6更有效。在人白血病U937和结肠癌HCT116细胞（100μM，30小时）中进行测试时，1x，1i '和2m产生的凋亡（U937细胞）或类似细胞（HCT116细胞）高于CPTH6，并且在诱导细胞分化方面比CPTH6更有效（U937细胞）。

  DOI：

  10.1016/j.ejmech.2014.04.042

文献信息

• Positive working photosensitive material
  申请人：AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À R.L.

  公开号：US10976662B2

  公开（公告）日：2021-04-13

  The present application for patent relates to a light-sensitive positive working photosensitive composition especially useful for imaging thick films using a composition which gives very good film uniformity and promotes a good process latitude against feature pattern collapse in patterns created upon imaging and developing of these films.

  本专利申请涉及一种感光性正片工作感光组合物，特别适用于厚膜成像，该组合物可提供非常好的胶片均匀性，并在这些胶片成像和显影过程中，促进良好的加工纬度，防止图案特征崩溃。
• POSITIVE WORKING PHOTOSENSITIVE MATERIAL
  申请人：AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l.

  公开号：EP3446180B1

  公开（公告）日：2020-04-01
• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLATED ARTICLE
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20190278178A1

  公开（公告）日：2019-09-12

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern having excellent cross-sectional perpendicularity of a nonresist section even when a resist pattern is formed on a metal surface, and a method for manufacturing a substrate with a template and a method for manufacturing a plated article using the composition. The composition contains an acid generator, a resin, and a sulfur-containing compound including a sulfur-containing compound and a thiol compound that is different from the sulfur-containing compound.