6,6'-dimethyl-4,4'-bis(4-hydroxybenzyl)-2,2'-methanediyldiphenol | 173974-51-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二芳基庚烷
• 英文名称: 6,6'-dimethyl-4,4'-bis(4-hydroxybenzyl)-2,2'-methanediyldiphenol
• 英文别名: 2-[[2-Hydroxy-5-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-3-methylphenyl]methyl]-4-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-6-methylphenol
• CAS: 173974-51-1
• 化学式: C₂₉H₂₈O₄
• 分子量: 440.539
• InChiKey: YOWBYDKLPNCYNY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7
• 重原子数：
  33
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(bromomethyl)-6-[[3-(bromomethyl)-2-hydroxy-5-phenylphenyl]methyl]-4-phenylphenol 、 6,6'-dimethyl-4,4'-bis(4-hydroxybenzyl)-2,2'-methanediyldiphenol 在 四氯化钛 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 48.0h， 以13%的产率得到16,24,28,36,41,42-hexahydroxy-23,29-dimethyl-5,11-diphenylcalix<6>arene
  参考文献：
  名称：

  杯形芳烃[4]芳烃的芳族和芳族位置上带有羟基的退火杯芳烃。

  摘要：

  通过在二甲苯中使合适的二聚体或四聚体与甲醛在二甲苯中进行非催化缩合反应，可以制备出在外位带有四个羟基的各种苯酚衍生的杯芳烃[4]芳烃（3），产率最高可达44％。X射线分析表明四叔丁基化合物（3a）具有两个分子内OH.O氢键的规则圆锥构象（与内异构体几乎相同），而相应的二聚体（6c）优选具有两个分子内OH.pi（芳烃）相互作用的构象（在杯芳烃中是不可能的）。用二溴甲基化的二聚体冷凝带有邻位游离位置的exo-calix [4]芳烃3f，g（可通过脱丁基容易制得），得到由内-和exo-calix [4]芳烃亚结构组成的双（9）和三（10）芳芳芳烃退火态产量分别高达24％和10％。分子动力学计算表明，9中的外杯芳烃部分比完全柔性的3瓶流动性差，而内杯芳烃部分则显示出比通常更高的迁移率。但是，不可能有一个完整的互变锥->锥，因此可以构建固有的手性分子。

  DOI：

  10.1021/jo9511197
• 作为产物：
  描述：

  4,4'-bis(bromomethyl)-6,6'-dimethyl-2,2'-methanediyldiphenol 在 三氯化铝 、 zinc(II) carbonate 、 苯酚 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 26.0h， 生成 6,6'-dimethyl-4,4'-bis(4-hydroxybenzyl)-2,2'-methanediyldiphenol
  参考文献：
  名称：

  杯形芳烃[4]芳烃的芳族和芳族位置上带有羟基的退火杯芳烃。

  摘要：

  通过在二甲苯中使合适的二聚体或四聚体与甲醛在二甲苯中进行非催化缩合反应，可以制备出在外位带有四个羟基的各种苯酚衍生的杯芳烃[4]芳烃（3），产率最高可达44％。X射线分析表明四叔丁基化合物（3a）具有两个分子内OH.O氢键的规则圆锥构象（与内异构体几乎相同），而相应的二聚体（6c）优选具有两个分子内OH.pi（芳烃）相互作用的构象（在杯芳烃中是不可能的）。用二溴甲基化的二聚体冷凝带有邻位游离位置的exo-calix [4]芳烃3f，g（可通过脱丁基容易制得），得到由内-和exo-calix [4]芳烃亚结构组成的双（9）和三（10）芳芳芳烃退火态产量分别高达24％和10％。分子动力学计算表明，9中的外杯芳烃部分比完全柔性的3瓶流动性差，而内杯芳烃部分则显示出比通常更高的迁移率。但是，不可能有一个完整的互变锥->锥，因此可以构建固有的手性分子。

  DOI：

  10.1021/jo9511197

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
  申请人：INASAKI Takeshi

  公开号：US20130029255A1

  公开（公告）日：2013-01-31

  Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound (A) which contains at least one phenolic hydroxyl group and at least one group where a hydrogen atom in a phenolic hydroxyl group is substituted by a group represented by the following General Formula (1). (in the formula, each of R 11 and R 12 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group; X 11 represents an aryl group; M 11 represents a single bond or a divalent linking group; and Q 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, wherein the number of carbon atoms which are included in the group represented by -M 11 -Q 11 is 3 or more, and at least two of R 11 , R 12 , Q 11 , and X 11 may form a ring by bonding to each other)

  提供的是一种感光树脂组合物，其中包含至少含有一个酚羟基和至少一个氢原子被以下通式（1）所代表的基替换的基团的化合物（A）。（在通式中，R11和R12分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或芳基烷基；X11表示芳基；M11表示单键或二价连接基团；Q11表示烷基、环烷基或芳基，其中包含在-M11-Q11所代表的基团中的碳原子数为3或更多，并且R11、R12、Q11和X11中至少有两个可以通过相互键合形成环）
• US20140272692A1
  申请人：——

  公开号：US20140272692A1

  公开（公告）日：2014-09-18
• US20140342275A1
  申请人：——

  公开号：US20140342275A1

  公开（公告）日：2014-11-20
• US8574814B2
  申请人：——

  公开号：US8574814B2

  公开（公告）日：2013-11-05
• US8673538B2
  申请人：——

  公开号：US8673538B2

  公开（公告）日：2014-03-18