3-Methylpentan-3-yl 2-methylpropanoate | 1391911-62-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3-Methylpentan-3-yl 2-methylpropanoate
• CAS: 1391911-62-8
• 化学式: C₁₀H₂₀O₂
• 分子量: 172.268
• InChiKey: RKLIZFOQLFFSCP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-Methylpentan-3-yl 2-methylpropanoate 、 对甲苯磺酰胺 在 二甲基乙基硅烷 、 (Ace)Ru₃(CO)7 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 6.0h， 以32%的产率得到4-methyl-N-(3-methylpentan-3-yl)benzenesulfonamide
  参考文献：
  名称：

  使用酯作为伯烷基和叔烷基源的甲苯磺酰胺的N烷基化反应：由钌催化剂活化的氢硅烷介导

  摘要：

  选择您的基团：在使用氢硅烷的钌催化反应中，可以明智地选择用作烷基源的酯，将伯烷基或叔烷基选择性引入甲苯磺酰胺的氮原子上（参见方案; Ts = 4-甲苯磺酰基）。这些N烷基化反应可用于构建天然存在的氮杂环骨架。

  DOI：

  10.1002/anie.201201426

文献信息

• Peroxisome proliferator activated receptor alpha agonists
  申请人：——

  公开号：US20040102500A1

  公开（公告）日：2004-05-27

  The present invention is directed to compounds represented by the following structural formula, and pharmaceutically acceptable salts, solvates and hydrates thereof, R1 is a substituted or unsubstituted group selected from C 1 -C 8 alkyl, aryl-C 0-2 -alkyl, heteroaryl-C 0-2 -alkyl, C 3 -C 6 cycloalkylaryl-C 0-2 -alkyl or phenyl. W is O or S. R2 is H or a substituted or unsubstituted group selected from C 1 -C 6 alkyl, C 3 -C 6 cycloalkyl and heteroaryl. X is a C 2 -C 5 alkylene linker wherein one carbon atom of the linker may be replaced with O, NH or S. Y is C, O, S, NH or a single bond. Furthermore, E is (CH 2 ) n COOH, wherein n is 0, 1, 2 or 3, or C(R3)(R4)A, wherein A is an acidic functional group such as carboxyl, carboxamide substituted or unsubstituted sulfonamide, or substituted or unsubstituted tetrazole. R3 is H, saturated or unsaturated C 1 -C 5 alkyl, C 1 -C 5 alkoxy. Additionally, R4 is H, halo, a substituted or unsubstituted group selected from C 1 -C 5 alkyl, C 1 -C 5 alkoxy, C 3 -C 6 cycloalkyl, arylC 0 -C 4 alkyl and phenyl, or R3 and R4 are combined to form a C 3 -C 4 cycloalkyl.

  本发明涉及以下结构式所代表的化合物，以及其药用可接受的盐、溶剂化合物和水合物，其中R1是从C1-C8烷基、芳基-C0-2-烷基、杂环芳基-C0-2-烷基、C3-C6环烷基芳基-C0-2-烷基或苯基中选择的取代或未取代基团。W是O或S。R2是H或从C1-C6烷基、C3-C6环烷基和杂环芳基中选择的取代或未取代基团。X是一个C2-C5烷基亚甲基连接物，其中连接物的一个碳原子可以被O、NH或S取代。Y是C、O、S、NH或一个单键。此外，E是(CH2)nCOOH，其中n为0、1、2或3，或C(R3)(R4)A，其中A是酸性官能团，如羧基、羧酰胺取代或未取代的磺酰胺，或取代或未取代的四唑。R3是H、饱和或不饱和的C1-C5烷基、C1-C5烷氧基。另外，R4是H、卤素、从C1-C5烷基、C1-C5烷氧基、C3-C6环烷基、芳基-C0-C4烷基和苯基中选择的取代或未取代基团，或者R3和R4组合形成一个C3-C4环烷基。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PEROXISOME PROLIFERATOR ACTIVATED RECEPTOR ALPHA AGONISTS
  申请人：Cano Ivan Collado

  公开号：US20090062358A1

  公开（公告）日：2009-03-05

  The present invention is directed to compounds represented by the following structural formula, and pharmaceutically acceptable salts, solvates and hydrates thereof, R1 is a substituted or unsubstituted group selected from C 1 -C 8 alkyl, aryl-C 0-2 -alkyl, heteroaryl-C 0-2 -alkyl, C3-C6 cycloalkylaryl-C 0-2 -alkyl or phenyl. W is O or S. R2 is H or a substituted or unsubstituted group selected from C 1 -C 6 alkyl, C 3 -C 6 cycloalkyl and heteroaryl. X is a C 2 -C 5 alkylene linker wherein one carbon atom of the linker may be replaced with O, NH or S. Y is C, O, S, NH or a single bond. Furthermore, E is (CH 2 ) n COOH, wherein n is 0, 1, 2 or 3, or C(R3)(R4)A, wherein A is an acidic functional group such as carboxyl, carboxamide substituted or unsubstituted sulfonamide, or substituted or unsubstituted tetrazole. R3 is H, saturated or unsaturated C 1 -C 5 alkyl, C 1 -C 5 alkoxy. Additionally, R4 is H, halo, a substituted or unsubstituted group selected from C 1 -C 5 alkyl, C 1 -C 5 alkoxy, C 3 -C 6 cycloalkyl, arylC 0 -C 4 alkyl and phenyl, or R3 and R4 are combined to form a C 3 -C 4 cycloalkyl.

  本发明涉及以下结构式所代表的化合物，以及其药学上可接受的盐、溶剂合物和水合物，其中，R1是C1-C8烷基、芳基-C0-2-烷基、杂芳基-C0-2-烷基、C3-C6环烷基芳基-C0-2-烷基或苯基的取代或未取代基团。W为O或S。R2为H或C1-C6烷基、C3-C6环烷基和杂芳基的取代或未取代基团。X为C2-C5烷基链，在链中的一个碳原子可以被O、NH或S取代。Y为C、O、S、NH或单键。此外，E为(CH2)nCOOH，其中n为0、1、2或3，或C(R3)(R4)A，其中A为酸性功能基团，如羧基、羧酰基取代或未取代的磺酰胺基、取代或未取代的四唑基。R3为H、饱和或不饱和的C1-C5烷基、C1-C5烷氧基。此外，R4为H、卤素、C1-C5烷基、C1-C5烷氧基、C3-C6环烷基、芳基C0-C4烷基和苯基的取代或未取代基团，或R3和R4结合形成C3-C4环烷基。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD AND RESIST FILM USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100239978A1

  公开（公告）日：2010-09-23

  A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

  一种含有特定结构化合物的光敏组合物，使用该光敏组合物进行的图案形成方法，以及用于该光敏组合物的具有特定结构的化合物。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150132688A1

  公开（公告）日：2015-05-14

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having (a) a repeating unit represented by the specific formula; a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using a developer to form a pattern; a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method; and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中包括（P）具有（a）由特定公式表示的重复单元的树脂；使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成的抗蚀膜；包括（i）使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成膜的步骤，（ii）曝光膜的步骤，以及（iii）使用显影剂显影曝光的膜以形成图案的图案形成方法；一种制造电子设备的方法，包括图案形成方法；以及通过电子设备的制造方法制造的电子设备。