N-(10-trimethylsilanyl-3,9-dithia-6-oxadecyl)-1,8-naphthalimide | 1415302-89-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: N-(10-trimethylsilanyl-3,9-dithia-6-oxadecyl)-1,8-naphthalimide
• CAS: 1415302-89-4
• 化学式: C₂₂H₂₉NO₃S₂Si
• 分子量: 447.695
• InChiKey: GTLNSPXLZDGJRG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  29.0
• 可旋转键数：
  11.0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  46.61
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  5.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  萘亚胺 、 10-trimethylsilanyl-3,9-dithia-6-oxadecyl iodide 在 偶氮二甲酸二异丙酯 、 三苯基膦 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 12.0h， 以64%的产率得到N-(10-trimethylsilanyl-3,9-dithia-6-oxadecyl)-1,8-naphthalimide
  参考文献：
  名称：

  三甲基硅烷在1,8-萘二甲酰亚胺中对光致电子转移的协同作用

  摘要：

  已使用CH 3 CN和CH 3 CN / H 2 O（瞬态吸收测量）研究了1,8-萘二甲酰亚胺连接基TMS（NI SOS TMS，其中SOS =二硫杂十二烷基，TMS =三甲基硅烷）的光诱导电子转移（PET）过程。v / v = 9：1）。NI的飞秒脉冲激光激发SOS TMS产生的NI阴离子自由基（NI -从杂原子与周围415nm的瞬态吸收带，通过分子内的PET附近TMS至NI中激发的单峰（s）1）的状态。但是，对于NI SOS，在415 nm附近的瞬态谱带随1 NI *（或3 NI *）的衰减而增加。NI *）在470 nm附近。这暗示，NI -主要通过的分子间猝灭产生1 NI *（或3 NI *）通过NI。与此相反，在一个CH质子极性溶剂混合物3 CN / H 2 O，质子抽象过程从NI发生-以生成NI羰自由基（NIH ），其显示在405nm附近的瞬时吸收带。美国国立卫生研究院的衰减时间常数进行了很长相比，NI的-在CH

  DOI：

  10.1016/j.jphotochem.2012.07.008