2-morpholinobutanal | 14764-38-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 恶嗪烷类
• 英文名称: 2-morpholinobutanal
• 英文别名: 2-Morpholin-4-ylbutanal
• CAS: 14764-38-6
• 化学式: C₈H₁₅NO₂
• 分子量: 157.213
• InChiKey: YVWYQRLLUSZQNG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-morpholinobutanal 、 N,N'-二甲基乙二胺 生成 4-[1-(1,3-dimethyl-imidazolidin-2-yl)-propyl]-morpholine
  参考文献：
  名称：

  Duhamel,P. et al., Comptes Rendus des Seances de l'Academie des Sciences, Serie C: Sciences Chimiques, 1973, vol. 276, p. 1319 - 1322

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,1-diethoxy-2-morpholinobutane 在 盐酸 作用下， 反应 1.0h， 以90%的产率得到2-morpholinobutanal
  参考文献：
  名称：

  A Novel Synthesis of α-Aminoaldehydes from Glyoxal Monoacetal

  摘要：

  伯胺和仲胺与苯并三唑和乙二醛单乙醛缩合，生成 N-取代的 1-（苯并三唑基）-2,2-二乙氧基乙胺 4，这些乙胺与格氏试剂一起很容易生成相应的 2-氨基烷醛二乙醛 5。这些物质很容易水解生成 δ-氨基醛 6。

  DOI：

  10.1055/s-1990-27128

文献信息

• Benzotriazole: A novel synthetic auxiliary
  作者：Alan R. Katritzky、Stanislaw Rachwal、Gregory J. Hitchings

  DOI：10.1016/s0040-4020(01)87080-0

  日期：1991.1

  eliminated to form products of type Bt-CHR-NR′R″. The latter are versatile intermediates for the preparation of primary, secondary, and tertiary amines and in the alkylation of hydroxylamines, hydrazines, amides, thioamides, and sulfonamides. Polyfunctional amines and other polyfunctional compounds can also be prepared, and they enable significant extending of Mannich reaction.

  苯并三唑和醛可逆地反应生成加成产物：在胺和其他NH化合物存在下，可以消除水形成Bt-CHR-NR'R''型产物。后者是用于制备伯胺，仲胺和叔胺以及羟胺，肼，酰胺，硫酰胺和磺酰胺烷基化的通用中间体。也可以制备多官能胺和其他多官能化合物，它们使曼尼希反应显着扩展。
• Metal chemical mechanical planarization (CMP) composition and methods therefore
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：US10465096B2

  公开（公告）日：2019-11-05

  Provided are Chemical Mechanical Planarization (CMP) formulations that offer high and tunable Cu removal rates and low copper dishing for the broad or advanced node copper or Through Silica Via (TSV). The CMP compositions provide high selectivity of Cu film vs. other barrier layers, such as Ta, TaN, Ti, and TiN, and dielectric films, such as TEOS, low-k, and ultra low-k films. The CMP polishing formulations comprise water; abrasive; single chelator, dual chelators or tris chelators; morpholino family compounds as Cu dishing reducing agents. Additionally, organic quaternary ammonium salt, corrosion inhibitor, oxidizer, pH adjustor and biocide can be used in the formulations.

  所提供的化学机械平坦化（CMP）配方可为宽节点或先进节点铜或硅通孔（TSV）提供高且可调的铜去除率和低铜偏移。与其他阻挡层（如钽、钽镍、钛和钛镍）和介电薄膜（如 TEOS、低 K 和超低 K 薄膜）相比，CMP 组合物具有较高的铜膜选择性。CMP 抛光配方包括水；研磨剂；单螯合剂、双螯合剂或三螯合剂；作为铜排减剂的吗啉族化合物。此外，配方中还可使用有机季铵盐、缓蚀剂、氧化剂、pH 值调节剂和杀菌剂。
• KATRITZKY, ALAN R.;BOROWIECKA, JOANNA;FAN, WEI-QIANG, SYNTHESIS,(1990) N2, C. 1173-1176
  作者：KATRITZKY, ALAN R.、BOROWIECKA, JOANNA、FAN, WEI-QIANG

  DOI：——

  日期：——
• SOKOLOV N. A.; TISHCHENKO I. G.; KOVGANKO N. V., ZH. ORGAN. XIMII, 1978, 14, HO 3, 517-519
  作者：SOKOLOV N. A.、 TISHCHENKO I. G.、 KOVGANKO N. V.

  DOI：——

  日期：——
• AMNIOTIC MEMBRANE AND ITS USE IN WOUND HEALING AND TISSUE ENGINEERING CONSTRUCTS
  申请人：Wake Forest University Health Sciences

  公开号：EP2897625A2

  公开（公告）日：2015-07-29