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甲氧基铜 | 76890-98-7

中文名称
甲氧基铜
中文别名
——
英文名称
copper(II) methoxide
英文别名
Copper;methanolate
甲氧基铜化学式
CAS
76890-98-7
化学式
C2H6CuO2
mdl
——
分子量
125.614
InChiKey
AYNQPTYHFBBKFC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    206 °C (dec.)(lit.)
  • 稳定性/保质期:
    正常条件下稳定,应远离氧化剂。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -2.05
  • 重原子数:
    5
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    46.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • TSCA:
    No
  • 危险品标志:
    F,T,Xi
  • 安全说明:
    S26,S27,S36/37/39
  • 危险类别码:
    R36/37/38
  • WGK Germany:
    3

反应信息

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文献信息

  • COATING LIQUID, METAL COMPOUND FILM FORMED BY COATING LIQUID, AND FORMING METHOD THEREOF
    申请人:Cordonier Christopher
    公开号:US20090324963A1
    公开(公告)日:2009-12-31
    A coating liquid including one or more of metal complexes selected from a metal complex A represented by Chemical Formula 1, a metal complex B represented by Chemical Formula 2, and a metal complex C represented by Chemical Formula 3. M in Chemical Formula 1, Chemical Formula 2 and Chemical Formula 3 represents a metal ion. Each of X 1 -X 4 in Chemical Formula 1, Chemical Formula 2 and Chemical Formula 3 is one of O, NH, CO 2 and S. Each of Y 1 -Y 8 in Chemical Formula 1 and Y 1 -Y 4 in Chemical Formula 3 is either CH or N. Each of Z 1 -Z 3 in Chemical Formula 2 and Chemical Formula 3 and Z 4 -Z 6 in Chemical Formula 2 is one selected from a group of O, NH and S, and two selected from a group of CH and N. L in Chemical Formula 1, Chemical Formula 2 and Chemical Formula 3 represents an axial ligand. k in Chemical Formula 1, Chemical Formula 2 and Chemical Formula 3 represents a valence of each of the metal complexes and is equal to a sum of electric charges of M, X 1 -X 4 and L.
    一种涂层液体,包括从化学式1表示的金属配合物A、从化学式2表示的金属配合物B和从化学式3表示的金属配合物C中选择的一种或多种金属配合物。化学式1、化学式2和化学式3中的M代表金属离子。化学式1、化学式2和化学式3中的X1-X4分别是O、NH、CO2和S中的一种。化学式1中的Y1-Y8和化学式3中的Y1-Y4是CH或N。化学式2和化学式3中的Z1-Z3以及化学式2中的Z4-Z6是从O、NH和S组成的一组中选择的一种,从CH和N组成的一组中选择的两种。化学式1、化学式2和化学式3中的L表示轴向配体。化学式1、化学式2和化学式3中的k表示每个金属配合物的价数,等于M、X1-X4和L的电荷之和。
  • Coating liquid, metal compound film formed by coating liquid, and forming method thereof
    申请人:Cordonier Christopher
    公开号:US08445118B2
    公开(公告)日:2013-05-21
    A coating liquid including one or more of metal complexes selected from a metal complex A represented by Chemical Formula 1, a metal complex B represented by Chemical Formula 2, and a metal complex C represented by Chemical Formula 3. M in Formula 1, 2 and 3 represents a metal ion. Each of X1-X4 in Formula 1, 2 and 3 is one of O, NH, CO2 and S. Each of Y1-Y8 in Formula 1 and Y1-Y4 in Formula 3 is either CH or N. Each of Z1-Z3 in Formula 2 and 3 and Z4-Z6 in Formula 2 is one selected from a group of O, NH and S, and two selected from a group of CH and N. L represents an axial ligand. k represents a valence of each of the metal complexes and is equal to a sum of electric charges of M, X1-X4 and L.
