介绍了用于光学显微镜,激发发射损耗(STED)和基态损耗(GSDIM)超分辨率显微镜的远红光荧光
染料。
氟化
硅-
罗丹明(的SiRF
染料)和
磷酸化的恶嗪具有吸收和发射最大值在约λ ≈660和680nm处分别具有高的耐光性,并且在
水中大的荧光量子产率。描述了将三个芳族
氟原子和非常规的共轭/增溶间隔基引入
硅-若丹明骨架中的高产合成途径。无需额外的稠环或双键即可实现SiRF
染料的红移。结果,分子大小和分子量保持很小(<600 Da)。λ的使用= 800 nm STED光束代替了常用的λ = 750–775 nm光束,可提供出色的成像性能,并抑制了SiRF和恶嗪染料的再激发。详细讨论了这些新的远红色发射染料的光物理性质和免疫
荧光成像性能(光漂白,光学分辨率和关闭行为),并将其与一些具有类似光谱特性的成熟荧光团进行了比较。