聚-HEMA | 25249-16-5

• 物质功能分类: 催化剂及助剂 - 聚合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 聚-HEMA
• 中文别名: 聚(2-羟乙基甲基丙烯酸甲酯)；聚(4-羟基-3-硝基苯乙烯)；聚(甲基丙烯酸-2-羟基乙酯；聚2-羟乙基甲基丙烯酸酯；聚(2-HEMA)
• 英文名称: 2-Hydroxyethyl 2,2-dimethylbutanoate
• CAS: 25249-16-5
• 化学式: C₈H₁₆O₃
• 分子量: 160.21
• InChiKey: CRUFITZJZGASJI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.15 g/mL at 25 °C(lit.)
• 溶解度：
  乙醇：120 mg/mL

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 安全说明：
  S24/25
• WGK Germany：
  3
• RTECS号：
  OZ4725000

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：NISHI Tsunehiro

  公开号：US20100062374A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising recurring units containing a non-leaving hydroxyl group represented by formula (1) wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, X is a single bond or methylene, m is 1 or 2, and the hydroxyl group attaches to a secondary carbon atom. The composition is improved in resolution when processed by lithography.

  一种正性光刻胶组合物包括（A）在酸的作用下在碱性显影剂中变得可溶的树脂组分和（B）酸发生剂。树脂（A）是一种聚合物，包含由式（1）表示的非离去羟基的重复单元，其中R1为H、甲基或三氟甲基，X为单键或亚甲基，m为1或2，并且羟基连接到次级碳原子。当通过光刻工艺处理时，该组合物在分辨率方面得到改善。
• [EN] COLORANT MULTIMER, COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR, IMAGE DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY WITH THE COLOR FILTER<br/>[FR] MULTIMÈRE COLORANT, COMPOSITION DURCISSABLE COLORÉE, FILTRE COLORÉ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CEUX-CI, ET DÉTECTEUR D'IMAGES À L'ÉTAT SOLIDE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLEC
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2011040628A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  A colorant multimer includes, as a partial structure of a colorant moiety, a dipyrromethene metal complex compound or tautomer thereof obtained from: (i) a dipyrromethene compound represented by the following Formula (M); and (ii) a metal or a metal compound: wherein in Formula (M), R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.

  一种着色剂多聚体包括作为着色剂部分结构的二吡咯甲烷金属配合物化合物或其互变异构体，所述化合物由以下公式（M）表示的二吡咯甲烷化合物和金属或金属化合物得到：其中在公式（M）中，R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地表示氢原子或一价取代基。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20090246694A1

  公开（公告）日：2009-10-01

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula ( 1 a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) RO is OH or C 1 -C 20 organoxy, R 1 is a divalent C 1 -C 20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。 ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a) RO为OH或C1-C20有机氧基，R1为二价的C1-C20脂肪族基团或与RO形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170131635A1

  公开（公告）日：2017-05-11

  A monomer of formula (1a) or (1b) is provided wherein A is a polymerizable group, R 1 -R 6 are monovalent hydrocarbon groups, X 1 is a divalent hydrocarbon group, Z 1 is an aliphatic group, Z 2 forms an alicyclic group, k=0 or 1, m=1 or 2, n=1 to 4. A useful polymer is obtained by polymerizing the monomer. A resist composition comprising the polymer has improved development properties and is processed to form a negative pattern having high contrast, high resolution and etch resistance which is insoluble in alkaline developer.

  提供了一个化学式为（1a）或（1b）的单体，其中A是一个可聚合的基团，R1-R6是一价碳氢基团，X1是一个二价碳氢基团，Z1是一个脂肪基团，Z2形成一个脂环基团，k=0或1，m=1或2，n=1到4。通过聚合单体得到了一种有用的聚合物。包含该聚合物的抗蚀组合物具有改善的显影性能，并且经过处理形成具有高对比度、高分辨率和耐蚀性的负图案，该负图案在碱性显影剂中不溶。
• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。