4,6-hydroxy-2-methyl-2,4,6-tris(trifluoromethyl)-tetrahydropyran-4-acrylic acid ester | 705290-80-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物
• 英文名称: 4,6-hydroxy-2-methyl-2,4,6-tris(trifluoromethyl)-tetrahydropyran-4-acrylic acid ester
• 英文别名: [2-Hydroxy-6-methyl-2,4,6-tris(trifluoromethyl)oxan-4-yl] prop-2-enoate
• CAS: 705290-80-8
• 化学式: C₁₂H₁₁F₉O₄
• 分子量: 390.203
• InChiKey: REOQVQZYDFERPD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  276.5±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.51±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  13

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4,6-dihydroxy-2-methyl-2,4,6-trifluoromethyl-tetrahydropyran 在 N-乙基吗啉 、 丙烯酰氯 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 4.0h， 以80.5%的产率得到4,6-hydroxy-2-methyl-2,4,6-tris(trifluoromethyl)-tetrahydropyran-4-acrylic acid ester
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated acrylic compounds, methods for preparation of the compounds and photoresist compositions containing same

  摘要：

  公开号：

  EP1449839B1

文献信息

• FLUOROCARBOXYLIC ACID-CONTAINING MONOMER, FLUOROCARBOXYLIC ACID-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20210341839A1

  公开（公告）日：2021-11-04

  A fluorocarboxylic acid-containing polymer comprising recurring units having formula (A1), but not acid labile group-containing recurring units is provided. A resist composition comprising the same offers a high sensitivity and is unsusceptible to nano-bridging or pattern collapse independent of whether it is of positive or negative tone.

  提供一种含有氟羧酸的聚合物，其中包含具有式（A1）的重复单元，但不含有酸不稳定的重复单元。包含该聚合物的抗蚀剂组合物具有高灵敏度，并且无论是正向还是负向调色板，都不易出现纳米桥接或图案坍塌。
• IODIZED AROMATIC CARBOXYLIC ACID TYPE PENDANT-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20210333712A1

  公开（公告）日：2021-10-28

  An iodized aromatic carboxylic acid type pendant-containing polymer is provided. A resist composition comprising the same offers a high sensitivity and is unsusceptible to nano-bridging, pattern collapse or residue formation, independent of whether it is of positive or negative tone.