双(2,5-二甲基苯基)甲醇 | 109397-59-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 双(2,5-二甲基苯基)甲醇
• 英文名称: bis(2,5-dimethylphenyl)methanol
• CAS: 109397-59-3
• 化学式: C₁₇H₂₀O
• mdl: MFCD16357846
• 分子量: 240.345
• InChiKey: WEZQZIJCQLSHKN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  380.8±11.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.035±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.294
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  双(2,5-二甲基苯基)甲醇 在 盐酸 、 二异丁基氢化铝 、 对甲苯磺酸 、 溶剂黄146 作用下， 以 二氯甲烷 、 苯 为溶剂， 反应 124.0h， 生成 2-(bis(2,5-dimethylphenyl)methyl)-1-chloro-4,7-dimethyl-1H-indene
  参考文献：
  名称：

  Ortho-methylated tribenzotriquinacenes—paving the way to curved carbon networks

  摘要：

  利用双环脱水策略合成了立体拥挤的三苯并三喹吖烯，其正交位置完全或部分甲基化。这样就得到了扭曲的三苯并三喹并烯核心，并可进一步官能化，以便将来合成用于缺陷碳网络的弯曲模型化合物。

  DOI：

  10.1039/c1cc14703j
• 作为产物：
  描述：

  2,2’-(chloromethylene)bis(1,4-dimethylbenzene) 在 aluminum (III) chloride 、 aluminum oxide 、 水 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 6.0h， 以69%的产率得到双(2,5-二甲基苯基)甲醇
  参考文献：
  名称：

  氧化铝催化取代苯和氯仿傅克烷基化及合成后水解或醇解直接合成二苯甲醇衍生物

  摘要：

  AlCl 3介导的甲基取代的苯和CHCl 3的弗里德尔-克来福特烷基化以及用含有水或伯醇的氧化铝的合成后处理允许合成二苯甲醇衍生物及其烷基醚。反应中使用的氧化铝经水洗、干燥后可重复循环使用。

  DOI：

  10.1002/open.202200042

文献信息

• Formylation of Electron-Rich Aromatic Rings Mediated by Dichloromethyl Methyl Ether and TiCl4: Scope and Limitations
  作者：Iván Ramos-Tomillero、Marta Paradís-Bas、Ibério de Pinho Ribeiro Moreira、Josep Bofill、Ernesto Nicolás、Fernando Albericio

  DOI：10.3390/molecules20045409

  日期：——

  Here the aromatic formylation mediated by TiCl4 and dichloromethyl methyl ether previously described by our group has been explored for a wide range of aromatic rings, including phenols, methoxy- and methylbenzenes, as an excellent way to produce aromatic aldehydes. Here we determine that the regioselectivity of this process is highly promoted by the coordination between the atoms present in the aromatic moiety and those in the metal core.

  在这里，我们探索了我们小组之前描述的由TiCl4和二氯甲基甲醚介导的芳香环的甲酰化反应，适用于广泛类型的芳香环，包括酚、甲氧基苯和甲基苯，作为生成芳香醛的一种优秀方法。在此，我们确定该过程的区域选择性高度受到芳香部分中存在的原子与金属核中原子之间的配位作用促进。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：EP3133444A1

  公开（公告）日：2017-02-22

  A chemically amplified resist material of the present invention is used in a process including: patternwise exposing a predetermined region of resist material film to ionizing radiation or nonionizing radiation; floodwise exposing the resist material film patternwise exposed to nonionizing radiation; baking the resist material film floodwise exposed; and developing resist material film to form a resist pattern, the chemically amplified resist material containing: (1) base component; and (2) a component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure, wherein the component (2) contains, among (a) a radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent, (b) a radiation-sensitive sensitizer generating agent, and (c) a radiation-sensitive acid generating agent: the components (a) and (b); the components (b) and (c); or all of the components (a) to (c), and wherein the component (b) contains a compound represented by formula (A).

