Methyl 3-(2-hydroxypropan-2-yl)adamantane-1-carboxylate | 208841-32-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Methyl 3-(2-hydroxypropan-2-yl)adamantane-1-carboxylate
• CAS: 208841-32-1
• 化学式: C₁₅H₂₄O₃
• 分子量: 252.354
• InChiKey: FHSOLNCLEHCQEJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.93
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Methyl 3-(2-hydroxypropan-2-yl)adamantane-1-carboxylate 在 乙酸酐 作用下， 反应 96.0h， 以70%的产率得到methyl 3-prop-1-en-2-yladamantane-1-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  搜寻气相中偶电子有机负离子的电荷遥控反应。衍生自双取代金刚烷的阴离子

  摘要：

  为了揭示3-取代基的电荷-远程碎裂，已经研究了碰撞引发的3-取代的金刚烷羧酸根阴离子的分解。选择3-取代基使得它不能接近阴离子位点，因此该取代基的任何断裂应独立于带电中心进行。（i）从3-CH（Et）2取代基观察到电荷远程自由基损失[例如Et˙和˙CH（Et）2损失]，但是经典的Adams-Gross乙烯和二氢的远程电荷损失并没有观测到的。（ii）从3-C（CD 3）2（OMe）取代基观察到MeOD的电荷远程损失，以及许多电荷远程自由基损失[例如Me˙，MeO˙和˙C（CD 3）2（OMe）]。（iii）对于羧酸根阴离子及其相应的阳离子，3-取代基C（CD 3）2（OCH O）均经历HCO 2 D的电荷远程损失，这是一种类似于自由基的McLafferty重排和中性反应的中性反应。脂肪族酮的Norrish II双自由基重排。（ⅳ）MEO和Co的电荷远程自由基损失2我从一个3-CO发生2我取代基。

  DOI：

  10.1039/a708654g
• 作为产物：
  描述：

  甲基碘化镁 、 1,3-金刚烷二羧酸二甲酯 以 乙醚 为溶剂， 以92%的产率得到Methyl 3-(2-hydroxypropan-2-yl)adamantane-1-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  搜寻气相中偶电子有机负离子的电荷遥控反应。衍生自双取代金刚烷的阴离子

  摘要：

  为了揭示3-取代基的电荷-远程碎裂，已经研究了碰撞引发的3-取代的金刚烷羧酸根阴离子的分解。选择3-取代基使得它不能接近阴离子位点，因此该取代基的任何断裂应独立于带电中心进行。（i）从3-CH（Et）2取代基观察到电荷远程自由基损失[例如Et˙和˙CH（Et）2损失]，但是经典的Adams-Gross乙烯和二氢的远程电荷损失并没有观测到的。（ii）从3-C（CD 3）2（OMe）取代基观察到MeOD的电荷远程损失，以及许多电荷远程自由基损失[例如Me˙，MeO˙和˙C（CD 3）2（OMe）]。（iii）对于羧酸根阴离子及其相应的阳离子，3-取代基C（CD 3）2（OCH O）均经历HCO 2 D的电荷远程损失，这是一种类似于自由基的McLafferty重排和中性反应的中性反应。脂肪族酮的Norrish II双自由基重排。（ⅳ）MEO和Co的电荷远程自由基损失2我从一个3-CO发生2我取代基。

  DOI：

  10.1039/a708654g

文献信息

• ADAMANTANE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING SAME, POLYMER USING SAME AS STARTING MATERIAL, AND RESIN COMPOSITION
  申请人：Arai Yoshihisa

  公开号：US20110319584A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  Provided are an adamantane derivative represented by the following formula (1), a method for producing the same, a polymer containing an acrylate compound having the adamantane structure represented by formula (1) in a repeat unit, and a functional resin composition which contains the polymer, has excellent alkali developability and substrate adhesiveness, and can improve the resolution and the line edge roughness as a chemically amplified resist sensitive to far-ultraviolet rays represented by KrF excimer laser light, ArF excimer laser light, F 2 excimer laser light or EUV without spoiling fundamental properties thereof as a resist such as pattern forming properties, dry etching resistance, heat resistance and the like. In the formula, R 1 through R 3 , which may be the same or different, each represent a hydrogen atom, an alkyl group having a carbon number of 1 to 3, or a halogen-containing alkyl group; R 4 through R 8 , which may be the same or different, each represent an alkyl group having a carbon number of 1 to 3 or a halogen-containing alkyl group; X, which may be the same or different, represents a hydrogen atom, an alkyl group having a carbon number of 1 to 3, or a alkoxy group having a carbon number of 1 to 3; and n represents 14.

  提供了以下公式（1）所代表的金刚烷衍生物，以及制备该衍生物的方法，包含在重复单元中具有公式（1）所代表的金刚烷结构的丙烯酸酯化合物的聚合物，以及包含该聚合物的功能性树脂组成物。该组成物具有优异的碱性显影性和基板粘附性，作为化学增强的抗Far-UV线（KrF准分子激光光、ArF准分子激光光、F2准分子激光光或EUV）的敏化剂，可以提高分辨率和线边粗糙度，同时不破坏其作为抗性的基本性质，如图案形成性能，干法刻蚀抗性，耐热性等。在公式中，R1至R3，可以相同也可以不同，分别代表氢原子，碳数为1到3的烷基或含卤素的烷基；R4至R8，可以相同也可以不同，分别代表碳数为1到3的烷基或含卤素的烷基；X，可以相同也可以不同，代表氢原子，碳数为1到3的烷基或碳数为1到3的烷氧基；n代表14。
• US8598292B2
  申请人：——

  公开号：US8598292B2

  公开（公告）日：2013-12-03