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triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(2-hydroxy-3-((2-isopropyladamantan-2-yl)oxy)-2-methyl-3-oxopropoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate | 1422369-06-9

中文名称
——
中文别名
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英文名称
triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(2-hydroxy-3-((2-isopropyladamantan-2-yl)oxy)-2-methyl-3-oxopropoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate
英文别名
——
triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(2-hydroxy-3-((2-isopropyladamantan-2-yl)oxy)-2-methyl-3-oxopropoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate化学式
CAS
1422369-06-9
化学式
C18H15S*C19H27F2O8S
mdl
——
分子量
716.864
InChiKey
ZYTGPBIYCIKUMD-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.59
  • 重原子数:
    49.0
  • 可旋转键数:
    10.0
  • 环数:
    7.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.46
  • 拓扑面积:
    130.03
  • 氢给体数:
    1.0
  • 氢受体数:
    8.0

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    摘要:
    提供含有盐的光刻胶组合物和制备光刻图案的方法,可在良好的线边粗糙度(LER)下制造光刻图案。 该盐由式(I)表示。【式(I)中,Q1和Q2分别独立地表示氟原子或C1-6的全氟烷基;R1和R2分别独立地表示H、氟原子或C1-6的全氟烷基;z表示0到6之间的任何整数,当z大于等于2时,多个R1和R2可以相同也可以不同;X1表示*−CO−O−(其中,*表示与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的结合位。)等;L1表示C1-36的二价烃基等;R3表示H或C1-6的烷基;Z+表示有机阳离子。】
    公开号:
    JP2019006761A
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    摘要:
    一种光阻剂组合物,包括由式(I)表示的盐:其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团,R1、R2和R3分别独立表示氢原子或C1-C10一价脂肪饱和碳氢基团,X1和X2分别独立表示单键、羰基或C1-C10双价脂肪饱和碳氢基团,其中氢原子可以被羟基取代,亚甲基基团可以被氧原子、磺酰基或羰基取代,A1表示C1-C30有机基,m1表示1到4的整数,Z+表示有机阳离子,以及一种树脂,该树脂在酸的作用下几乎不溶或不溶,但在水性碱溶液中可溶。
    公开号:
    US20130040237A1
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