4-[(Methanesulfonyl)amino]cyclohexyl prop-2-enoate | 820972-52-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 4-[(Methanesulfonyl)amino]cyclohexyl prop-2-enoate
• 英文别名: [4-(methanesulfonamido)cyclohexyl] prop-2-enoate
• CAS: 820972-52-9
• 化学式: C₁₀H₁₇NO₄S
• 分子量: 247.31
• InChiKey: FNWYZEBVBHWXQG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  80.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-[(Methanesulfonyl)amino]cyclohexyl prop-2-enoate 、 环戊二烯 、 甲苯 在 silica gel 作用下， 反应 24.0h， 以obtaining 32.0 g of 4-[(methylsulfonyl)-amino]cyclohexyl 5-norbornene-2-carboxylate (yield 98%)的产率得到4-[(Methylsulfonyl)-amino]cyclohexyl 5-norbornene-2-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  Polymerizable ester having sulfonamide structure, polymer, resist composition and patterning process

  摘要：

  具有磺酰胺结构的新型酯类化合物可聚合成聚合物，在波长高达300纳米，特别是ArF准分子激光光下具有改善的透明度和干法蚀刻抗性。 包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，并易于使用电子束或深紫外线进行微图案化。

  公开号：

  US07285368B2

文献信息

• Polymerizable ester having sulfonamide structure, polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Watanabe Takeru

  公开号：US20050003303A1

  公开（公告）日：2005-01-06

  Novel ester compounds having a sulfonamide structure are polymerizable into polymers having improved transparency at wavelength of up to 300 nm, especially ArF excimer laser light, and dry etching resistance. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have a high resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  具有磺酰胺结构的新型酯化合物可聚合成聚合物，在波长高达300nm（特别是ArF准分子激光光）时具有改善的透明度和干法蚀刻抗性。包含这些聚合物的抗蚀剂组成物对高能辐射敏感，具有高分辨率，并适用于电子束或深紫外线微图案化。