    一种涂层液,包括从化学式1表示的金属络合物A,化学式2表示的金属络合物B和化学式3表示的金属络合物C中选择的一个或多个金属络合物。在公式1,2和3中,M代表金属离子。在公式1,2和3中的每个X1-X4都是O,NH,CO2和S中的一个。在公式1中,Y1-Y8和公式3中的Y1-Y4都是CH或N。在公式2和3中的Z1-Z3和公式2中的Z4-Z6中的每个Z1-Z3都是从O,NH和S的一组中选择的一个,而Z4-Z6中的两个是从CH和N的一组中选择的。L代表轴向配体。k代表每个金属络合物的价数,等于M,X1-X4和L的电荷之和。
  • [EN] ALKOXIDE COMPOUND, THIN FILM-FORMING MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM<br/>[FR] COMPOSÉ ALCOXYDE, MATÉRIAU DE FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE MINCE<br/>[JA] アルコキシド化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
    申请人:ADEKA CORP
    公开号:WO2022009695A1
    公开(公告)日:2022-01-13
    本発明は、下記一般式(1)で表されるアルコキシド化合物、該化合物を含む薄膜形成用材料及び薄膜の製造方法を提供する。 (式中、R1及びR2は、各々、独立に、水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基又は、炭素原子数1~5のフッ素原子含有アルキル基を表し、R3及びR4は、各々、独立に、炭素原子数1~5のアルキル基又は、炭素原子数1~5のフッ素原子含有アルキル基を表し、R5は水素原子、フッ素原子を含有する基又は炭素原子数1~5のアルキル基を表し、R6はフッ素原子を含有する基を表し、Mは、金属原子又は半金属原子を表し、nは、Mで表される原子の価数を表す。但し、Mが銅原子である場合、R3及びR4は、各々、独立に、炭素原子数1~2のアルキル基を表し、R5は水素原子を表す。)
    本发明提供了一种由下式(1)表示的醇酸盐化合物、包含该化合物的薄膜形成材料以及制备薄膜的方法。(其中,R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1-5的烷基或含有1-5个氟原子的烷基,R3和R4各自独立地表示碳原子数为1-5的烷基或含有1-5个氟原子的烷基,R5表示氢原子、含有氟原子的基团或碳原子数为1-5的烷基,R6表示含有氟原子的基团,M表示金属原子或半金属原子,n表示由M表示的原子的价数。但是,如果M是铜原子,则R3和R4各自独立地表示碳原子数为1-2的烷基,R5表示氢原子。)
  • Ultrasmall Cu<sub>3</sub>N Nanoparticles: Surfactant-Free Solution-Phase Synthesis, Nitridation Mechanism, and Application for Lithium Storage
    作者:Rupali Deshmukh、Guobo Zeng、Elena Tervoort、Malwina Staniuk、David Wood、Markus Niederberger
    DOI:10.1021/acs.chemmater.5b03444
    日期:2015.12.22
    New chemical pathways are of fundamental interest for materials synthesis. Here, we report a novel surfactant-free, solution-phase, low-temperature route to crystalline, ultrasmall (∼2 nm) Cu3N nanoparticles via a one-step reaction between copper(II) methoxide and benzylamine. We propose a reaction mechanism for Cu3N formation based on the gas chromatography–mass spectrometry (GC–MS) analysis of the
    新的化学途径是材料合成的基本兴趣。在这里,我们报告了一种新的无表面活性剂,溶液相的低温路线,该路线是通过甲醇(II)铜与苄胺之间的一步反应制得的结晶超小(〜2 nm)Cu 3 N纳米颗粒。我们基于有机反应副产物的气相色谱-质谱分析(GC-MS)分析,提出了形成Cu 3 N的反应机理。反应途径涉及由苄胺还原的Cu(II)和Cu(I),在原位生成的氨,最后,铜(I)和氨之间的反应,以形成铜3 N.我们测试了的Cu 3 Ñ纳米颗粒作为锂离子电池(LIB)的负极材料。根据循环伏安法,3 N纳米粒子迅速经历了相转变为Cu 2 O,但随后的150个循环中以1 A / g稳定地传递了约290 mAh / g的容量。
  • BHATTACHARYA, AJIT K.
    作者:BHATTACHARYA, AJIT K.
    DOI:——
    日期:——
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