| 1415833-18-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• CAS: 1415833-18-9
• 化学式: C₅H₆F₄O₄S*C₆H₁₅N
• 分子量: 339.352
• InChiKey: OBUFWDYQEVGZEO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.61
• 重原子数：
  21.0
• 可旋转键数：
  8.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  66.84
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  在 双氧水 、 sodium hydroxide 、 sodium sulfite 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 10.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这段文字是关于专利申请的内容，描述了一种能够制造具有良好CD均一性的光刻胶模式的盐、酸发生剂、光刻胶组合物等。

  公开号：

  JP2017057192A
• 作为产物：
  描述：

  2-烯丙氧基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酰氯 、 三乙胺 在 水 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 18.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这段文字是关于专利申请的内容，描述了一种能够制造具有良好CD均一性的光刻胶模式的盐、酸发生剂、光刻胶组合物等。

  公开号：

  JP2017057192A

文献信息

• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20120315580A1

  公开（公告）日：2012-12-13

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, A 1 represents a C1-C30 monovalent organic group, X 1 represents a C1-C10 aliphatic hydrocarbon group where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxy group, m 1 and m 2 independently each represent an integer of 1 to 4, and Z + represents an organic cation.

  一种由化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基团，A1表示C1-C30单价有机基团，X1表示C1-C10脂肪烃基团，其中氢原子可能被羟基取代，m1和m2分别独立表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子。