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(E)-1-(4-methoxyphenyl)-5-phenyl-3-styryl-4,5-dihydro-1Hpyrazole | 71630-17-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(E)-1-(4-methoxyphenyl)-5-phenyl-3-styryl-4,5-dihydro-1Hpyrazole
英文别名
1-N-p-Anisyl-3-styryl-5-phenyl-2-pyrazolin;1-p-MeO-phenyl-3-styryl-5-phenyl-Δ2-pyrazolin;1-(4-methoxy-phenyl)-5-phenyl-3-styryl-4,5-dihydro-1H-pyrazole
(E)-1-(4-methoxyphenyl)-5-phenyl-3-styryl-4,5-dihydro-1Hpyrazole化学式
CAS
71630-17-6
化学式
C24H22N2O
mdl
——
分子量
354.451
InChiKey
GYJSQQBKKFERHU-OUKQBFOZSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.72
  • 重原子数:
    27.0
  • 可旋转键数:
    5.0
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.12
  • 拓扑面积:
    24.83
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    3.0

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    苯甲醛溶剂黄146 、 sodium hydroxide 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 反应 1.5h, 生成 (E)-1-(4-methoxyphenyl)-5-phenyl-3-styryl-4,5-dihydro-1Hpyrazole
    参考文献:
    名称:
    一些针对乳腺癌的1,3,5-三取代吡唑啉衍生物:设计,合成,细胞毒活性,EGFR抑制和分子对接。
    摘要:
    通过适当查耳酮1a-c或5a-c与适当查尔酮1a-c或5a-c的缩合反应制备不同的1,3,5-三取代吡唑啉衍生物2a-c,3-c,4a-f,6a-c,7a-f和8a-d。各种肼衍生物。筛选所有化合物对乳腺癌MCF-7癌细胞系和正常成纤维细胞WI-38的细胞毒性。与参考标准星形孢菌素相比,十三种化合物2a,3a,3c,4a-d,6c,7d,7e,8b,8d和8f显示出有希望的针对MCF-7的细胞毒性,并且它们对正常成纤维细胞WI-38是安全的。另外,化合物3c,6c,7d,8b和8d比埃洛替尼引起更高的细胞毒性,并且在亚微摩尔水平上显示出与厄洛替尼相当的有希望的EGFR抑制活性,除了化合物8b可能通过除EGFR抑制外的另一种机制发挥细胞毒性作用。3c的分子对接
    DOI:
    10.1016/j.bioorg.2020.103780
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文献信息

  • Photosensitive Resin Composition, Photosensitive Element, Method for Forming Resist Pattern and Method for Producing Printed Wiring Board
    申请人:Miyasaka Masahiro
    公开号:US20090029289A1
    公开(公告)日:2009-01-29
    A photosensitive resin composition comprising: (A) a binder polymer; (B) a photopolymerizable compound that has an ethylenically unsaturated bond; and (C1) a compound represented by general formula (1) below, wherein, at least one R represents a C 1-10 alkoxy group or a C 1-12 alkyl group; the sum of a, b, and c is 1 to 6; and when the sum of a, b, and c is 2 to 6, each R may be the same as or different from one another.
  • PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
    申请人:MIYASAKA Masahiro
    公开号:US20100279229A1
    公开(公告)日:2010-11-04
    A photosensitive resin composition comprising: (A) a binder polymer; (B) a photopolymerizable compound that has an ethylenically unsaturated bond; and (C1) a compound represented by general formula (1) below, wherein, at least one R represents a C 1-10 alkoxy group or a C 1-12 alkyl group; the sum of a, b, and c is 1 to 6; and when the sum of a, b, and c is 2 to 6, each R may be the same as or different from one another.
  • US7993809B2
    申请人:——
    公开号:US7993809B2
    公开(公告)日:2011-08-09
  • US8198008B2
    申请人:——
    公开号:US8198008B2
    公开(公告)日:2012-06-12
  • US8192916B2
    申请人:——
    公开号:US8192916B2
    公开(公告)日:2012-06-05
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