1-(1-ethylspiro[4.4]nonyl)methacrylate | 1256490-94-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-(1-ethylspiro[4.4]nonyl)methacrylate
• 英文别名: 1-(1-ethylspiro[4.4]nonyl) methacrylate；(4-Ethylspiro[4.4]nonan-4-yl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1256490-94-4
• 化学式: C₁₅H₂₄O₂
• 分子量: 236.354
• InChiKey: RWSIYGBBLMBJSZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  spiro[4.4]nonan-1-one 在 4-二甲氨基吡啶 、 lithium 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙腈 为溶剂， 生成 1-(1-ethylspiro[4.4]nonyl)methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Acid-labile ester monomer having spirocyclic structure, polymer, resist composition, and patterning process

  摘要：

  一种酸敏感酯单体，其为螺环结构，化学式为（1），其中Z为具有可聚合双键的一价基团，X为形成环戊烷、环己烷或去甲基环辛烷环的二价基团，R2为H或一价碳氢基团，R3和R4为H或一价碳氢基团，或者R3和R4结合在一起，代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的光刻胶组合物。

  公开号：

  US08791288B2

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• US8791288B2
  申请人：——

  公开号：US8791288B2

  公开（公告）日：2014-07-29
• Acid-labile ester monomer having spirocyclic structure, polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US08791288B2

  公开（公告）日：2014-07-29

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R2 is H or monovalent hydrocarbon, R3 and R4 are H or monovalent hydrocarbon, or R3 and R4, taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体，其为螺环结构，化学式为（1），其中Z为具有可聚合双键的一价基团，X为形成环戊烷、环己烷或去甲基环辛烷环的二价基团，R2为H或一价碳氢基团，R3和R4为H或一价碳氢基团，或者R3和R4结合在一起，代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的光刻胶组合物。