近年来,芳基卤化物和苄基卤化物与 CO2 的羧化取得了重大进展,成为使用化学计量量明确的金属物质的方便替代品。然而,这些过程中的大多数都需要使用自燃和空气敏感试剂,目前的方法主要限于有机卤化物。因此,非常希望发现一种温和的、操作简单的替代羧化反应,该羧化反应在广泛的底物范围内使用容易获得的偶联伙伴发生。在此,我们报告了一种新的协议,该协议涉及 CO2 协同活化的开发和惰性 C(sp(2))-O 和 C(sp(3))-O 键的相当具有挑战性的活化,这些键源自简单且廉价的酒精,这是该领域以前未被认识到的机会。这种前所未有的羧化事件的特点是其简单、温和的反应条件、显着的选择性模式以及使用对空气、水分不敏感且易于处理的镍预催化剂的优异化学选择性曲线。我们的结果使我们的方法成为一种强大的替代方案,实用性和新颖性,可以替代常用的有机卤化物作为羧化方案中的对应物。此外,这项研究首次表明,无痕导向基团允许在没有扩展
近年来,芳基卤化物和苄基卤化物与 CO2 的羧化取得了重大进展,成为使用化学计量量明确的金属物质的方便替代品。然而,这些过程中的大多数都需要使用自燃和空气敏感试剂,目前的方法主要限于有机卤化物。因此,非常希望发现一种温和的、操作简单的替代羧化反应,该羧化反应在广泛的底物范围内使用容易获得的偶联伙伴发生。在此,我们报告了一种新的协议,该协议涉及 CO2 协同活化的开发和惰性 C(sp(2))-O 和 C(sp(3))-O 键的相当具有挑战性的活化,这些键源自简单且廉价的酒精,这是该领域以前未被认识到的机会。这种前所未有的羧化事件的特点是其简单、温和的反应条件、显着的选择性模式以及使用对空气、水分不敏感且易于处理的镍预催化剂的优异化学选择性曲线。我们的结果使我们的方法成为一种强大的替代方案,实用性和新颖性,可以替代常用的有机卤化物作为羧化方案中的对应物。此外,这项研究首次表明,无痕导向基团允许在没有扩展
C–P Bond-Forming Reactions via C–O/P–H Cross-Coupling Catalyzed by Nickel
作者:Jia Yang、Tieqiao Chen、Li-Biao Han
DOI:10.1021/ja512498u
日期:2015.2.11
The first Ni-catalyzed C-O/P-H cross-coupling producing organophosphorus compounds is disclosed. This method features wide generality in regard to both C-O and P-H compounds: for C-O compounds, the readily available alcohol derivatives of aryl, alkenyl, benzyl, and allyl are applicable, and for P-H compounds, both >P(V)(O)H compounds (secondary phosphine oxide, H-phosphinate, and H-phosphonate) and
公开了第一个 Ni 催化的 CO/PH 交叉偶联产生有机磷化合物。该方法在 CO 和 PH 化合物方面具有广泛的通用性:对于 CO 化合物,适用于容易获得的芳基、烯基、苄基和烯丙基的醇衍生物,对于 PH 化合物,均 >P(V)(O)H化合物(仲氧化膦、H-次膦酸盐和H-膦酸盐)和氢膦(>P(III)H)可用作底物。因此,通过这种新策略,可以轻松获得各种有价值的 C(sp(2))-P 和 C(sp(3))-P 化合物。
Resist composition and pattern forming process
申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
公开号:US10012903B2
公开(公告)日:2018-07-03
A resist composition is provided comprising a polymer comprising recurring units (a) having a succinimide structure and recurring units (b) containing a group capable of polarity switch with the aid of acid. The resist composition suppresses acid diffusion, exhibits a high resolution, and forms a pattern of satisfactory profile with low edge roughness.
A resist composition is provided comprising a polymer comprising recurring units (a) having a succinimide structure and recurring units (b) containing a group capable of polarity switch with the aid of acid. The resist composition suppresses acid diffusion, exhibits a high resolution, and forms a pattern of satisfactory profile with low edge roughness.