2-[2-(Adamantane-1-carbonyloxy)ethoxy]-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate;triethylazanium | 1161917-46-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-[2-(Adamantane-1-carbonyloxy)ethoxy]-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate;triethylazanium
• 英文别名: 2-[2-(adamantane-1-carbonyloxy)ethoxy]-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate;triethylazanium
• CAS: 1161917-46-9
• 化学式: C₆H₁₅N*C₁₅H₂₀F₂O₇S
• 分子量: 483.574
• InChiKey: LXCQELKPKZDCIO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.12
• 重原子数：
  32
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  119
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-[2-(Adamantane-1-carbonyloxy)ethoxy]-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate;triethylazanium 、 4-甲基苯基二苯基溴化ul 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 1.0h， 以81.5%的产率得到diphenyl(p-tolyl)sulfonium 2-(2-((adamantane-1-carbonyl)oxy)ethoxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition and method of forming a resist pattern using the same

  摘要：

  公开号：

  EP2093213B1
• 作为产物：
  描述：

  1,1-difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethane-1-sodium sulfonate 、 金刚烷酰氯 、 三乙胺 以 乙腈 为溶剂， 反应 20.0h， 以31.55%的产率得到2-[2-(Adamantane-1-carbonyloxy)ethoxy]-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate;triethylazanium
  参考文献：
  名称：

  光致产酸剂及其制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种光致产酸剂及其制备方法，属于有机合成技术领域。所述光致产酸剂的结构通式如下：其中，R1为脂环烃基、R2为亚烷基、R3为氢或烷基。光致产酸剂的制备方法为由化合物Ⅲ与化合物Ⅱ经离子交换在第一溶剂中反应，纯化得到光致产酸剂Ⅰ。本发明合成一种新的光致产酸剂且合成方法收率高、纯度高。

  公开号：

  CN113912520A

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：HADA Hideo

  公开号：US20120264061A1

  公开（公告）日：2012-10-18

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) including a compound represented by (b1-1), a compound represented by (b1-1′) and/or a compound represented by (b1-1″) (R 1 ″-R 3 ″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R 1 ″-R 3 ″ represents a substituted aryl group being substituted with a group represented by (b1-1-0), and two of R 1 ″-R 3 ″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a C 3 -C 30 hydrocarbon group; Q 1 represents a carbonyl group-containing divalent linking group; X 10 represents a C 1 -C 30 hydrocarbon group; Q 3 represents a single bond or a divalent linking group; Y 10 represents —C(═O)— or —SO 2 —; Y 11 represents a C 1 -C 10 alkyl group or a fluorinated alkyl group: Q 2 represents a single bond or an alkylene group; and W represents a C 2 -C 10 alkylene group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。
• Positive resist composition and method of forming a resist pattern using the same
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：EP2093213B1

  公开（公告）日：2017-10-04
• 光致产酸剂及其制备方法
  申请人：江苏汉拓光学材料有限公司

  公开号：CN113912520A

  公开（公告）日：2022-01-11

  本发明公开了一种光致产酸剂及其制备方法，属于有机合成技术领域。所述光致产酸剂的结构通式如下：其中，R1为脂环烃基、R2为亚烷基、R3为氢或烷基。光致产酸剂的制备方法为由化合物Ⅲ与化合物Ⅱ经离子交换在第一溶剂中反应，纯化得到光致产酸剂Ⅰ。本发明合成一种新的光致产酸剂且合成方法收率高、纯度高。