5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoyl chloride | 1375158-41-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 酰卤
• 英文名称: 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoyl chloride
• 英文别名: 5-Bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoyl chloride
• CAS: 1375158-41-0
• 化学式: C₅H₄BrClF₄O
• 分子量: 271.437
• InChiKey: FSQLAHNTXMNMPI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  166.1±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.755±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoyl chloride 在 吡啶 、 sodium dithionite 、 双氧水 、 碳酸氢钠 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 82.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Lactone photoacid generators and resins and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了含有新的内酯类光酸发生剂化合物（“PAGs”）和包含这种PAG化合物的光刻胶组合物。这些光刻胶组合物在电子器件的制造中有用。

  公开号：

  EP2452941A1
• 作为产物：
  描述：

  5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸 在 草酰氯 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoyl chloride
  参考文献：
  名称：

  光酸产生单体、自其衍生的聚合物、包括所述聚合物的光致抗蚀剂组合物

  摘要：

  一种单体具有以下结构：其中R为包含可聚合碳‑碳双键或碳‑碳三键的有机基团；X和Y在每次出现时独立地为氢或非氢取代基；EWG1和EWG2在每次出现时独立地为拉电子基团；p为0、1、2、3或4；n为1、2、3或4；且M+为有机阳离子。由单体制备的聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分。

  公开号：

  CN107129448B

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130171567A1

  公开（公告）日：2013-07-04

  A photoacid generator includes those of formula (I): wherein each R a in formula 1 is independently H, F, a C 1-10 nonfluorinated organic group, C 1-10 fluorinated organic group, or a combination comprising at least one of the foregoing, provided at least one R a is F or a C 1-10 fluorinated organic group, the C 1-10 fluorinated and nonfluorinated organic groups each optionally comprising O, S, N, or a combination comprising at least one of the foregoing heteroatoms; L 1 is a linking group comprising a heteroatom comprising O, S, N, F, or a combination comprising at least one of the foregoing; G + is an onium salt of the formula (II): wherein in formula (II), X is S or I, each R 0 is independently C 1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C 3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C 4-30 aryl group; or a combination comprising at least one of the foregoing, provided at least one R 0 is substituted where each R 0 is a C 6 monocyclic aryl group, and wherein when X is I, a is 2, and where X is S, a is 3, p is 0 or 1, and q is an integer of from 1 to 10.

  一种光酸发生剂包括以下公式(I)中的化合物：其中，每个公式1中的Rai独立地为H、F、C1-10非氟化有机基团、C1-10氟化有机基团或包含上述至少一种的组合物，至少一个Rai为F或C1-10氟化有机基团，C1-10氟化和非氟化有机基团各自可以包含O、S、N或包含上述至少一种杂原子的组合物；L1是一个连接基团，包括一个包含O、S、N、F或包含上述至少一种的杂原子；G+是公式(II)的阳离子盐：其中，在公式(II)中，X为S或I，每个R0独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含上述至少一种的组合物，至少一个R0被取代，每个R0为C6单环芳基，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3，p为0或1，q为1到10的整数。
• LACTONE PHOTOACID GENERATORS AND RESINS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：AQAD Emad

  公开号：US20120129104A1

  公开（公告）日：2012-05-24

  New lactone-containing photoacid generator compounds (“PAGs”) and photoresist compositions that comprise such PAG compounds are provided. These photoresist compositions are useful in the manufacture of electronic devices

  提供了新的含有内酯的光酸发生剂化合物（“PAGs”）和包含这种PAG化合物的光阻组合物。这些光阻组合物在电子器件的制造中非常有用。
• Photoacid generator and photoresist comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US08956799B2

  公开（公告）日：2015-02-17

  A photoacid generator includes those of formula (I): wherein each Ra in formula 1 is independently H, F, a C1-10 nonfluorinated organic group, C1-10 fluorinated organic group, or a combination comprising at least one of the foregoing, provided at least one Ra is F or a C1-10 fluorinated organic group, the C1-10 fluorinated and nonfluorinated organic groups each optionally comprising O, S, N, or a combination comprising at least one of the foregoing heteroatoms; L1 is a linking group comprising a heteroatom comprising O, S, N, F, or a combination comprising at least one of the foregoing; G+ is an onium salt of the formula (II): wherein in formula (II), X is S or I, each R0 is independently C1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C4-30 aryl group; or a combination comprising at least one of the foregoing, provided at least one R0 is substituted where each R0 is a C6 monocyclic aryl group, and wherein when X is I, a is 2, and where X is S, a is 3, p is 0 or 1, and q is an integer of from 1 to 10.

  一种光酸发生剂包括以下化学式（I）所示的物质：其中化学式1中的每个Ra独立地为H、F、C1-10非氟有机基团、C1-10氟有机基团或包含上述至少一种的组合物，但至少一个Ra为F或C1-10氟有机基团，C1-10氟和非氟有机基团均可包含O、S、N或上述至少一种杂原子的组合物；L1为包含O、S、N、F或上述至少一种的杂原子的连接基团；G+为下式（II）的阳离子盐：其中在式（II）中，X为S或I，每个R0独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含上述至少一种的组合物，但至少一个R0为取代基，其中每个R0为C6单环芳基，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3，p为0或1，q为1至10的整数。
• PHOTOACID-GENERATING MONOMER, POLYMER DERIVED THEREFROM, PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE POLYMER, AND METHOD OF FORMING A PHOTORESIST RELIEF IMAGE USING THE PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20170248844A1

  公开（公告）日：2017-08-31

  A monomer has the structure wherein R is an organic group comprising a polymerizable carbon-carbon double bond or carbon-carbon triple bond; X and Y are independently at each occurrence hydrogen or a non-hydrogen substituent; EWG1 and EWG2 are independently at each occurrence an electron-withdrawing group; p is 0, 1, 2, 3, or 4; n is 1, 2, 3, or 4; and M + is an organic cation. A polymer prepared from monomer is useful as a component of a photoresist composition.
• US8956799B2
  申请人：——

  公开号：US8956799B2

  公开（公告）日：2015-02-17