N-<<(2-nitrophenyl)-1-methylmethoxy>carbonyl>cyclohexylamine | 133795-10-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-<<(2-nitrophenyl)-1-methylmethoxy>carbonyl>cyclohexylamine
• 英文别名: 1-(2-Nitrophenyl)ethyl cyclohexylcarbamate；1-(2-nitrophenyl)ethyl N-cyclohexylcarbamate
• CAS: 133795-10-5
• 化学式: C₁₅H₂₀N₂O₄
• 分子量: 292.335
• InChiKey: WWQZUDUDGMRSTL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.53
• 拓扑面积：
  84.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-<<(2-nitrophenyl)-1-methylmethoxy>carbonyl>cyclohexylamine 生成 二氧化碳 、 1-(2-亚硝基苯基)-乙酮 、 环己胺
  参考文献：
  名称：

  从邻硝基苄基衍生的氨基甲酸酯光生有机碱

  摘要：

  已经研究了有机碱的新型光前体的设计以及控制其量子效率转化为游离胺或二胺的空间和电子因素。基本设计涉及用光不稳定 [(o-nitrobenzyl)oxy] 羰基或 α-取代类似物保护胺。所得受保护的胺的光敏感性归功于经典的邻硝基苄基光重排，并且在用低于 400 nm 的紫外光照射时，可以在固态和溶液中干净地释放游离胺。探索了几种设计，其中光活性中心的结构有系统地变化，以研究各种空间和电子效应的影响。在所有情况下，

  DOI：

  10.1021/ja00011a038
• 作为产物：
  描述：

  邻硝基苯乙酮 在 sodium tetrahydroborate 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 15.58h， 生成 N-<<(2-nitrophenyl)-1-methylmethoxy>carbonyl>cyclohexylamine
  参考文献：
  名称：

  化合物及び該化合物からなる光塩基発生剤

  摘要：

  提供一种新的化合物，可作为光碱发生剂，能够加速环氧树脂的硬化反应进行。该化合物由式（I）表示，其中R1至R6分别独立表示氢、碳链长度为1至5的烃基或含氧的碳链长度为1至5的烃氧基；R7表示碳链长度为1至6的烃基或含有6至15个碳原子的芳香环；R8至R9分别独立表示氢或碳链长度为1至15的烃基；R8和R9中至少有一个表示上述烃基，且R8和R9可以共同形成环结构。

  公开号：

  JP2018062493A

文献信息

• LOW TEMPERATURE, FAST HARDENING COMPOSITION FOR PREPARING PROTECTING FILM, PROTECTING FILM PREPARED THEREFROM, AND SUBSTRATE COMPRISING THE SAME
  申请人：Son Jeong-man

  公开号：US20100080973A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  The present invention relates to a composition for preparing an excellent protecting film with high strength, wear resistance, and excellent barrier property by low temperature hardening, a protecting film prepared therefrom, a substrate comprising the same, and a component or device comprising the same. The composition comprises an organosiloxane polymer a), a photobase generator b), and an organic solvent c).

  本发明涉及一种用于制备具有高强度、耐磨性和优异的阻隔性能的保护膜的组合物，通过低温硬化制备的保护膜，包括该组合物的基材以及包括该组合物的部件或器件。该组合物包括有机硅聚合物a)、光酸生成剂b)和有机溶剂c)。
• METHOD OF FORMING PATTERN AND COMPOSITION FOR FORMING OF ORGANIC THIN-FILM FOR USE THEREIN
  申请人：Shimizu Daisuke

  公开号：US20100233635A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A method for forming a pattern contains (1) a step of forming an underlayer film containing (A) a radiation-sensitive acid generator capable of generating an acid upon exposure to radiation rays or (B) a radiation-sensitive base generator capable of generating a base upon exposure to radiation rays on a substrate; (2) a step of irradiating the underlayer film with radiation rays through a mask with a predetermined pattern to obtain an exposed underlayer film portion having been selectively exposed through the predetermined pattern; (3) a step of forming (C) an organic thin film on the underlayer film so as to attain chemical bonding of the exposed underlayer film portion with the organic thin-film formed on the exposed underlayer film portion; and (4) a step of removing the organic thin film formed on areas of the underlayer film other than the exposed underlayer film portion.

  一种形成图案的方法包括：（1）在基板上形成一个底层薄膜，该底层薄膜包含（A）一种辐射敏感的酸发生剂，能够在辐射射线的作用下产生酸，或者（B）一种辐射敏感的碱发生剂，能够在辐射射线的作用下产生碱；（2）通过一个预定图案的掩模，用辐射射线照射底层薄膜，以获得已通过预定图案选择性暴露的底层薄膜部分；（3）在底层薄膜上形成一层有机薄膜，以实现暴露的底层薄膜部分与形成在暴露的底层薄膜部分上的有机薄膜的化学键合；（4）去除除暴露的底层薄膜部分外的底层薄膜区域上形成的有机薄膜。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ADHESION ENHANCER
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1909142A1

  公开（公告）日：2008-04-09

  The present invention provides a photosensitive resin composition comprising (a) an alkali-soluble resin, (b) a silicon compound having a secondary aromatic amino group and an alkoxy group, and (c) at least one selected from a photopolymerization initiator, a photo acid generator and a photo base generator. According to the present invention, it is possible to obtain a photosensitive resin composition which remarkably enhances the adhesion property with a substrate after curing without deteriorating storage stability of a solution, and does not cause peeling of a fine pattern even upon development.

  本发明提供了一种光敏树脂组合物，它包含(a)碱溶性树脂，(b)具有仲芳香族氨基和烷氧基的硅化合物，以及(c)至少一种选自光聚合引发剂、光酸发生剂和光碱发生剂的物质。根据本发明，可以获得一种光敏树脂组合物，它在固化后可显著提高与基底的粘合性，而不会降低溶液的储存稳定性，即使在显影后也不会导致精细图案剥离。
• PHOTOCURABLE COMPOSITION
  申请人：Cemedine Co., Ltd.

  公开号：EP3023462A1

  公开（公告）日：2016-05-25

  A rapid-curing photocurable composition exerting excellent adhesion performance even with a low cumulative light quantity and being curable in a short time, thus ensuring excellent workability, is provided. A photocurable composition is made to includes:(A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer; (B) a photobase generator; and (C1) a silicon compound having an Si-F bond and/or (C2) one or more fluorine-based compounds selected from the group consisting of boron trifluoride, a boron trifluoride complex, a fluorinating agent, and an alkali metal salt of a polyfluoro compound. The (B) photobase generator is preferably a photolatent tertiary amine.

  本发明提供了一种快速固化光固化组合物，该组合物即使在累积光量较低的情况下也能发挥出色的粘合性能，并能在短时间内固化，从而确保出色的施工性能。光固化组合物包括：(A) 可交联的含硅基团的有机聚合物；(B) 光基发生器；以及 (C1) 具有 Si-F 键的硅化合物和/或 (C2) 一种或多种氟基化合物，这些化合物选自由三氟化硼、三氟化硼络合物、氟化剂和多氟化合物的碱金属盐组成的组。(B)光碱发生器最好是具有光惰性的叔胺。
• PHOTOCURABLE COMPOSITION HAVING ADHESIVE PROPERTIES
  申请人：Cemedine Co., Ltd.

  公开号：EP3081612B1

  公开（公告）日：2018-11-14