N-(2,2,2-三氟乙酰基)甲基丙烯酰胺 | 1002993-99-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: N-(2,2,2-三氟乙酰基)甲基丙烯酰胺
• 英文名称: N-(2,2,2-trifluoroacetyl)methacrylamide
• 英文别名: 2-methyl-N-(2,2,2-trifluoroacetyl)prop-2-enamide
• CAS: 1002993-99-8
• 化学式: C₆H₆F₃NO₂
• 分子量: 181.114
• InChiKey: PUJQFZHAHOSWIV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(2,2,2-三氟乙酰基)甲基丙烯酰胺 、 苯硫酚 在 N-[3,5-双(三氟甲基)苯基]-N'-[(8a,9S)-6'-甲氧基-9-金鸡宁]硫脲 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 C₁₂H₁₂F₃NO₂S 、 C₁₂H₁₂F₃NO₂S
  参考文献：
  名称：

  双功能有机催化剂在α-取代的N-丙烯酸-恶唑烷二-2-酮的磺胺-迈克尔加成中的对映选择性醇盐质子化

  摘要：

  在金鸡纳生物碱衍生的硫脲的存在下，已经研究了硫醇向α-取代的N-丙烯酰基恶唑烷丁二酮的有机催化共轭加成反应，然后进行不对称质子化。使用假对映异构体奎宁/奎尼丁衍生的催化剂，两种对映体都可以以相同水平的对映体选择性获得。加成/质子化产物已转化为有用的生物活性分子。

  DOI：

  10.1021/ol202808n
• 作为产物：
  描述：

  2,2,2-三氟乙酰胺 、 甲基丙烯酰氯 在 magnesium bromide ethyl etherate 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.5h， 以46%的产率得到N-(2,2,2-三氟乙酰基)甲基丙烯酰胺
  参考文献：
  名称：

  双功能有机催化剂在α-取代的N-丙烯酸-恶唑烷二-2-酮的磺胺-迈克尔加成中的对映选择性醇盐质子化

  摘要：

  在金鸡纳生物碱衍生的硫脲的存在下，已经研究了硫醇向α-取代的N-丙烯酰基恶唑烷丁二酮的有机催化共轭加成反应，然后进行不对称质子化。使用假对映异构体奎宁/奎尼丁衍生的催化剂，两种对映体都可以以相同水平的对映体选择性获得。加成/质子化产物已转化为有用的生物活性分子。

  DOI：

  10.1021/ol202808n

文献信息

• Topcoat compositions and pattern-forming methods
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US10042259B2

  公开（公告）日：2018-08-07

  Topcoat compositions comprise: a matrix polymer; a surface active polymer comprising a polymerized unit formed from a monomer of the following general formula (I): wherein: R1 represents H, F, methyl or fluorinated methyl; R2 represents optionally substituted C1 to C8 alkylene or optionally substituted C1 to C8 fluoroalkylene, optionally comprising one or more heteroatom; R3 represents H, F, optionally substituted C1 to C10 alkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; R4 represents optionally substituted C1 to C8 alkyl, optionally substituted C1 to C8 fluoroalkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; X represents O, S or NR5, wherein R5 is chosen from hydrogen and optionally substituted C1 to C5 alkyl; and a is 0 or 1; and a solvent. Also provided are coated substrates and pattern-forming methods which make use of the topcoat compositions. The invention has particular applicability in photolithographic processes as a photoresist topcoat layer in the manufacture of semiconductor devices.

  面漆组合物包括：基质聚合物；表面活性聚合物，该聚合物由以下通式 (I) 的单体聚合而成： 其中R1 代表 H、F、甲基或氟化甲基； R2 代表任选取代的 C1 至 C8 亚烷基或任选取代的 C1 至 C8 氟亚烷基，任选包含一个或多个杂原子； R3 代表 H、F、任选取代的 C1 至 C10 烷基或任选取代的 C5 至 C15 芳基，任选包含一个或多个杂原子；R4 代表任选取代的 C1 至 C8 烷基、任选取代的 C1 至 C8 氟烷基或任选取代的 C5 至 C15 芳基，任选包含一个或多个杂原子；X 代表 O、S 或 NR5，其中 R5 选自氢和任选取代的 C1 至 C5 烷基；a 为 0 或 1；以及溶剂。本发明还提供了涂层基底和图案形成方法，这些基底和方法都使用了本发明的面漆组合物。本发明特别适用于光刻工艺，作为制造半导体器件的光刻胶面涂层。
• TOPCOAT COMPOSITIONS AND PATTERN-FORMING METHODS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180118970A1

  公开（公告）日：2018-05-03

  Topcoat compositions comprise: a matrix polymer; a surface active polymer comprising a polymerized unit formed from a monomer of the following general formula (I): wherein: R 1 represents H, F, methyl or fluorinated methyl; R 2 represents optionally substituted C1 to C8 alkylene or optionally substituted C1 to C8 fluoroalkylene, optionally comprising one or more heteroatom; R 3 represents H, F, optionally substituted C1 to C10 alkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; R 4 represents optionally substituted C1 to C8 alkyl, optionally substituted C1 to C8 fluoroalkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; X represents O, S or NR 5 , wherein R 5 is chosen from hydrogen and optionally substituted C1 to C5 alkyl; and a is 0 or 1; and a solvent. Also provided are coated substrates and pattern-forming methods which make use of the topcoat compositions. The invention has particular applicability in photolithographic processes as a photoresist topcoat layer in the manufacture of semiconductor devices.