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4-ethoxycarbonyloxybenzenesulfonic acid | 79541-44-9

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-ethoxycarbonyloxybenzenesulfonic acid
英文别名
4-[(Ethoxycarbonyl)oxy]benzenesulfonic acid
4-ethoxycarbonyloxybenzenesulfonic acid化学式
CAS
79541-44-9
化学式
C9H10O6S
mdl
——
分子量
246.241
InChiKey
YQWGOXJNVNQESK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.22
  • 拓扑面积:
    98.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    Polymers having N,N-disubstituted sulfonamide pendent groups and use
    摘要:
    该发明涉及以下式R.sup.1 --SO.sub.2 --N(CO--OR.sup.2)--R3--O--CO--CR.sup.4 .dbd.CH.sub.2和R.sup.1 --N(CO--OR.sup.2)--SO.sub.2 --R.sup.3 --O--CO--CR.sup.4 .dbd.CH.sub.2的单体,其中R.sup.1是(C.sub.1 -C.sub.20)烷基,(C.sub.3 -C.sub.10)环烷基,(C.sub.6 -C.sub.14)芳基或(C.sub.7 -C.sub.20)芳基烷基基团,碳链中的个别亚甲基团可选择性地被杂原子取代,R.sup.2是(C.sub.3 -C.sub.11)烷基,(C.sub.3 -C.sub.11)烯基或(C.sub.7 -C.sub.11)芳基烷基基团,R.sup.3是未取代或取代的(C.sub.1 -C.sub.6)烷基,(C.sub.3 -C.sub.6)环烷基,(C.sub.6 -C.sub.4)芳基或(C.sub.7 -C.sub.20)芳基烷基基团,R.sup.4是氢原子或甲基基团。该发明还涉及具有至少5摩尔%含有侧链基团的聚合物,其化学式为--R.sub.3 --N(CO--OR.sup.2)--SO.sub.2 --R.sup.1 (I)和/或--R.sup.3 --SO.sub.2 --N(CO--OR.sup.2)--R.sup.1 (II),以及含有以下成分的辐射敏感混合物:a)在光敏辐射的影响下形成酸的化合物,和b)酸可解离化合物,其在水性碱性显影剂中的裂解产物的溶解度高于起始化合物,其中酸可解离化合物是上述类型的聚合物,以及包括支撑体和辐射敏感层的记录材料。根据该发明的混合物特别适用于制备胶印版和光刻胶。
    公开号:
    US05442087A1
  • 作为产物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    Methods of treating atherosclerosis using NF-kB inhibitors
    摘要:
    本发明涉及一种治疗动脉粥样硬化的方法,通过诊断一个人需要治疗动脉粥样硬化,并且通过与雌激素受体ER-α、雌激素受体ER-β或ER-α和ER-β雌激素受体中的一个或两个相互作用来给予调节NF-kB转录因子的配体的治疗有效量,且在很大程度上缺乏肌酸激酶的刺激。在某些首选实施例中,给药基本上没有子宫增生活性。
    公开号:
    US20050119324A1
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文献信息

  • Polymers having N,N-disubstituted sulfonamide pendent groups and use
    申请人:Hoechst Aktiengesellschaft
    公开号:US05442087A1
    公开(公告)日:1995-08-15
    The invention relates to monomers of the formulae R.sup.1 --SO.sub.2 --N(CO--OR.sup.2)--R3--O--CO--CR.sup.4 .dbd.CH.sub.2 and R.sup.1 --N(CO--OR.sup.2)--SO.sub.2 --R.sup.3 --O--CO--CR.sup.4 .dbd.CH.sub.2, in which R.sup.1 is a (C.sub.1 -C.sub.20)alkyl, (C.sub.3 -C.sub.10)cycloalkyl, (C.sub.6 -C.sub.14)aryl or (C.sub.7 -C.sub.20) aralkyl radical, individual methylene groups in the radicals containing alkyl being optionally replaced by heteroatoms, R.sup.2 is a (C.sub.3 -C.sub.11)alkyl, (C.sub.3 -C.sub.11 )alkenyl or (C.sub.7 -C.sub.11)aralkyl radical, R.sup.3 is an unsubstituted or substituted (C.sub.1 -C.sub.6)alkyl, (C.sub.3 -C.sub.6)cycloalkyl, (C.sub.6 -C.sub.4)aryl or (C.sub.7 -C.sub.20)aralkyl radical and R.sup.4 is a hydrogen atom or a methyl group. It further relates to polymers having at least 5 mol % of units with pendent groups of the formula(e) --R.sub.3 --N(CO--OR.sup.2)--SO.sub.2 --R.sup.1 (I) and/or --R.sup.3 --SO.sub.2 --N(CO--OR.sup.2)--R.sup.1 (II), and to a radiation-sensitive mixture which contains: a) a compound which under the influence of actinic radiation forms acid, and b) an acid-cleavable compound whose cleavage products in an aqueous-alkaline developer have a higher solubility than the starting compound, in which the acid-cleavable compound is a polymer of the abovementioned type, and to a recording material comprising a support and a radiation-sensitive layer. The mixture according to the invention is particularly suitable for preparing offset printing plates and photoresists.
