核电子相互作用是影响从磁共振成像到量子信息处理 (QIP) 领域的基本现象。QIP 的实现将改变不同的研究领域,包括量子动力学和密码学的精确模拟。QIP 最小单位(量子位)的一个有希望的候选者是电子自旋。分子中的电子自旋为 QIP 和新兴的量子传感领域提供了显着优势。然而,相对于其他量子位候选者,由于与局部环境中的核自旋相互作用,它们具有更短的叠加寿命,称为相干时间或 T2。设计具有足够长 T2 值的复合物需要准确了解核自旋相对于电子自旋中心的位置如何影响退相干。在此,我们报告了对核自旋电子自旋距离与退相干之间关系的首次综合研究。通过合成四种氧
钒配合物,(Ph4P)2[VO(
C3H6S2)2](1),(Ph4P)2[VO(
C5H6S4)2](2),(Ph4P)2[VO(
C7H6S6)2]( 3) 和 (Ph4P)2[VO(C9H6S8)2] (4),我们能够通过使用无自旋的碳
硫在距电子自旋