3-(2,3-dihydroxy-1-propyloxy)-1-adamantyl methacrylate | 928833-12-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 甘油脂
• 英文名称: 3-(2,3-dihydroxy-1-propyloxy)-1-adamantyl methacrylate
• 英文别名: 3-(2,3-dihydroxypropoxy)-1-adamantyl methacrylate；[3-(2,3-Dihydroxypropoxy)-1-adamantyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 928833-12-9
• 化学式: C₁₇H₂₆O₅
• 分子量: 310.39
• InChiKey: GZOMLXMHOSFPRZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  76
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-(2,3-dihydroxy-1-propyloxy)-1-adamantyl methacrylate 、 3-methanesulfonyloxy-1-adamantyl acrylate 生成 3-methanesulfonyloxy-1-adamantyl methacrylate 、 3-[2-hydroxy-1-(hydroxymethyl)ethoxy]-1-adamantyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Polymer compound, negative resist composition, and method of forming resist pattern

  摘要：

  提供了一种聚合物化合物，可以形成具有优异分辨率的抗蚀图案，以及包含该聚合物化合物的负性抗蚀组合物和其抗蚀图案形成方法。本发明是一种聚合物化合物，包含下面所示的一般式（a0-1）表示的结构单元（a0）。（其中，R代表氢原子、卤原子、烷基或卤代烷基；R0代表含有羟基的烷基。）此外，本发明是一种负性抗蚀组合物，包括：可溶于碱性树脂组分（A）、在曝光后产生酸的酸发生剂组分（B）和交联剂（C），其中碱性可溶树脂组分（A）包含具有由上述一般式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合物化合物（A1）。

  公开号：

  US07820360B2

文献信息

• Polymer compound, negative resist composition, and method of forming resist pattern
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US07820360B2

  公开（公告）日：2010-10-26

  There are provided a polymer compound which can form a resist pattern with excellent resolution, and a negative resist composition containing the polymer compound and a resist pattern-forming method thereof. The present invention is a polymer compound containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below. (wherein, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; and R0 represents an alkyl group containing a hydroxyl group.) Also, the present invention is a negative resist composition, including: an alkali soluble resin component (A), an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a cross-linking agent (C), wherein the alkali soluble resin component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown above.

  提供了一种聚合物化合物，可以形成具有优异分辨率的抗蚀图案，以及包含该聚合物化合物的负性抗蚀组合物和其抗蚀图案形成方法。本发明是一种聚合物化合物，包含下面所示的一般式（a0-1）表示的结构单元（a0）。（其中，R代表氢原子、卤原子、烷基或卤代烷基；R0代表含有羟基的烷基。）此外，本发明是一种负性抗蚀组合物，包括：可溶于碱性树脂组分（A）、在曝光后产生酸的酸发生剂组分（B）和交联剂（C），其中碱性可溶树脂组分（A）包含具有由上述一般式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合物化合物（A1）。
• POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Iwashita Jun

  公开号：US20090162785A1

  公开（公告）日：2009-06-25

  There are provided a polymer compound which can form a resist pattern with excellent resolution, and a negative resist composition containing the polymer compound and a resist pattern-forming method thereof. The present invention is a polymer compound containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below. (wherein, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; and R 0 represents an alkyl group containing a hydroxyl group.) Also, the present invention is a negative resist composition, including: an alkali soluble resin component (A), an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a cross-linking agent (C), wherein the alkali soluble resin component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown above.

  本发明提供了一种聚合物化合物，可以形成具有优异分辨率的抗蚀图案，以及包含该聚合物化合物的负型抗蚀组合物和其制备方法。本发明是一种聚合物化合物，其中包含下式所示的通式（a0-1）所代表的结构单元（a0）。（其中，R代表氢原子、卤素原子、烷基或卤代烷基；R0代表含有羟基的烷基。）此外，本发明还提供了一种负型抗蚀组合物，包括：碱溶性树脂组分（A）、在曝光时生成酸的酸发生器组分（B）和交联剂（C），其中碱溶性树脂组分（A）含有具有上述通式（a0-1）所代表的结构单元（a0）的聚合物化合物（A1）。
• US7820360B2
  申请人：——

  公开号：US7820360B2

  公开（公告）日：2010-10-26