申请人:住友化学株式会社
公开号:JP2017095448A
公开(公告)日:2017-06-01
【課題】良好なCD均一性でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Adは、アダマンタントリイル基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
目的是提供一种能够制造具有良好CD均一性的光阻图案的盐、酸发生剂以及包含它们的光阻组合物。解决方案是由式(I)表示的盐、酸发生剂和光阻组合物。【式中,Q1和Q2分别独立地表示氟原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。Lb1表示含有1-24个碳原子的二价饱和烷基,该饱和烷基中的-CH2-可以被-O-或-CO-取代,该饱和烷基中的氢原子可以被氟原子或羟基取代。Ad表示孔雀石脂基。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无