N-(2,4-dimethylpentan-3-yl)pivalamide | 1254485-74-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N-(2,4-dimethylpentan-3-yl)pivalamide
• 英文别名: N-(2,4-dimethylpentan-3-yl)-2,2-dimethylpropanamide
• CAS: 1254485-74-9
• 化学式: C₁₂H₂₅NO
• 分子量: 199.337
• InChiKey: RUIVCHOJTXHBIE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  29.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-叔丁基特戊酰胺 、 3-戊胺,2,4-二甲基- 、 三乙胺 、 三甲基乙酰氯 65.0 ℃ 、889.26 Pa 条件下， 以afforded LtBu,CHiPr2H as white crystalline solid (19.53 g, 98%) upon sublimation at 65° C./0.05 Torr的产率得到N-(2,4-dimethylpentan-3-yl)pivalamide
  参考文献：
  名称：

  THERMALLY STABLE VOLATILE FILM PRECURSORS

  摘要：

  提供了一种用于原子层沉积薄膜的前体。该化合物的化学式为MxLy，其中M是金属，L是衍生自酰肼的配体或酰胺基配体。还提供了一种使用前体形成薄膜的过程。

  公开号：

  US20120058270A1

文献信息

• [EN] THERMALLY STABLE VOLATILE FILM PRECURSORS<br/>[FR] PRÉCURSEURS DE FILM MINCE VOLATILS ET THERMIQUEMENT STABLES
  申请人：UNIV WAYNE STATE

  公开号：WO2010132871A1

  公开（公告）日：2010-11-18

  A precursor for the deposition of a thin film by atomic layer deposition is provided. The compound has the formula MxLy where M is a metal and L is an amidrazone-derived ligand or an amidate-derived ligand. A process of forming a thin film using the precursors is also provided.

  提供了一种用原子层沉积法沉积薄膜的前体。该化合物的化学式为MxLy，其中M是金属，L是一种来自酰胺脲衍生配体或酰胺酸衍生配体的配体。还提供了一种使用这些前体形成薄膜的过程。
• Thermally stable volatile film precursors
  申请人：Winter Charles H.

  公开号：US08962876B2

  公开（公告）日：2015-02-24

  A precursor for the deposition of a thin film by atomic layer deposition is provided. The compound has the formula MxLy where M is a metal and L is an amidrazone-derived ligand or an amidate-derived ligand. A process of forming a thin film using the precursors is also provided.

  提供了一种用于原子层沉积薄膜的前体。该化合物的化学式为MxLy，其中M是金属，L是取自酰胺酮衍生的配体或酰胺衍生的配体。还提供了使用这些前体形成薄膜的过程。
• US8962876B2
  申请人：——

  公开号：US8962876B2

  公开（公告）日：2015-02-24