trans- and cis-1,3-bis(methanesulphonyl)cyclohexane | 97840-76-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: trans- and cis-1,3-bis(methanesulphonyl)cyclohexane
• 英文别名: (3-Methylsulfonyloxycyclohexyl) methanesulfonate
• CAS: 97840-76-1
• 化学式: C₈H₁₆O₆S₂
• 分子量: 272.343
• InChiKey: RZYWEHGAIVDMRD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二苯基二硒醚 、 trans- and cis-1,3-bis(methanesulphonyl)cyclohexane 在 sodium tetrahydroborate 作用下， 以21%的产率得到3-phenylselenocyclohexene
  参考文献：
  名称：

  77Se,13C and1H NMR spectra of phenylselenenylcycloalkanes, -cycloalkenes and some of their selenoxides and125Te NMR of a tellurium analogue

  摘要：

  报道了46个主要为新化合物（具有连接到碳环上的苯基亚硒基团）以及三个新的相应亚硒氧化物的77Se、13C和1H NMR光谱，以及苯基碲基环己烷的125Te NMR光谱。根据构型和构象，对这些核的化学位移的取代基效应进行了汇编和讨论。一些环己烷衍生物的低温NMR光谱使得能够评估热力学数据，例如PhSe、PhSe(O)和PhTe基团的A值。

  DOI：

  10.1002/mrc.1260290310

文献信息

• Dynamic 77se nmr of phenylselenyl cyclohexane derivatives
  作者：Helmut Duddeck、Petra Wagner、Sabine Gegner

  DOI：10.1016/s0040-4039(00)98434-x

  日期：1985.1
• Sulfonate-Containing Anti-Reflective Coating Forming Composition for Lithography
  申请人：Kishioka Takahiro

  公开号：US20080003524A1

  公开（公告）日：2008-01-03

  There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer compound, a crosslinking compound, a crosslinking catalyst, a sulfonate compound and a solvent. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light causes no intermixing with photoresists, has a higher dry etching rate compared with photoresists, can form a photoresist pattern having no footing at the lower part, and can use in lithography process by use of a light such as ArF excimer laser beam and F2 excimer laser beam, etc.
• US4720505A
  申请人：——

  公开号：US4720505A

  公开（公告）日：1988-01-19
• US7595144B2
  申请人：——

  公开号：US7595144B2

  公开（公告）日：2009-09-29