4-n-decyloxythiophenol | 114833-57-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯硫酚类
• 英文名称: 4-n-decyloxythiophenol
• 英文别名: 4-(Decyloxy)benzene-1-thiol；4-decoxybenzenethiol
• CAS: 114833-57-7
• 化学式: C₁₆H₂₆OS
• 分子量: 266.448
• InChiKey: IBDCSVQRRHZUGW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  371.2±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.970±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.7
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  10.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-十二烷基苯甲酸 、 4-n-decyloxythiophenol 生成 S-(4-decoxyphenyl) 4-dodecylbenzenecarbothioate
  参考文献：
  名称：

  Neubert, Mary E.; Ziemnicka-Merchant, Barbara; Jirousek, Michael R., Molecular Crystals and Liquid Crystals (1969-1991), 1988, vol. 154, p. 209 - 240

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-癸氧基苯酚 在 sodium hydroxide 、 sodium hydride 作用下， 以 甲醇 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 10.5h， 生成 4-n-decyloxythiophenol
  参考文献：
  名称：

  Neubert, Mary E.; Ziemnicka-Merchant, Barbara; Jirousek, Michael R., Molecular Crystals and Liquid Crystals (1969-1991), 1988, vol. 154, p. 209 - 240

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generations, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030180653A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  A chemical amplification type resist composition contains as a photoacid generator a sulfonyldiazomethane compound of formula (1) wherein R is H or C 1-4 alkyl or alkoxy, G is SO 2 or CO, R 3 is C 1-10 alkyl or C 6-14 aryl, p is 1 or 2, q is 0 or 1, p+q=2, n is 0 or 1, m is 3 to 11, and k is 0 to 4. The composition is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution and improved pattern profile after development. 1

  一种化学放大型光刻胶组合物包含一种化学放大型光酸发生剂，其化学式为（1），其中R为H或C1-4烷基或烷氧基，G为SO2或CO，R3为C1-10烷基或C6-14芳基，p为1或2，q为0或1，p+q=2，n为0或1，m为3至11，k为0至4。该组合物适用于微细加工，尤其是通过深紫外光刻技术，因为具有许多优点，包括提高分辨率和在显影后改善图案轮廓。
• Neubert, M. E.; Keast, S. S.; Dixon-Polverine, Y., Molecular Crystals and Liquid Crystals Science and Technology, Section A: Molecular Crystals and Liquid Crystals, 1994, vol. 250, p. 109 - 124
  作者：Neubert, M. E.、Keast, S. S.、Dixon-Polverine, Y.、Herlinger F.、Jirousek M. R.、et al.

  DOI：——

  日期：——
• Neubert, Mary E.; Colby, Cynthia; Ezenyilimba, Matthew C., Molecular Crystals and Liquid Crystals (1969-1991), 1988, vol. 154, p. 127 - 150
  作者：Neubert, Mary E.、Colby, Cynthia、Ezenyilimba, Matthew C.、Jirousek, Michael R.、Leonhardt, Darrin、Leung, Katherine

  DOI：——

  日期：——
• ARYL COMPOUNDS AND POLYMERS AND METHODS OF MAKING AND USING THE SAME
  申请人：Board of Regents of the Nevada System of Higher Education, on Behalf of the University of Nevada, Reno

  公开号：EP3271346B1

  公开（公告）日：2021-05-05
• US6689530B2
  申请人：——

  公开号：US6689530B2

  公开（公告）日：2004-02-10