乙酸-(1-甲基-环庚基酯) | 26600-61-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 乙酸-(1-甲基-环庚基酯)
• 英文名称: acetic acid-(1-methyl-cycloheptyl ester)
• 英文别名: Essigsaeure-(1-methyl-cycloheptylester)；1-Acetoxy-1-methyl-cycloheptan；1-Methyl-1-acetoxy-cycloheptan；1-Methyl-cycloheptylacetat；1-Methylcycloheptylacetat；(1-Methylcycloheptyl) acetate
• CAS: 26600-61-3
• 化学式: C₁₀H₁₈O₂
• 分子量: 170.252
• InChiKey: ZGTCKNNEQUTYEA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  110-111 °C(Press: 40 Torr)
• 密度：
  1.032 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  乙酸-(1-甲基-环庚基酯) 生成 亚甲基环庚烷 、 1-甲基-1-环庚烯
  参考文献：
  名称：

  Pyrolysis of Esters. XVI. Effect of Ring Size on Formation of Alicyclic Olefins¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01512a036
• 作为产物：
  描述：

  环庚酮 在 palladium diacetate 作用下， 生成 乙酸-(1-甲基-环庚基酯)
  参考文献：
  名称：

  乙酸钯（II）氧化异丁烯和亚甲基环烷烃

  摘要：

  研究了异丁烯，亚甲基环戊烷，亚甲基环己烷和亚甲基环庚烷与乙酸钯在30-80°C的乙酸中的反应。鉴定出两种类型的氧化：乙酰氧基化成乙酸烯丙酯（亚甲基环庚烷）和氧化偶合到二聚体（异丁烯和亚甲基环己烷）。机理研究表明，前者是通过热分解最初形成的π-烯丙基配合物而产生的。推测后一种方法是通过将烯烃插入乙酰氧基钯酸酯加合物中的碳钯键中，然后消除乙酸和氢化钯元素而进行的。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)89429-2

文献信息

• Electrophilic cleavage of cyclopropanes. Acetolysis of bicyclic and tricyclic cyclopropanes
  作者：Kenneth B. Wiberg、Steven R. Kass、Armin De Meijere、K. C. Bishop

  DOI：10.1021/ja00290a042

  日期：1985.2

  Acetolyse d'une serie de bicyclo [n.1.0] alcanes et de [n.m.l] propellanes. On etudie l'effet de la taille du cycle sur la vitesse et les produits de la reaction

  Acetolyse d'une serie de bicyclo [n.1.0] alcanes et de [nml] propellanes。论etudie l'effet de la taille du cycle sur la vitesse et les produits de la反应
• Additions of Hydrogen Bromide to Methylenecycloalkanes
  作者：JAMES G. TRAYNHAM、O. S. PASCUAL

  DOI：10.1021/jo01118a006

  日期：1956.12.1
• Solvolysis studies of cycloalkylcarbinyl tosylates. Effect of adjacent ring size on the rates and products. Ionization constant determinations of cycloalkanecarboxylic acids
  作者：A. Paul Krapcho、Robert G. Johanson

  DOI：10.1021/jo00800a030

  日期：1971.1
• Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP1693705B1

  公开（公告）日：2014-01-22
• [EN] ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A PATTERN USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT OU À DES RAYONS ACTINIQUES ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF AU MOYEN D'UNE TELLE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2011034213A1

  公开（公告）日：2011-03-24

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin containing a repeating unit (A) containing both a structural moiety (S1) that is decomposed by an action of an acid to thereby generate an alkali-soluble group and a structural moiety (S2) that is decomposed by an action of an alkali developer to thereby increase its rate of dissolution into the alkali developer, and a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation.