2-hydroxy-6-methyl-heptan-4-one | 59357-17-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 2-hydroxy-6-methyl-heptan-4-one
• 英文别名: 2-Hydroxy-6-methyl-heptan-4-on；2-Methyl-heptanol-(6)-on-(4)；2-Hydroxy-6-methylheptan-4-one
• CAS: 59357-17-4
• 化学式: C₈H₁₆O₂
• 分子量: 144.214
• InChiKey: RSGNVLNLUAGLFI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  86 °C(Press: 9 Torr)
• 密度：
  0.914 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-hydroxy-6-methyl-heptan-4-one 在 Lactobacillus brevis alcohol dehydrogenase 、 丙酮 、 还原型辅酶II(NADPH)四钠盐 、 magnesium chloride 作用下， 以 Tris-HCl buffer 为溶剂， 反应 24.0h， 以15%的产率得到6-甲基-2,4-庚二酮
  参考文献：
  名称：

  混杂的底物结合说明了对映体纯的羟基酮和二醇的酶促立体和区域控制合成。

  摘要：

  使用分离的醇脱氢酶（ADHs）可实现几种二酮的区域和立体选择性还原，得到对映纯的羟基酮或二醇。考虑到酶活性位点中不同（混杂）的底物结合模式，可以合理化结果。此外，有趣的天然环状二酮也以高的区域选择性和立体选择性被还原。由于这些ADH催化过程的准不可逆性，通过使用少量过量的氢供体（2-丙醇）减少了本研究中使用的1,2-和1,3-二酮。因此，使用较少量的共衬底，可以容易地实现放大。

  DOI：

  10.1002/adsc.200900218
• 作为产物：
  描述：

  6-甲基-2,4-庚二酮 在 甲醇 、 镍 作用下， 生成 2-hydroxy-6-methyl-heptan-4-one
  参考文献：
  名称：

  Comparative Safety of Filgrastim versus Sargramostim in Patients Receiving Myelosuppressive Chemotherapy

  摘要：

  研究目的：比较在接受骨髓抑制化疗的患者中，预防性使用菲尔格司亭与沙格莫司亭的副作用发生率。 设计：回顾性研究，具有中心交叉设计。 设置：美国十个门诊化疗中心。 患者：490名接受肺癌、乳腺癌、淋巴系统或卵巢肿瘤治疗的患者。 干预：在研究者的判断下，预防性使用菲尔格司亭或沙格莫司亭，剂量由研究者自行决定。 测量与主要结果：评估了副作用的发生频率和严重程度，以及转用替代性粒细胞生长因子的频率。感染引起的发热没有差异。与沙格莫司亭相比，不明原因的发热更为常见（7%对1%，p<0.001），疲劳、腹泻、注射部位反应、其他皮肤病和水肿也更常见（均p<0.05）。骨骼疼痛在使用菲尔格司亭的患者中更为频繁（p=0.06）。接受沙格莫司亭治疗的患者更常转用替代药物（p<0.001）。 结论：与沙格莫司亭相比，使用菲尔格司亭的副作用发生率更低，这表明生活质量和治疗费用也可能存在差异。

  DOI：

  10.1592/phco.20.19.1432.34861

文献信息

• Tribochemical reactions in cold rolling : a ToF-SIMS study of the chemisorption of the lubricant additives on the sheet
  作者：G. Dauchot、R. Combarieu、P. Montmitonnet、M. Repoux、G. Dessalces、F. Delamare

  DOI：10.1051/metal:2001169

  日期：2001.2

  The chemisorption of cold rolling oil additives on steel and aluminium surfaces is studied with a mass spectrometry technique, ToF-SIMS. Preliminary experiments underline adsorption competition, and thermal threshold for desorption or decomposition. This results fit well with experimental cold rolling results.

  利用质谱技术 ToF-SIMS 研究了钢和铝表面冷轧油添加剂的化学吸附。初步实验强调了吸附竞争以及解吸或分解的热阈值。这一结果与冷轧实验结果非常吻合。
• Method of manufacturing ink jet recording head and ink jet recording head manufacturing by the method
  申请人：CANON KABUSHIKI KAISHA

  公开号：EP0665107A2

  公开（公告）日：1995-08-02

  A highly reliable ink jet recording head excellent in mechanical strength, weatherability, ink resistance, and adhesion to the substrate (1, 10) is provided. For its production, a cationically polymerized curing product of an epoxy resin having a structural unit expressed by the following formula (I) or (II), is used as a resin material (5, 12) which coats an ink flow path pattern (4, 11) formed from a dissoluble resin on the substrate.

