5-bromo-4-methylphthalic acid | 1098083-48-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 5-bromo-4-methylphthalic acid
• 英文别名: 4-bromo-5-methylphthalic acid
• CAS: 1098083-48-7
• 化学式: C₉H₇BrO₄
• 分子量: 259.056
• InChiKey: XCLKIGDTWUDUQM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  74.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-bromo-4-methylphthalic acid 在 氯化亚砜 、 水 、 乙酸酐 、 magnesium 、 1,2-二溴乙烷 、 lithium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 为溶剂， 反应 15.0h， 生成 6,6'-(dimethoxysilylene)-bis(5-methylisobenzofuran-1,3-dione)
  参考文献：
  名称：

  실리콘 함유 폴리아믹산 전구체 화합물, 이로부터 제조된 폴리아믹산 및 유무기 하이브리드 폴리이미드 필름

  摘要：

  提供一种被表示为化学式1的含硅聚酰胺前体化合物。在上述式中，X和R分别如上所定义。

  公开号：

  KR101810836B1
• 作为产物：
  描述：

  4-甲基苯酐 在 potassium bromate 、 硫酸 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 5-bromo-4-methylphthalic acid
  参考文献：
  名称：

  Method of preparing photosensitive resin composition

  摘要：

  一种6,6'-二烷基-3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐的制备方法是通过在4-烷基邻苯二甲酸酐的5位进行溴化反应，然后在镍催化剂的存在下耦合溴化产物；将含有通式（7）的重复单元的聚酰亚胺前体的光敏树脂组合物涂覆在基板上，暴露于i线，显影并加热以形成聚酰亚胺浮雕图案。其中，Y是一个双价有机基团，R7和R8是OH或单价有机基团，R9和R10是单价碳氢基团，R11、R12和R13是单价碳氢基团，a和b是0到2的整数，c是0到4的整数，m是0到3的整数。

  公开号：

  US06600053B2

文献信息

• Method of preparing photosensitive resin composition
  申请人：Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd.

  公开号：US06600053B2

  公开（公告）日：2003-07-29

  A 6,6′-dialkyl-3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is prepared by brominating a 4-alkylphthalic anhydride at its 5-position, and coupling the bromination product in the presence of a nickel catalyst; A photosensitive resin composition containing a polyimide precursor having repetitive units of general formula (7) is applied onto a substrate, exposed to i-line, developed and heated to form a polyimide relief pattern. wherein Y is a divalent organic group, R7 and R8 are OH or a monovalent organic group, R9 and R10 are a monovalent hydrocarbon group, R11, R12 and R13 are a monovalent hydrocarbon group, a and b are an integer of 0 to 2, c is an integer of 0 to 4, and m is an integer of 0 to 3.

  一种6,6'-二烷基-3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐的制备方法是通过在4-烷基邻苯二甲酸酐的5位进行溴化反应，然后在镍催化剂的存在下耦合溴化产物；将含有通式（7）的重复单元的聚酰亚胺前体的光敏树脂组合物涂覆在基板上，暴露于i线，显影并加热以形成聚酰亚胺浮雕图案。其中，Y是一个双价有机基团，R7和R8是OH或单价有机基团，R9和R10是单价碳氢基团，R11、R12和R13是单价碳氢基团，a和b是0到2的整数，c是0到4的整数，m是0到3的整数。
• Photosensitive resin composition
  申请人：Hitachi Chemical DuPont MicroSystems Ltd.

  公开号：US20020037991A1

  公开（公告）日：2002-03-28

  A 6,6′-dialkyl-3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is prepared by brominating a 4-alkylphthalic anhydride at its 5-position, and coupling the bromination product in the presence of a nickel catalyst; A photosensitive resin composition containing a polyimide precursor having repetitive units of general formula (7) is applied onto a substrate, exposed to 1 -line, developed and heated to form a polyimide relief pattern. 1 wherein Y is a divalent organic group, R 7 and R 8 are OH or a monovalent organic group, R 9 and R 10 are a monovalent hydrocarbon group, R 11 , R 12 and R 13 are a monovalent hydrocarbon group, a and b are an integer of 0 to 2, c is an integer of 0 to 4, and m is an integer of 0 to 3.

  制备了一种6,6'-二烷基-3,3'，4,4'-联苯四羧酐，方法为在4-烷基邻苯二甲酸酐的5位进行溴化反应，然后在镍催化剂存在下耦合溴化产物；将含有通式（7）重复单元的聚酰亚胺前驱体的光敏树脂组合物涂覆在基板上，暴露于1线，经显影和加热形成聚酰亚胺浮雕图案。其中，Y是双价有机基团，R7和R8是OH或单价有机基团，R9和R10是单价碳氢基团，R11、R12和R13是单价碳氢基团，a和b为0到2的整数，c为0到4的整数，m为0到3的整数。
• [EN] AXL INHIBITOR COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSÉS INHIBITEURS D'AXL
  申请人：ARCUS BIOSCIENCES INC

  公开号：WO2022246179A1

  公开（公告）日：2022-11-24

  Compounds of Formula I that inhibit AXL, and compositions containing the compound(s) and methods for synthesizing the compounds, are described herein. Also described are the use of such compounds and compositions for the treatment of a diverse array of diseases, disorders, and conditions, including cancer- and immune-related disorders that are mediated, at least in part, by AXL.

  本文描述了抑制AXL的化合物I的组合物，以及含有该化合物的组合物和合成该化合物的方法。还描述了使用这些化合物和组合物治疗各种疾病、疾患和病状的方法，其中包括由AXL介导的癌症和免疫相关疾患。
• Tetracarboxylic dianhydride, derivative and production thereof, polyimide precursor, polyimide, resin composition, photosensitive resin composition, method of forming relief pattern, and electronic part
  申请人：Hitachi Chemical DuPont MicroSystems Ltd.

  公开号：EP1013650A2

  公开（公告）日：2000-06-28

  A 6,6'-dialkyl-3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride is prepared by brominating a 4-alkylphthalic anhydride at its 5-position, and coupling the bromination product in the presence of a nickel catalyst; A photosensitive resin composition containing a polyimide precursor having repetitive units of general formula (7) is applied onto a substrate, exposed to i-line, developed and heated to form a polyimide relief pattern. wherein Y is a divalent organic group, R7 and R8 are OH or a monovalent organic group, R9 and R10 are a monovalent hydrocarbon group, R11, R12 and R13 are a monovalent hydrocarbon group, a and b are an integer of 0 to 2, c is an integer of 0 to 4, and m is an integer of 0 to 3.

  一种 6,6'-二烷基-3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐是通过在其 5 位上溴化 4-烷基邻苯二甲酸酐，并在镍催化剂存在下偶联溴化产物而制备的；一种含有具有通式(7)重复单元的聚酰亚胺前体的光敏树脂组合物被涂覆在基底上，暴露于 i-线，显影并加热以形成聚酰亚胺浮雕图案。 其中 Y 是二价有机基团，R7 和 R8 是 OH 或一价有机基团，R9 和 R10 是一价烃基团，R11、R12 和 R13 是一价烃基团，a 和 b 是 0 至 2 的整数，c 是 0 至 4 的整数，m 是 0 至 3 的整数。
• SOLID CATALYST COMPONENT AND CATALYST FOR OLEFIN POLYMERIZATION
  申请人：TOHO TITANIUM CO., LTD.

  公开号：EP1209172B1

  公开（公告）日：2008-07-02