3-乙基-7-氧杂双环(4.1.0)庚烷 | 4247-23-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧杂环己烷
• 中文名称: 3-乙基-7-氧杂双环(4.1.0)庚烷
• 中文别名: 4H-1-苯并吡喃-4-酮,6-氨基-2-(4-氨基苯基)-7-羟基-(9CI)
• 英文名称: ethylcyclohexene oxide
• 英文别名: 4-Ethylcyclohexene oxide；3-ethyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane
• CAS: 4247-23-8
• 化学式: C₈H₁₄O
• 分子量: 126.199
• InChiKey: BCWMBWSIQNQIHR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,2-环氧-4-乙烯基环己烷 在 2,6-bis[1-(2,6-diisopropylphenylimino)ethyl]pyridine cobalt(II) dichloride 、 甲基二乙氧基硅烷 、 三乙基硼氢化钠 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 5.0h， 以95%的产率得到3-乙基-7-氧杂双环(4.1.0)庚烷
  参考文献：
  名称：

  （EtO）2 Si（Me）H作为化学计量还原剂的钴的选择性催化催化末端烯烃和炔烃的还原

  摘要：

  在尝试实现β-乙烯基三甲基甲硅烷基烯醇醚的共催化氢化硅烷化时，我们发现，取决于硅烷，溶剂和还原钴催化剂的生成方法，烯烃可以高效，选择性地还原或氢化硅烷化取得成就。本文讨论了这种还原反应，尽管在该领域有大量的研究活动，但尚未见报道。该反应使用由2当量的NaEt 3 BH活化的空气稳定的[2,6-双（芳基吡啶基吡啶）吡啶] CoCl 2作为催化剂（0.001-0.05当量）和（EtO）2SiMeH作为氢源，最好在室温下在甲苯中运行，并且对还原简单的未取代的1-烯烃和1,3-和1,4-二烯，β-乙烯基酮和甲硅烷氧基二烯。该反应耐受各种官能团，例如溴化物，醇，胺，羰基，二或三取代的双键和水。通过使用化学计量的硅烷，可以将末端炔烃高度选择性地还原为烯烃或烷烃。初步的机理研究表明，该反应在硅烷中是化学计量的，产物中的两个氢均来自硅烷。

  DOI：

  10.1021/acscatal.6b02272

文献信息

• POLYSILOXANE COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
  申请人：Ootake Nobumasa

  公开号：US20110178313A1

  公开（公告）日：2011-07-21

  A polysiloxane represented by the formula (1) or (2): where R, R 1 , R 2 , m and n are defined in the specification.

  由公式（1）或（2）表示的聚硅氧烷：其中R、R1、R2、m和n在规范中定义。
• Silicone compounds and compositions thereof for the treatment of amino acid based substrates
  申请人：Momentive Performance Materials GmbH

  公开号：US10266656B2

  公开（公告）日：2019-04-23

  Organofunctional polyorganosiloxanes, their use in cosmetic compositions, method for treating amino acid based substrates with organofunctional polyorganosiloxanes, compositions comprising the organofunctional polyorganosiloxanes useful for hair straightening and shaping as well as hair coloration and hair color retention.

  有机官能聚有机硅氧烷及其在化妆品组合物中的使用，用有机官能聚有机硅氧烷处理基于氨基酸的基质的方法，包含有机官能聚有机硅氧烷的组合物用于直发和造型以及染发和保持染发颜色。
• (Meth)acrylate derivative, polymer and photoresist composition having lactone structure, and method for forming pattern by using it
  申请人：Maeda Katsumi

  公开号：US20070218403A1

  公开（公告）日：2007-09-20

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本文披露了一种光刻用220纳米或以下光的光阻材料，包括至少一种由以下式子（2）表示的聚合物和用于曝光生成酸的光酸发生剂： 其中，R1、R2、R3和R5分别是氢原子或甲基基团；R4是酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团、具有酸敏感基团的7至13个碳原子的脂环烃基团、具有3至13个碳原子的环烃基团、具有环氧基团；R6是氢原子、具有1至12个碳原子的碳氢基团或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，具有羧基；x、y和z是可选值，满足x+y+z=1，0
• PATTERNABLE LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIALS AND THEIR USE IN ULSI INTERCONNECTION
  申请人：Lin Qinghuang

  公开号：US20080063880A1

  公开（公告）日：2008-03-13

  The present invention relates to ultra-large scale integrated (ULSI) interconnect structures, and more particularly to patternable low dielectric constant (low-k) materials suitable for use in ULSI interconnect structures. The patternable low-k dielectrics disclosed herein are functionalized polymers that having one or more acid-sensitive imageable functional groups.

  本发明涉及超大规模集成（ULSI）互连结构，更具体地涉及适用于ULSI互连结构的可图案化低介电常数（低-k）材料。本发明所披露的可图案化低-k介电材料是具有一种或多种酸敏感可成像功能基团的功能化聚合物。
• Cyclohexene Oxide Compound Having Cyclohexyl Group or Long-Chain Alkyl Group, and Use Thereof
  申请人：Kato Hisao

  公开号：US20080108725A1

  公开（公告）日：2008-05-08

  An object of the present invention is to provide a cyclohexene oxide compound that gives a cured resin having a low refractive index and excellent transparency, curability, mold release properties, and mechanical properties, and that can be used as a component of an actinic radiation curing composition and/or heat curing composition. The present invention is a cyclohexene oxide compound having a cyclohexyl group or a long-chain alkyl group, represented by Formula (1) below (in Formula (1), A denotes a cyclohexyl group, Formula (2) below, or an optionally branched alkyl group having 8 to 16 carbons) (in Formula (2), R 1 denotes a hydrogen atom or an optionally branched alkyl group having 1 to 4 carbons and R 2 denotes a hydrogen atom or an optionally branched alkyl group having 1 to 4 carbons).

  本发明的目的是提供一种环己烯氧化物化合物，该化合物能够产生具有低折射率和优异透明度、可固化性、模具脱模性和机械性能的固化树脂，并可用作光敏辐射固化组合物和/或热固化组合物的组分。本发明是一种具有环己基或长链烷基的环己烯氧化物化合物，由下式（1）表示（在式（1）中，A表示环己基、下式（2）或具有8至16个碳的可选支链烷基）（在式（2）中，R1表示氢原子或具有1至4个碳的可选支链烷基，R2表示氢原子或具有1至4个碳的可选支链烷基）。