N-(2,4-dioxa-3-methylpentyl)-2H,5H-2,5-dioxopyrrole | 120461-74-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 英文名称: N-(2,4-dioxa-3-methylpentyl)-2H,5H-2,5-dioxopyrrole
• 英文别名: 1-(1-Methoxyethoxymethyl)pyrrole-2,5-dione
• CAS: 120461-74-7
• 化学式: C₈H₁₁NO₄
• 分子量: 185.18
• InChiKey: HINOYCXHUQLNGN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(2,4-dioxa-3-methylpentyl)-2H,5H-2,5-dioxopyrrole 、 十二硫醇 以 甲苯 、 正戊烷 为溶剂， 生成 苯乙烯
  参考文献：
  名称：

  Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists

  摘要：

  一种新单体被用于制备含有被阻断的亚酰胺基团的同聚物或共聚物，这些聚合物的特点是在两个阶段中解除阻断，首先是在酸催化下，然后是在水性碱性溶液中。因此，这些聚合物在制备正向光刻胶组合物方面特别有用。这些聚合物与潜在的光酸一起使用，当暴露于光辐射时，去除酸敏感的阻断基团，优选为缩醛或缩酮基团，仅留下连接在氮原子上的甲醛基团或取代甲醛基团，这些基团随后通过暴露于水性碱性显影溶液而被去除，仅留下亚酰胺基团。新单体是马来酰亚胺的衍生物，其中亚酰胺氢被甲醛基团替换，随后反应形成缩醛或缩酮。优选单体包括N-(2,4-二氧杂-3,3-二甲基戊基)-2H,5H-2,5-二氧吡咯烷和相关化合物。

  公开号：

  US05200529A1

文献信息

• Photoresistgemisch und hiermit hergestelltes Photoresistmaterial enthaltend ein Polymer blockkierten Imidgruppen, sowie hierfür geeignetes Maleinsäureimidmonomer
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0291994A2

  公开（公告）日：1988-11-23

  Die Erfindung betrifft ein Photoresistgemisch und hiermit hergestelltes Photoresistmaterial, enthaltend ein Polymer mit Imidgruppen, die durch an Acetal- oder Ketaleinheiten gebun­dene Methylol- oder substituierte Methylolgruppen blockiert sind, z.B. der Formeln worin R₀      Wasserstoff oder Methyl R₀′      Aryl, Alkoxy oder Aryloxy, R₁und R₂      Wasserstoff oder (C₁ - C₄)-Alkyl, R₃ mit R₄, R₅      Wasserstoff oder (C₁ - C₄)-Alkyl R₆      (C₁ - C₁₀)-Alkyl R₇      Wasserstoff oder (C₁ - C₄)-Alkyl bedeuten, eine bei Belichtung Säure abspaltende Verbindung, die die Acetal- oder Ketaleinheiten durch photolytisch bei einer erwünschten Wellenlänge gebildete Säure abspal­tet, und ein Lösemittel, das Polymer und Säure abspal­tende Verbindung löst. Die Erfindung betrifft auch das Imidgruppen haltige Monomer wie ein Maleinsäureimidderivat, durch das das Polymer als Homo- oder Copolymerisat hergestellt werden kann. Das Polymer kann man in zwei Stufen abspalten, 1. bei der Bestrahlung in Gegenwart der Säure bildenden Verbindung und 2. bei der Entwicklung, so daß schließ­lich ein alkali-lösliches Polymer entsteht, das man in den bestrahlten Bereichen entfernen kann. Das Photoresistmaterial ist besonders verwendbar für DUV-Strahlung und besitzt großes Auflösungsvermögen.

  本发明涉及一种光致抗蚀剂混合物和用其制备的光致抗蚀剂材料，它包括一种聚合物，该聚合物具有被甲醇或取代甲醇基团封端的酰亚胺基团，这些基团与缩醛或缩酮单元键合，例如式中的 其中 R₀ 是氢或甲基 R₀′ 是芳基、烷氧基或芳氧基、 R₁ 和 R₂ 是氢或 (C₁ - C₄)-烷基、 R₃ 与 R₄, R₅ 氢或 (C₁ - C₄)- 烷基 R₆ (C₁ - C₁₀)- 烷基 R₇ 氢或 (C₁ - C₄)-烷基 是指 一种化合物，该化合物在光照下会分裂出酸，并在所需波长下通过光解形成的酸分裂出缩醛或缩酮单元，以及一种溶剂，该溶剂可溶解聚合物和酸分裂化合物。 本发明还涉及含酰亚胺基团的单体，如马来酰亚胺衍生物，通过这种单体可以制备聚合物均聚物或共聚物。聚合物可以分两个阶段裂解：1.在有酸形成化合物存在的情况下进行辐照时；2.在显影过程中，最终形成碱溶性聚合物，该聚合物可以在辐照区域去除。 这种光刻胶材料特别适用于紫外辐射，并具有很高的分辨能力。
• US4810613A
  申请人：——

  公开号：US4810613A

  公开（公告）日：1989-03-07
• US4962171A
  申请人：——

  公开号：US4962171A

  公开（公告）日：1990-10-09
• US5200529A
  申请人：——

  公开号：US5200529A

  公开（公告）日：1993-04-06