A resist composition comprises: at least one type of a first compound having two or more intramolecular adamantyl structures represented by the chemical formula 1 below; a base resin; and a second compound which generates an acid by active beam irradiation.
wherein X is -(OCO)m-(CH2)n-(COO)m-, where m = 0 or 1 and n = 0, 1, 2 or 3 provided when n = 0, m = 0; and
Y and Z are H, OH, F, Cl, Br, R or COOR, where Y may be Z, or Y and Z may be introduced in a single adamantyl structure and R represents a straight or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
抗蚀剂组合物包括:至少一种具有两个或两个以上分子内
金刚烷基结构的第一种化合物(如下
化学式 1 所示);碱
树脂;以及通过活性光束照射产生酸的第二种化合物。
其中 X 是-(OCO)m-(
CH2)n-(COO)m-,其中 m = 0 或 1,n = 0、1、2 或 3,当 n = 0 时,m = 0;以及
Y 和 Z 是 H、OH、F、Cl、Br、R 或 COOR,其中 Y 可以是 Z,或 Y 和 Z 可以在单个
金刚烷基结构中引入,R 代表具有 1 至 8 个碳原子的直链或支链烷基。