1-Trimethylsilyl-2,2-di-tert.-butylethyl-Radikal | 43008-12-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: 1-Trimethylsilyl-2,2-di-tert.-butylethyl-Radikal
• CAS: 43008-12-4
• 化学式: C₁₃H₂₉Si
• 分子量: 213.459
• InChiKey: QLXVDZDOAUTGLP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.99
• 重原子数：
  14.0
• 可旋转键数：
  2.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,4-bis(trimethylsilyl)-1,4-dihydronaphthalene 、 2-(叔丁基)-3,3-二甲基-1-丁烯 生成 1-Trimethylsilyl-2,2-di-tert.-butylethyl-Radikal
  参考文献：
  名称：

  NAKADAIRA YASUHIRO; OTSUKA TATSUO; SAKURAI HIDEKI, TETRAHEDRON LETT., 1981, 22, NO 25, 2417-2420

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Chemistry of organosilicon compounds. 178. Electron spin resonance and chemical studies on the 6-(trimethylsilyl)cyclohexadienyl and related radicals
  作者：Mitsuo Kira、Hisashi Sugiyama、Hideki Sakurai

  DOI：10.1021/ja00359a013

  日期：1983.10

  Spectres RPE des radicaux t-butyl-6-, trimethylsilyl-6- et trimethylgermyl-6 et deuterio-6 cyclohexadienyles et discussion de la relation entre les parametres RPE et la structure de ces radicaux

  Specters RPE des radicaux t-butyl-6-, trimethylsilyl-6- et trimethylgermyl-6 et deuterio-6 cyclohexadinyles et Discussion de la relationship entre les parametres RPE et la structure de ces radicaux
• Photochemical generation of tetramethyldisilene and photoinduced 1,2-silyl-migration
  作者：Yasuhiro Nakadaira、Tatsuo Otsuka、Hideki Sakurai

  DOI：10.1016/s0040-4039(01)82924-5

  日期：1981.1

  Described herein is the first clear evidence of the photochemical generation of tetramethyldisilene which can be efficiently trapped by dienes. An intriguing 1,2-photo-induced silyl migration is also reported.

  本文描述的是可以被二烯有效捕获的四甲基二ilene的光化学生成的第一个明确证据。还报道了令人着迷的1，2-光诱导的甲硅烷基迁移。
• SAKURAI, HIDEKI;KIRA, MITSUO;SUGIYAMA, HISASHI, CHEM. LETT., 1983, N 4, 599-602
  作者：SAKURAI, HIDEKI、KIRA, MITSUO、SUGIYAMA, HISASHI

  DOI：——

  日期：——