t-Butyl-p-chlorphenylsulfoxid | 7205-75-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: t-Butyl-p-chlorphenylsulfoxid
• 英文别名: p-Chlorphenyl-1,1-dimethylaethylsulfoxid；1-Tert-butylsulfinyl-4-chlorobenzene
• CAS: 7205-75-6
• 化学式: C₁₀H₁₃ClOS
• 分子量: 216.732
• InChiKey: LGPAKRPZKUVFKP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  36.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  p-chlorophenyl ethyl sulfoxide 在 N-氯代丁二酰亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 甲苯 、 正戊烷 为溶剂， 反应 0.17h， 生成 t-Butyl-p-chlorphenylsulfoxid
  参考文献：
  名称：

  有机金属试剂引发的α-卤代-α-丙烷基芳基亚砜的竞争反应途径

  摘要：

  的反应顺-1-卤代乙基p -氯苯基亚砜类（卤素=氯，溴）与主族的有机金属试剂（Ñ -BuMgCl，将MeLi，Ñ正丁基锂，小号正丁基锂，和吨正丁基锂）在THF和的PhMe溶剂被检查了。分析产品分布以确定竞争性亚砜配体交换，卤素-金属交换和去质子化反应途径的程度。在PhMe中，t- BuLi的组合最适合用于从对位-1-氯乙基对氯苯基亚砜中合成亚砜配体。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2007.04.031

文献信息

• The Michael Type Alkylation of α,β-Unsaturated Sulfoxide and Reaction of the Resulting α-Sulfinyl Carbanion
  作者：Hideki Sugihara、Rikuhei Tanikaga、Kazuhiko Tanaka、Aritsune Kaji

  DOI：10.1246/bcsj.51.655

  日期：1978.2

  Aryl vinyl sulfoxide was alkylated via the Michael-type addition with lithium dialkylcuprates, and the resulting α-sulfinyl carbanions were reacted with various electrophiles (i.e. aldehydes, ketones, and alkyl halides) to afford a-substituted alkyl sulfoxides.

  芳基乙烯基亚砜通过迈克尔型加成与二烷基铜酸锂进行烷基化，所得α-亚磺酰基碳负离子与各种亲电子试剂（即醛、酮和烷基卤）反应，得到α-取代的烷基亚砜。
• Feshin, V. P.; Voronkov, M. G.; Dolgushin, G. V., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1986, vol. 22, # 6, p. 1103 - 1106
  作者：Feshin, V. P.、Voronkov, M. G.、Dolgushin, G. V.、Romanenko, L. S.、Aliev, I. A.、Mirzoeva, M. A.

  DOI：——

  日期：——
• SUGIHARA HIDEKI; TANIKAGA RIKUHEI; TANAKA KAZUHIKO; KAN ARITSUNE, BULL. CHEM. SOC. JAP., 1978, 51, NO 2, 655-656
  作者：SUGIHARA HIDEKI、 TANIKAGA RIKUHEI、 TANAKA KAZUHIKO、 KAN ARITSUNE

  DOI：——

  日期：——
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20140295332A1

  公开（公告）日：2014-10-02

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.
• US9188862B2
  申请人：——

  公开号：US9188862B2

  公开（公告）日：2015-11-17