  本发明提供了一种高可靠性的喷墨记录头，该记录头在机械强度、耐候性、耐油墨性以及与基底（1、10）的粘附性方面都非常出色。为生产这种记录头，需要阳离子聚合环氧树脂的固化产物，其结构单元由下式（I）或（II）表示、 作为树脂材料 (5，12)，涂覆在由基底上的可溶性树脂形成的油墨流路图案 (4，11) 上。
• A process for producing an optically active quinolinemevalonolactone and a process for producing an optically active quinolinemevalonic acid salt
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES LTD.

  公开号：EP0742209A2

  公开（公告）日：1996-11-13

  A process for producing optically active quinolinemevalonolactone of the formula (III), which comprises dehydrating the optically active quinolinemevalonic acid of the formula ((-)I)

  一种生产式(III)的光学活性喹啉甲内酯的工艺、 其中包括使式（(-)I）的光学活性喹啉甲戊内酯脱水
• THERMOSETTING IODINE- AND SILICON-CONTAINING MATERIAL, COMPOSITION CONTAINING THE MATERIAL FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM FOR EUV LITHOGRAPHY, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3657254A1

  公开（公告）日：2020-05-27

  The present invention is a thermosetting silicon-containing material containing one or more of a repeating unit shown by the following general formula (Sx-1), a repeating unit shown by the following general formula (Sx-2), and a partial structure shown by the following general formula (Sx-3): where R1 represents an iodine-containing organic group; and R2 and R3 are each independently identical to R1, a hydrogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms. This provides: a thermosetting silicon-containing material used for forming a resist underlayer film which is capable of contributing to sensitivity enhancement of an upper layer resist while keeping LWR thereof from degrading; a composition for forming a silicon-containing resist underlayer film, the composition containing the thermosetting silicon-containing material; and a patterning process using the composition.

  本发明是一种热固性含硅材料，它含有一个或多个如下通式（Sx-1）所示的重复单元、如下通式（Sx-2）所示的重复单元和如下通式（Sx-3）所示的部分结构： 其中 R1 代表含碘有机基团；R2 和 R3 各自独立地与 R1、氢原子或具有 1 至 30 个碳原子的一价有机基团相同。本发明提供了：一种用于形成抗蚀剂底层薄膜的含硅热固性材料，该材料能够有助于提高上层抗蚀剂的灵敏度，同时使其低功耗不降低；一种用于形成含硅抗蚀剂底层薄膜的组合物，该组合物含有该含硅热固性材料；以及一种使用该组合物的图案化工艺。
• THERMOSETTING SILICON-CONTAINING COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING A SILICON-CONTAINING FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3680275A1

  公开（公告）日：2020-07-15

  A thermosetting silicon-containing compound contains one or more of structural units shown by the following general formulae (Sx-1), (Sx-2), and (Sx-3): where R1 represents a monovalent organic group containing both a phenyl group optionally having a substituent and a non-aromatic ring having 3 to 10 carbon atoms; and R2, R3 each represent the R1 or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms. Thus, the present invention provides a thermosetting silicon-containing compound usable in a silicon-containing resist underlayer film material capable of achieving contradictory properties of having both alkaline developer resistance and improved solubility in an alkaline stripping liquid containing no hydrogen peroxide.

  热固性含硅化合物包含一个或多个结构单元，结构单元的通式如下（Sx-1）、（Sx-2）和（Sx-3）： 其中，R1 代表一个一价有机基团，该基团包含一个可选具有取代基的苯基和一个具有 3 至 10 个碳原子的非芳香环；R2、R3 分别代表 R1 或一个具有 1 至 30 个碳原子的一价有机基团。因此，本发明提供了一种可用于含硅抗蚀剂底层薄膜材料的热固性含硅化合物，该化合物能够实现既具有抗碱性显影剂性能又能在不含过氧化氢的碱性剥离液中提高溶解性的矛盾特性。