bis-(4-diethylamino-phenyl)-ether | 31382-22-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis-(4-diethylamino-phenyl)-ether
• 英文别名: 4.4'-Bis-diaethylamino-diphenylaether；Bis-(4-diaethylamino-phenyl)-aether；4,4'-oxybis(N,N-diethylaniline)；4-[4-(diethylamino)phenoxy]-N,N-diethylaniline
• CAS: 31382-22-6
• 化学式: C₂₀H₂₈N₂O
• 分子量: 312.455
• InChiKey: CRDNXTRZWPMCAK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.2
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  15.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis-(4-diethylamino-phenyl)-ether 在 氢氟酸 作用下， 以 水 为溶剂， 以7%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  氨基烷基醚的电化学氟化

  摘要：

  已知在液体HF中三烷基胺的电化学氟化容易以良好的产率发生，而二烷基醚的产率很低。后者的氟化醚因其低温性能而受到关注。我们在这项工作中的目标是制备氟化的氨基烷基醚流体，该流体可以结合胺的良好收率和醚的性能。将几种二烷基胺和亚烷基单元结合在各种二氨基单醚，二氨基二醚和单氨基单醚中。在第一类材料中，电化学氟化产率高达50％。描述了这些新流体的结构-屈服关系和性质。

  DOI：

  10.1016/s0022-1139(00)80506-0
• 作为产物：
  描述：

  N,N-二乙基苯胺 在 乙醇 、 二氯化硫 、 氨 、 silver nitrate 、 Petroleum ether 作用下， 生成 bis-(4-diethylamino-phenyl)-ether
  参考文献：
  名称：

  Holzmann, Chemische Berichte, 1888, vol. 21, p. 2064

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Radiation sensitive polymer composition
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP0878740A1

  公开（公告）日：1998-11-18

  An actinic radiation sensitive polymer composition containing (a) a polyimide precursor obtainable by the interaction of an amine compound having a photocrosslinking group with carboxyl groups of a poly(amic acid) chain, and (b) a photoinitiator and/or photosensitizer, in which the degree of imidization Ia is 0.03 ≤ Ia ≤ 0.6, has the characteristic features of both good stability of viscosity with lapse of time and good photosensitive performance.

  一种对辐照敏感的聚合物组合物，其中含有 (a) 聚酰亚胺前体，可通过具有光交联基团的胺化合物与聚(氨基)酸链的羧基相互作用获得，以及 (b) 光引发剂和/或光敏剂、 其中亚胺化程度 Ia 为 0.03 ≤ Ia ≤ 0.6，具有随时间推移粘度稳定性好和光敏性能好的特点。
• Photosensitive heat resistant resin precursor composition
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1388758A1

  公开（公告）日：2004-02-11

  A photosensitive resin precursor composition exhibiting an excellent film thickness uniformity contains: a heat resistant resin precursor polymer; a radiation sensitive compound; and a solvent expressed by formula (1): R1 represents an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3. R2, R3, R4, and R5 each represent hydrogen or an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3, and 1 represents an integer in the range of 0 to 3.

  一种具有优异膜厚均匀性的光敏树脂前体组合物包含：一种耐热树脂前体聚合物；一种辐射敏感化合物；以及一种由式（1）表示的溶剂： R1 代表碳数在 1 至 3 之间的烷基。R2、R3、R4 和 R5 分别代表氢或碳原子数在 1 至 3 之间的烷基，1 代表 0 至 3 之间的整数。
• Photosensitive resin precursor composition
  申请人：Toray Industries, Inc.

  公开号：US20040053156A1

  公开（公告）日：2004-03-18

  A photosensitive resin precursor composition exhibiting an excellent film thickness uniformity contains: a heat resistant resin precursor polymer; a radiation sensitive compound; and a solvent expressed by formula (1): 1 R 1 represents an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3. R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each represent hydrogen or an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3, and l represents an integer in the range of 0 to 3.

  一种具有优异膜厚均匀性的光敏树脂前体组合物包含：耐热树脂前体聚合物；辐射敏感化合物；以及由式（1）表示的溶剂： 1 R 1 代表碳原子数在 1 至 3 之间的烷基。R 2 , R 3 , R 4 和 R 5 各自代表氢或碳原子数在 1 至 3 之间的烷基，l 代表 0 至 3 之间的整数。
• Perfluoroaminoethers
  申请人：MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY

  公开号：EP0214852B1

  公开（公告）日：1992-10-28
• US4461821A
  申请人：——

  公开号：US4461821A

  公开（公告）日：1984-07-24