bis-(4-acetoxymethyl-phenyl)-methane | 14568-85-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis-(4-acetoxymethyl-phenyl)-methane
• 英文别名: Bis-(4-acetoxymethyl-phenyl)-methan；[4-[[4-(Acetyloxymethyl)phenyl]methyl]phenyl]methyl acetate
• CAS: 14568-85-5
• 化学式: C₁₉H₂₀O₄
• 分子量: 312.365
• InChiKey: AZRFZXLULWNUSO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  51 °C
• 沸点：
  418.5±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.138±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.26
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis-(4-acetoxymethyl-phenyl)-methane 在 sodium hydroxide 、 氯仿 、 乙酸酐 、 dinitrogen tetraoxide 作用下， 生成 4,4’-二氰基二苯甲烷
  参考文献：
  名称：

  Zur Kenntnis von di-parasubstituierten Derivaten des Diphenylmethans undDiphenyläthans

  摘要：

  DOI：

  10.1002/hlca.193301601170
• 作为产物：
  描述：

  氯化苄 在 硫酸 、 potassium acetate 作用下， 生成 bis-(4-acetoxymethyl-phenyl)-methane
  参考文献：
  名称：

  Zur Kenntnis von di-parasubstituierten Derivaten des Diphenylmethans undDiphenyläthans

  摘要：

  DOI：

  10.1002/hlca.193301601170

文献信息

• Lichtempfindliches Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
  申请人：AMERICAN HOECHST CORPORATION

  公开号：EP0061150A1

  公开（公告）日：1982-09-29

  Lichtempfindliches Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial Es wird ein lichtempfindliches Polykondensationsprodukt aus wiederkehrenden aromatischen Diazoniumsalzeinheiten und Einheiten der allgemeinen Formel II beschrieben, worin n 0 oder eine Zahl von 1 bis 3, M der Rest eines aromatischen Kohlenwasserstoffs. Phenolethers, aromatischen Thioethers, aromatischen Amins. aromatischen Sulfons. aromatischen Ketons oder Diketons. m eine Zahl von 0 bis 9, Y -CH2- oder -CH2OCH2- und T ein Wasserstoffatom ist, wenn Y -CH2-O-CH2- bedeutet, und ein Rest R" ist, wenn Y -CH2 bedeutet. Das Kondensationsprodukt ist für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists geeignet und weist eine höhere Lichtempfindlichkeit als vergleichbare bekannte Verbindungen auf.

  感光缩聚产物、其制备方法和含有该产物的感光记录材料 一种重复芳香重氮盐单元和通式 II 单元的光敏缩聚产物 其中 n 为 0 或 1 至 3 的数字、 M 是芳香烃的基团。M 是芳香烃的基团，如苯酚醚、芳香硫醚、芳香胺、芳香砜、芳香酮或二酮。 m 是 0 至 9 之间的数字、 Y 是-CH2-或-CH2OCH2-，以及 当 Y 为-CH2-O-CH2-时，T 为氢原子；当 Y 为-CH2-时，T 为自由基 R"。 该缩合产物适用于印制板和光刻胶的生产，其感光度高于同类已知化合物。
• Lichtempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0106156A2

  公开（公告）日：1984-04-25

  Es wird ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch aus einem bei Belichtung freie Radikale bildenden Photoinitiator und einem Polykondensat beschrieben, das durch Polykondensation einer Verbindung der Formel worin R CH2OH, C(CH3)2OH, CH2OCqH2q+1 oder CH2OCOCrH2r+1, M der Rest eines aromatischen Kohlenwasserstoffs, eines Diarylethers, eines Diarylsulfids, eines Diarylsulfons, eines Diarylamines, eines Diarylketons oder -diketons, q eine Zahl von 1 bis 4 und r r eine Zahl von 1 bis 3 ist, in stark saurem Medium und Umsetzen der Endgruppen des Polykondensats mit dem Halogenid einer ungesättigten Carbonsäure oder einem Alkenylhalogenid herstellbar ist. Das Gemisch dient vorzugsweise zur Herstellung von Druckplatten und Photoresists.

  一种积极工作的光敏混合物，由在光照下形成自由基的光引发剂和通过缩聚式化合物得到的缩聚物组成 其中 R 是 CH2OH、C(CH3)2OH、CH2OCqH2q+1 或 CH2OCOCrH2r+1、 M 是芳香烃、二芳基醚、二芳基硫醚、二芳基砜、二芳基胺、二芳基酮或二芳基二酮的基团、 q 是 1 至 4 的数字，以及 r r 是 1 至 3 的数字、 在强酸性介质中，使聚缩醛的端基与不饱和羧酸或烯基卤化物反应。这种混合物最好用于生产印版和光刻胶。
• Connerade, Bulletin des Societes Chimiques Belges, 1932, vol. 41, p. 337,345, 346
  作者：Connerade

  DOI：——

  日期：——
• Zur Kenntnis von di-parasubstituierten Derivaten des Diphenylmethans und Diphenyläthans
  作者：T. Relchstein、R. Oppenauer

  DOI：10.1002/hlca.193301601170

  日期：——