[DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG CHIRALER SUBSTITUIERTER DIOLE UND DIOLANALOGER DERIVATE<br/>[EN] METHOD FOR PRODUCING SUBSTITUTED SHIRAL DIOLS AND DIOL-ANALOGOUS DERIVATIVES<br/>[FR] PROCEDE DE FABRICATION DE DIOLES CHIRALES SUBSTITUEES ET DE DERIVES ANALOGUES DE DIOLES
申请人:DSM FINE CHEM AUSTRIA GMBH
公开号:WO2004106269A1
公开(公告)日:2004-12-09
Verfahren zur Herstellung von chiralen substituierten Diolen und deren Derivaten der Formel (I), in der R H oder einen gegebenenfalls substituierten C5-C20-Aryl-, C5-C20-Heterocyclus- oder Cl-C20-Alkylrest und Rl einen gegebenenfalls substituierten C5-C20-Aryl-, C5-C20-Heterocyclus- oder Cl-C20-Alkylrest bedeutet, R2 für H, einen gegebenenfalls substituierten Cl-C20-Alkyl-, C3-C7-Heterocyclus-, Silyl-, C5-C20-Aryl-, C5-C20-Arylsulfonyl- oder Cl-C20-Alkylsulfonylrest steht, R3 H oder eine O-Schutzgruppe sein kann und X Sauerstoff, Schwefel, Stickstoff oder Phosphor bedeutet, bei welchem a) eine chirale Hydroxycarbonsäure oder Hydroxycarbonsäureester der Formel (II), in der R4 H oder eine Cl-C6-Alkyl bedeutet, mit einer O-Schutzgruppenverbindung zu der Verbindung der Formel (III), in der R3 die O-Schutzgruppe bedeutet umgesetzt wird, sodann b) mit einem Alkalibor- oder -aluminiumhydrid zu der Verbindung der Formel (IV) reduziert wird, bei der sodann c) gegebenenfalls entweder das Sauerstoffatom aktiviert und anschliessend durch einen Schwefelatom-, Stickstoffatom- oder Phosphoratom-hältigen Rest ausgetauscht wird, oder d) die gegebenenfalls durch Umsetzung mit einem Alkylierungs- oder Arylierungsreagens in eine Verbindung der Formel (V), in der R′2 einen gegebenenfalls substituierten C1-C20-Alkyl-, C3-C7-Heterocyclus-, Silyl-, C5-C20-Aryl-, C5-C20-Arylsulfonyl- oder C1-C20-Alkylsulfonylrest und R3 die O-Schutzgruppe bedeuten, überführt wird und e) im Anschluss an Schritt b), c) oder d) gegebenenfalls die O-Schutzgruppe entfernt wird.
制备手性取代二醇及其衍生物的方法,其中化合物的结构如下(I),其中 R 代表 H 或者一个可能取代的 C5-C20-芳基、C5-C20-杂环烷基或Cl-C20-烷基基团,R1 代表一个可能取代的 C5-C20-芳基、C5-C20-杂环烷基或Cl-C20-烷基基团,R2 代表 H、一个可能取代的 Cl-C20-烷基、C3-C7-杂环基、硅基、C5-C20-芳基、C5-C20-芳基磺酰基或Cl-C20-烷基磺酰基基团,R3 可以是 H 或者一个 O-保护基,X 代表氧、硫、氮或磷,其中a) 手性羟基羧酸或羟基羧酸酯(II),其中 R4 代表 H 或者一个 Cl-C6-烷基,与一个 O-保护基化合物反应形成化合物(III),其中 R3 代表 O-保护基,然后b) 用碱金属硼或铝氢化物还原为化合物(IV),然后c) 可能激活氧原子并通过含有硫、氮或磷的基团交换,或者d) 通过与烷基化或芳基化试剂反应转化为化合物(V),其中 R′2 代表一个可能取代的 C1-C20-烷基、C3-C7-杂环基、硅基、C5-C20-芳基、C5-C20-芳基磺酰基或C1-C20-烷基磺酰基基团,R3 代表 O-保护基,然后e) 在步骤 b)、c) 或 d) 后,可能去除 O-保护基。