1-Ethenyl-2-(2-ethoxyethoxy)benzene | 67521-20-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 1-Ethenyl-2-(2-ethoxyethoxy)benzene
• CAS: 67521-20-4
• 化学式: C₁₂H₁₆O₂
• 分子量: 192.25
• InChiKey: ARIHJNIUXPYYHW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Acid generator, sulfonic acid, sulfonic acid derivatives and radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030113658A1

  公开（公告）日：2003-06-19

  A novel photoacid generator containing a structure of the following formula (I), 1 wherein R is a monovalent organic group with a fluorine content of 50 wt % or less, a nitro group, a cyano group, or a hydrogen atom, and Z 1 and Z 2 are individually a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1-10 carbon atoms, is provided. When used in a chemically amplified radiation-sensitive resin composition, the photoacid generator exhibits high transparency, comparatively high combustibility, and no bioaccumulation, and produces an acid exhibiting high acidity, high boiling point, moderately short diffusion length in the resist coating, and low dependency to mask pattern density.

  提供一种新型光酸发生剂，其含有以下式(I)的结构，其中R是一种具有50重量％或以下氟含量，硝基，氰基或氢原子的一价有机基团，Z1和Z2分别是氟原子或具有1-10个碳原子的线性或支链全氟烷基团。当用于化学增感辐射敏感树脂组成物中时，该光酸发生剂表现出高透明度，相对高的可燃性和无生物积累，并产生具有高酸度，高沸点，适度短的扩散长度在抗蚀涂层中，并且对掩模图案密度的依赖性低的酸。
• US6908722B2
  申请人：——

  公开号：US6908722B2

  公开（公告）日：2005-06-21