4-nitro-N-((4-nitrophenyl)sulfonyl)benzamide | 55454-83-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-nitro-N-((4-nitrophenyl)sulfonyl)benzamide
• 英文别名: (4-nitro-benzenesulfonyl)-(4-nitro-benzoyl)-amine；(4-Nitro-benzolsulfonyl)-(4-nitro-benzoyl)-amin；4-nitro-N-(4-nitrophenyl)sulfonylbenzamide
• CAS: 55454-83-6
• 化学式: C₁₃H₉N₃O₇S
• 分子量: 351.296
• InChiKey: WFRVTZHUWHUGGI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.62
• 重原子数：
  24.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  149.52
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  7.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-苯基-1-丁烯 、 4-nitro-N-((4-nitrophenyl)sulfonyl)benzamide 在 palladium(II) trifluoroacetate 、 copper diacetate 、 二甲基亚砜 作用下， 以 对二甲苯 为溶剂， 反应 18.0h， 以74%的产率得到(E)-6-nitro-2-((4-nitrophenyl)sulfonyl)-3-styryl-3,4-dihydroisoquinolin-1(2H)-one
  参考文献：
  名称：

  钯催化串联脱氢[4 + 2]通过C–H活化与N-磺酰胺形成末端烯烃

  摘要：

  通过C（sp 2）–H活化，烯丙基C（sp 3）–H活化和均烯丙基C（sp 3）–H消除，钯催化串联脱氢[4 + 2]与N-磺酰胺酰胺化末端烯烃流程已开发。发现在DMSO配体的促进下，各种苯甲酰胺，杂环芳基酰胺，烯基羧酰胺和商业烯烃是构建具有高E立体选择性的带有乙烯基取代基的重要杂环化合物的有效底物。使用空气作为终端氧化剂在环境友好方面也提供了很大的优势。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.0c01011
• 作为产物：
  描述：

  对硝基苯甲酸 在 4-二甲氨基吡啶 、 草酰氯 、 三乙胺 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 4.25h， 生成 4-nitro-N-((4-nitrophenyl)sulfonyl)benzamide
  参考文献：
  名称：

  钯催化串联脱氢[4 + 2]通过C–H活化与N-磺酰胺形成末端烯烃

  摘要：

  通过C（sp 2）–H活化，烯丙基C（sp 3）–H活化和均烯丙基C（sp 3）–H消除，钯催化串联脱氢[4 + 2]与N-磺酰胺酰胺化末端烯烃流程已开发。发现在DMSO配体的促进下，各种苯甲酰胺，杂环芳基酰胺，烯基羧酰胺和商业烯烃是构建具有高E立体选择性的带有乙烯基取代基的重要杂环化合物的有效底物。使用空气作为终端氧化剂在环境友好方面也提供了很大的优势。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.0c01011

文献信息

• Asymmetric Palladium-Catalyzed C–H Functionalization Cascade for Synthesis of Chiral 3,4-Dihydroisoquinolones
  作者：Manman Sun、Haijian Wu、Xiangyu Xia、Weida Chen、Zhiming Wang、Jianguo Yang

  DOI：10.1021/acs.joc.9b01372

  日期：2019.10.18

  A palladium-catalyzed C-H functionalization/intramolecular asymmetric allylation cascade of N-sulfonyl benzamides with 1,3-dienes has been developed. In the presence of a chiral pyridine-oxazoline ligand, this protocol enables the synthesis of chiral 3,4-dihydroisoquinolones in yields of up to 83% with enantioselectivities of up to 96%, using environmentally friendly air as the terminal oxidant.

  已经开发了钯催化的N-磺酰基苯甲酰胺与1,3-二烯的CH官能化/分子内不对称烯丙基化级联反应。在手性吡啶-恶唑啉配体的存在下，使用环境友好的空气作为末端氧化剂，该方案能够以高达83％的产率和高达96％的对映选择性合成手性3,4-二氢异喹诺酮。
• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3896521A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of -CO- and -SO2-; X1 is a tetravalent organic group; and 1 is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任何一种；X1 是四价有机基团；1 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。