bis(4-n-butoxyphenyl) sulfoxide | 91815-60-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis(4-n-butoxyphenyl) sulfoxide
• 英文别名: Bis(4-butoxyphenyl) sulfoxide；1-butoxy-4-(4-butoxyphenyl)sulfinylbenzene
• CAS: 91815-60-0
• 化学式: C₂₀H₂₆O₃S
• 分子量: 346.491
• InChiKey: YNMOCOVMVLEFTQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  492.2±30.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.14±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  54.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(2-噻吩基硫)噻吩 、 bis(4-n-butoxyphenyl) sulfoxide 在 甲烷磺酸 、 乙酸酐 、 六氟磷酸钾 作用下， 以 水 、 氯苯 为溶剂， 反应 4.0h， 以78%的产率得到(thiodi-5,2-thienylene)bis[bis(4-n-butoxyphenyl)sulfonium] bishexafluorophosphate
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATOR AND PHOTOREACTIVE COMPOSITION

  摘要：

  公开号：

  EP2218715B1
• 作为产物：
  描述：

  Bis-(4-n-butoxyphenyl)-sulfid 、 双氧水 、 disodium;dioxido-oxo-sulfanylidene-λ6-sulfane;pentahydrate 、 水 在 ice 、 二氯甲烷 、 水 、 silica gel 、 target compound 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 反应 12.0h， 以obtained in Synthesis Example 1-17的产率得到bis(4-n-butoxyphenyl) sulfoxide
  参考文献：
  名称：

  Patterning process and resist composition

  摘要：

  一种负型图案的制备方法，包括将一种包含由式（1）和（2）的重复单元组成的聚合物和式（3）的光酸发生剂的抗蚀剂组合物涂覆在基板上，烘烤，曝光，PEB和在有机溶剂中显影。在式（1）和（2）中，R1为H，F，CH3或CF3，Z为单键，苯基，萘基或（骨架）-C（═O）-O-Z′-，Z′为烷基，苯基或萘基，XA为酸敏感基团，YL为H或极性基团。在式（3）中，R2和R3为单价烃基，R4为二价烃基，或R2和R3，或R2和R4可以与硫形成环，L为单键或二价烃基，Xa和Xb为H，F或CF3，k为1到4的整数。

  公开号：

  US09164384B2

文献信息

• PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140322650A1

  公开（公告）日：2014-10-30

  A negative pattern is formed by coating a resist composition comprising a polymer comprising recurring units of formulae (1) and (2) and a photoacid generator of formula (3) onto a substrate, baking, exposure, PEB and developing in an organic solvent. In formulae (1) and (2), R 1 is H, F, CH 3 or CF 3 , Z is a single bond, phenylene, naphthylene, or (backbone)-C(═O)—O—Z′—, Z′ is alkylene, phenylene or naphthylene, XA is an acid labile group, YL is H or a polar group. In formula (3), R 2 and R 3 are a monovalent hydrocarbon group, R 4 is a divalent hydrocarbon group, or R 2 and R 3 , or R 2 and R 4 may form a ring with the sulfur, L is a single bond or a divalent hydrocarbon group, Xa and Xb are H, F or CF 3 , and k is an integer of 1 to 4.

  一种负型图案的制备方法，包括将含有公式（1）和（2）重复单元的聚合物和公式（3）的光酸发生剂的抗蚀组合物涂覆到基板上，烘烤、曝光、PEB和在有机溶剂中显影。在公式（1）和（2）中，R1是H，F，CH3或CF3，Z是单键，苯基，萘基或（骨架）-C（═O）-O-Z′-，Z′是烷基，苯基或萘基，XA是酸敏基团，YL是H或极性基团。在公式（3）中，R2和R3是单价碳氢基团，R4是二价碳氢基团，或R2和R3，或R2和R4可以与硫形成环，L是单键或二价碳氢基团，Xa和Xb是H，F或 ，k是1到4的整数。
• US4451409A
  申请人：——

  公开号：US4451409A

  公开（公告）日：1984-05-29
• US4451408A
  申请人：——

  公开号：US4451408A

  公开（公告）日：1984-05-29
• US8216768B2
  申请人：——

  公开号：US8216768B2

  公开（公告）日：2012-07-10