2,2,5-Trimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione | 1215093-79-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2,5-Trimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione
• 英文别名: 5-[(4-ethenylphenyl)methyl]-2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione
• CAS: 1215093-79-0
• 化学式: C₁₆H₁₈O₄
• 分子量: 274.317
• InChiKey: WRGXYNOXYIBSIK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲基丙二酸亚异丙酯 、 4-氯甲基苯乙烯 在 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 2,2,5-Trimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione
  参考文献：
  名称：

  高效的表面中和和通过酮介导的交联和功能化增强的基材附着力

  摘要：

  平衡聚合物和基材之间的界面相互作用是确保嵌段共聚物光刻中纳米域垂直取向的最常用方法之一。尽管已经开发了许多技术来应对这一挑战，但仍需要一种通用的表面中和解决方案，该解决方案需要简单的合成，快速的处理时间，对基材的通用性，低密度的膜缺陷和良好的表面附着力。乙烯酮的化学结合了通过二聚作用的高效聚合物交联和通过与底物反应的表面粘附相结合的化学性质，非常适合应对这一挑战。烯酮的多种化学反应可通过Meldrum酸的后聚合来获得，可以通过受控的自由基聚合过程轻松地将其掺入共聚物中。此外，无需色谱法，一步就可以大规模合成迈德鲁姆的酸单体。几秒钟的处理时间，低缺陷密度，简单的合成程序以及良好的基材附着力使这些材料具有强大的吸引力，可作为坚固的嵌段共聚物中和层。

  DOI：

  10.1002/adfm.201201352

文献信息

• LOW OUTGASSING PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：DiPietro Richard A.

  公开号：US20100062368A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  Polymers for use in photoresist compositions include a repeat unit having a formula of: wherein Z represents a repeat unit of a polymer backbone; X is a linking group selected from the group consisting of alkylene, arylene, araalkylene, carbonyl, carboxyl, carboxyalkylene, oxy, oxyalkylene, and combinations thereof, and R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, and cycloalkyl groups with the proviso that X and R are not part of the same ring system. Also disclosed are processes for patterning a relief image of the photoresist composition, wherein the photoresist composition has an outgassing rate of less than 6.5E+14 molecules/cm 2 /s.

  用于光阻组合物的聚合物包括具有以下公式的重复单元：其中Z表示聚合物骨架的重复单元；X是从烷基，芳基，芳基烷基，羰基，羧基，羧基烷基，氧，氧烷基和它们的组合中选择的连接基团，而R是从氢，烷基，芳基和环烷基群中选择的，但X和R不是同一环系统的一部分。还公开了用于形成光阻组合物的浮雕图像的工艺，其中光阻组合物的放气速率小于6.5E + 14分子/厘米2/秒。
• ADHESIVE RESIN COMPOSITION, LAMINATE, AND SELF-STRIPPING METHOD
  申请人：MITSUI CHEMICALS TOHCELLO, INC.,

  公开号：US20140322474A1

  公开（公告）日：2014-10-30

  An adhesive resin composition of the present invention includes an expandable sticky polymer having a structure derived from a Meldrum's acid derivative, or a Meldrum's acid derivative represented by the following general formula (1) and an adhesive resin.

  本发明的粘合树脂组合物包括一种可膨胀的黏性聚合物，其结构源自Meldrum酸衍生物，或由以下通式（1）表示的Meldrum酸衍生物和粘合树脂组成。
• ADHESIVE RESIN COMPOSITION, LAMINATE BODY, AND SELF-PEELING METHOD
  申请人：Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd.

  公开号：EP2792725A1

  公开（公告）日：2014-10-22

  An adhesive resin composition of the present invention includes an expandable sticky polymer having a structure derived from a Meldrum's acid derivative, or a Meldrum's acid derivative represented by the following general formula (1) and an adhesive resin.

  本发明的粘合剂树脂组合物包括一种可膨胀的粘性聚合物，其结构来源于梅尔德伦酸衍生物，或由以下通式（1）表示的梅尔德伦酸衍生物和一种粘合剂树脂。
• METHOD OF MANUFACTURING NANOSTRUCTURE AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME
  申请人：Samsung Display Co., Ltd.

  公开号：US20140158664A1

  公开（公告）日：2014-06-12

  An approach is provided for manufacturing a nanostructure. A first thin film including a first block copolymer is formed on a substrate. A guide pattern is formed on the first thin film. A second thin film including a second block copolymer is formed between portions of the guide pattern. The second thin film is cured. The first block copolymer is a cylinder-type and the second block copolymer is a lamella-type.
• US7951525B2
  申请人：——

  公开号：US7951525B2

  公开（公告）日：2011-05-31