[4-(4-biphenylylthio)phenyl]-4-biphenylylphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate | 1215851-50-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: [4-(4-biphenylylthio)phenyl]-4-biphenylylphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate
• CAS: 1215851-50-5；1240786-53-1
• 化学式: C₆F₁₈P*C₃₆H₂₇S₂
• 分子量: 968.753
• InChiKey: DHLUBQVLKUFOPO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  17.46
• 重原子数：
  63.0
• 可旋转键数：
  10.0
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  1.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苯硫酚 在 四(三苯基膦)钯 硫酸 、 双氧水 、 乙酸酐 、 sodium t-butanolate 作用下， 以 水 、 乙腈 、 正丁醇 为溶剂， 反应 14.0h， 生成 [4-(4-biphenylylthio)phenyl]-4-biphenylylphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, PHOTO-ACID GENERATOR, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

  摘要：

  公开号：

  EP2399905B1

文献信息

• SULFONIUM SALT, PHOTOACID GENERATOR, CURABLE COMPOSITION, AND RESIST COMPOSITION
  申请人：SAN-APRO LTD.

  公开号：US20210147352A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  The sulfonium salt has high photosensitivity to i-rays and high compatibility with cationically polymerizable compounds such as epoxy compounds, and is excellent storage stability in formulations containing such compounds. The sulfonium salt is represented by general formula (1). In formula (1), R represents an alkyl group or an aryl group; substituents, R1 to R5, each independently represent an alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a hydroxy(poly)alkyleneoxy group, or a halogen atom; R6 to R9 each independently represent an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom; m 1 to m 5 each represent the number of occurrences of each of R1 to R5, m 1 and m 4 represent an integer of 0 to 3, m 2 and m 5 represent an integer of 0 to 4, m 3 represents an integer of 0 to 5, and X − represents a monovalent polyatomic anion.

  砜盐对紫外线具有很高的光敏性，与环氧化合物等阳离子聚合物化合物具有很高的相容性，并且在含有这些化合物的配方中具有优异的储存稳定性。砜盐的通用式表示为（1）。在式（1）中，R代表烷基或芳基；取代基R1至R5分别独立地代表烷基、羟基、烷氧基、芳基、芳氧基、羟基(聚)烷氧基或卤素原子；R6至R9分别独立地代表烷基、芳基或氢原子；m1至m5分别代表R1至R5的出现次数，m1和m4表示0到3的整数，m2和m5表示0到4的整数，m3表示0到5的整数，X−表示一价多原子阴离子。
• 光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物
  申请人：サンアプロ株式会社

  公开号：JP2019073470A

  公开（公告）日：2019-05-16

  【課題】ｉ線に高い光感応性を有する新たなスルホニウム塩を含む光酸発生剤の提供。【解決手段】下記式（１）で示されるスルホニウム塩と下記式（２）で示される混合スルホニウム塩、又は下記式（２）で示されるスルホニウム塩を含んでなる光酸発生剤。［Ｒ１〜Ｒ１５はアルキル基等；ｍ１〜ｍ９は０〜５の整数；Ｘ−は一価の多原子アニオン]【選択図】なし

  提供具有高光感应性的新硫醇盐的光酸发生剂。所述光酸发生剂包括以下式（1）所示的硫醇盐、以下式（2）所示的混合硫醇盐，或者含有以下式（2）所示的硫醇盐。[R1～R15为烷基等；m1～m9为0～5的整数；X−为一价多原子阴离子]【选择图】无
• [EN] ACTINIC-RAY-SENSITIVE ACID GENERATOR<br/>[FR] GÉNÉRATEUR D'ACIDE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES<br/>[JA] 感活性エネルギー線性酸発生剤
  申请人：SAN APRO LTD

  公开号：WO2022054554A1

  公开（公告）日：2022-03-17

  活性エネルギー線照射でカチオン重合性能や架橋反応性能を有し、かつこのものを使用した硬化性組成物は貯蔵安定性が良好である高活性な感活性エネルギー線性酸発生剤を提供する。本発明は、下記一般式（１）で表わされるスルホニウム塩（Ａ）と下記一般式（２）で表されるスルホニウム塩（Ｂ）を含有し、スルホニウム塩（Ａ）とスルホニウム塩（Ｂ）の総モル数に対し、スルホニウム塩（Ｂ）の含有量が０．０１～２モル％である感活性エネルギー線性酸発生剤である。

  本发明提供了一种使用活性能量线照射具有阳离子聚合性能和交联反应性能的物质，并使用该物质的固化组合物具有良好的贮存稳定性的高活性感光性能量线性酸发生剂。该发明包含以下一般式（1）表示的磺酰胺盐（A）和以下一般式（2）表示的磺酰胺盐（B），其中磺酰胺盐（B）的含量为总磺酰胺盐（A）和磺酰胺盐（B）的摩尔数的0.01％至2％的感光性能量线性酸发生剂。
• 新規オニウム塩、および光酸発生剤とそれを用いた光硬化性樹脂組成物
  申请人：サンアプロ株式会社

  公开号：JP2022037902A

  公开（公告）日：2022-03-09

  【課題】硬化性に優れ、光照射又は加熱処理を施すことにより、耐熱性に優れた硬化物を形成するのに好適な酸発生剤およびこれを含む硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】本発明は、カチオンは、ヨードニウム、スルホニウム、アンモニウムの群から選ばれ、アニオンは一般式（１）で表わされるフルオロリン酸アニオン（Ｂ）であって、アニオンのフェイシャル体とメリディオナル体の２種の異性体の内、メリディオナル体の割合が、５０.０～８５．０重量％であるオニウム塩（Ａ）である。 [ (Ｒ1)３( Ｆ)３Ｐ]－ （１）【選択図】 なし

  【问题】提供一种适用于形成优异耐热性硬化物的酸发生剂及其含有的硬化性树脂组合物，其具有优异的硬化性和耐热性，可通过光照射或加热处理形成。 【解决方案】本发明中，阳离子选择自碘化铵、磺酰胺、铵等群体中，阴离子为一般式（1）所表示的氟硼酸根离子（B），其中阴离子存在两种异构体，即面向中心和面向周围，其中面向周围的比例为50.0-85.0重量％的离子盐（A）。[(R1)3(F)3P] - (1) 【选图】无
• [EN] NOVEL ONIUM SALT AND PHOTOACID GENERATOR<br/>[FR] NOUVEAU SEL D'ONIUM ET GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE<br/>[JA] 新規オニウム塩、および光酸発生剤
  申请人：SAN APRO LTD

  公开号：WO2021251035A1

  公开（公告）日：2021-12-16

  光酸発生剤として機能し、さらにこの光酸発生剤は、光あるいは電子線などの活性エネルギー線照射によって発生する酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂である成分などとを組み合わせることで、化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 本発明は、一般式（１）で表わせるオニウム塩であって、アニオン構造のフェイシャル体とメリディオナル体の２種の異性体の内、フェイシャル体の割合が、１５．０重量％以下であるオニウム塩である。 [（Ｒ２）n＋１－Ｅ]＋　[ (Ｒ１)３( Ｆ)３Ｐ]－　（１）