    该发明涉及以下式R.sup.1 --SO.sub.2 --N(CO--OR.sup.2)--R3--O--CO--CR.sup.4 .dbd.CH.sub.2和R.sup.1 --N(CO--OR.sup.2)--SO.sub.2 --R.sup.3 --O--CO--CR.sup.4 .dbd.CH.sub.2的单体,其中R.sup.1是(C.sub.1 -C.sub.20)烷基,(C.sub.3 -C.sub.10)环烷基,(C.sub.6 -C.sub.14)芳基或(C.sub.7 -C.sub.20)芳基烷基基团,碳链中的个别亚甲基团可选择性地被杂原子取代,R.sup.2是(C.sub.3 -C.sub.11)烷基,(C.sub.3 -C.sub.11)烯基或(C.sub.7 -C.sub.11)芳基烷基基团,R.sup.3是未取代或取代的(C.sub.1 -C.sub.6)烷基,(C.sub.3 -C.sub.6)环烷基,(C.sub.6 -C.sub.4)芳基或(C.sub.7 -C.sub.20)芳基烷基基团,R.sup.4是氢原子或甲基基团。该发明还涉及具有至少5摩尔%含有侧链基团的聚合物,其化学式为--R.sub.3 --N(CO--OR.sup.2)--SO.sub.2 --R.sup.1 (I)和/或--R.sup.3 --SO.sub.2 --N(CO--OR.sup.2)--R.sup.1 (II),以及含有以下成分的辐射敏感混合物:a)在光敏辐射的影响下形成酸的化合物,和b)酸可解离化合物,其在水性碱性显影剂中的裂解产物的溶解度高于起始化合物,其中酸可解离化合物是上述类型的聚合物,以及包括支撑体和辐射敏感层的记录材料。根据该发明的混合物特别适用于制备胶印版和光刻胶。
  • [EN] ACTIVATION OF BLEACH PRECURSORS WITH IMINE QUATERNARY SALTS<br/>[FR] ACTIVATION DE PRECURSEURS D'AGENTS DE BLANCHIMENT A L'AIDE DE SELS QUATERNAIRES D'IMINE
    申请人:UNILEVER N.V.
    公开号:WO1995013353A1
    公开(公告)日:1995-05-18
    (EN) A bleaching composition is described that includes a peroxygen compound as sodium perborate, an oxygen transfer agent in the form of a quaternary imine salt and a bleach precursor. The quaternary imine salt at relatively low concentrations enhances the activity of the precursor. A method for bleaching substrates is also provided, especially a method for cleaning fabrics.(FR) Composition de blanchiment comprenant un composé peroxyde tel que le perborate de sodium, un agent de transfert d'oxygène sous forme de sel quaternaire d'imine et un précurseur d'agent de blanchiment. Lorsque le sel quaternaire d'imine est présent selon des concentrations relativement faibles, il améliore l'activité du précurseur. On a également prévu un procédé de blanchiment de substrats, et notamment un procédé de nettoyage de tissus.
    一种漂白剂配方包括亚硫酸钠类物质、三聚氰胺盐氧化氢和漂白基料。与漂白基料相比,处于相对较低浓度下的三聚氰胺盐显著提升了其活性。涉及使substrats漂白的方法也被提供。特别地,一种处理织物的清洁方法。
  • ACTIVATION OF BLEACH PRECURSORS WITH IMINE QUATERNARY SALTS
    申请人:UNILEVER N.V.
    公开号:EP0728183A1
    公开(公告)日:1996-08-28
  • US3956156A
    申请人:——
    公开号:US3956156A
    公开(公告)日:1976-05-11
  • US3982892A
    申请人:——
    公开号:US3982892A
    公开(公告)日:1976-09-28
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