  本发明的一种化学放大抗蚀剂材料用于一种工艺中，该工艺包括：将抗蚀剂材料薄膜的预定区域图案化暴露于电离辐射或非电离辐射中；将抗蚀剂材料薄膜图案化暴露于非电离辐射中；烘烤被图案化暴露的抗蚀剂材料薄膜；显影抗蚀剂材料薄膜以形成抗蚀剂图案，该化学放大抗蚀剂材料包含：(1)碱成分；和(2)能在曝光时生成辐射敏感敏化剂和酸的成分，其中成分(2)包含(a)辐射敏感酸和敏化剂生成剂，(b)辐射敏感敏化剂生成剂，和(c)辐射敏感酸生成剂：组分 (a) 和 (b)；组分 (b) 和 (c)；或组分 (a) 至 (c) 的全部，其中组分 (b) 包含式 (A) 所代表的化合物。
• Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US10018911B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  A chemically amplified resist material comprises a polymer component that is capable of being made soluble or insoluble in a developer solution by an action of an acid, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent or the radiation-sensitive acid generating agent included in the generative component comprises the first compound that is radiation-sensitive and second compound that is radiation-sensitive. The first compound includes a first onium cation and a first anion, and the second compound includes a second onium cation and a second anion that is different from the first anion. Each of an energy released upon reduction of the first onium cation to a radical and an energy released upon reduction of the second onium cation to a radical is less than 5.0 eV.

  一种化学放大抗蚀剂材料包括一种在酸的作用下能溶于或不溶于显影液的聚合物成分，以及一种在曝光时能产生辐射敏感敏化剂和酸的生成成分。生成组件中的辐射敏感性酸和敏化剂生成剂或辐射敏感性酸生成剂包括辐射敏感性第一化合物和辐射敏感性第二化合物。第一化合物包括第一鎓阳离子和第一阴离子，第二化合物包括第二鎓阳离子和不同于第一阴离子的第二阴离子。第一鎓阳离子还原成自由基时释放的能量和第二鎓阳离子还原成自由基时释放的能量均小于 5.0 eV。
• Photosensitization chemical-amplification type resist material, method for forming pattern using same, semiconductor device, mask for lithography, and template for nanoimprinting
  申请人：TOKYO ELECTRON LIMITED

  公开号：US10025187B2

  公开（公告）日：2018-07-17

  A photosensitization chemical-amplification type resist material according to the present invention is used for a two-stage exposure lithography process, and contains (1) a developable base component and (2) a component generating a photosensitizer and an acid through exposure. Among three components consisting of (a) an acid-photosensitizer generator, (b) a photosensitizer precursor, and (c) a photoacid generator, the above component contains only the component (a), any two components, or all of the components (a) to (c).

  根据本发明，一种光敏化学放大型抗蚀剂材料用于两阶段曝光光刻工艺，它包含(1)可显影碱成分和(2)通过曝光产生光敏剂和酸的成分。在由(a)酸-光敏剂发生器、(b)光敏剂前体和(c)光酸发生器组成的三个组件中，上述组件只包含(a)组件、任意两个组件或(a)至(c)的所有组件。
• 二苯甲醇衍生物的制备方法
  申请人：内蒙古医科大学

  公开号：CN115286481A

  公开（公告）日：2022-11-04

  本公开揭示了一种二苯甲醇衍生物的制备方法，该衍生物具有如下通式I结构，该方法包括以通式II化合物为底物，在催化剂存在下与式III化合物混合，在‑50～60℃条件下搅拌反应，后处理后重结晶即得通式为I的化合物；其中，R1、R2、R3、R4、R5各自独立地选自H、卤素、羟基、羧基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基取代；R6选自卤素、羟基、甲氧基、乙氧基、三氯乙氧基、己氧基取代；R2、R3选自H或能够与其所取代的苯基形成稠环的苯基、萘基或蒽基；R7、R8、R9各自独立为H或卤素。该方法制备工艺简单，很大程度上降低了作为药物中间体的二苯甲醇及其衍生物的合成成本。