4-羟基-3-碘-5-硝基苯甲酸 | 10463-17-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-羟基-3-碘-5-硝基苯甲酸
• 英文名称: 3-iodo-4-hydroxy-5-nitrobenzoic acid
• 英文别名: 4-hydroxy-3-iodo-5-nitro-benzoic acid；4-Hydroxy-3-jod-5-nitro-benzoesaeure；4-Hydroxy-3-iod-5-nitrobenzoesaeure；4-Hydroxy-3-iodo-5-nitrobenzoic acid
• CAS: 10463-17-9
• 化学式: C₇H₄INO₅
• 分子量: 309.017
• InChiKey: OVNWFZWJHJVRGG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  251 °C
• 沸点：
  347.3±42.0 °C(Predicted)
• 密度：
  2.300±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  103
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 海关编码：
  2918290000

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-羟基-3-碘-5-硝基苯甲酸 在 盐酸 、 tin(ll) chloride 作用下， 生成 3-amino-4-hydroxy-5-iodo-benzoic acid
  参考文献：
  名称：

  Brenans; Prost, Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, 1924, vol. 178, p. 1824

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-羟基-3-硝基苯甲酸 在 碘 、 mercury(II) oxide 作用下， 生成 4-羟基-3-碘-5-硝基苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  Weselsky, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1874, vol. 174, p. 100

  摘要：

  DOI：

文献信息

• In Vitro Metabolism of Aromatic Nitriles
  作者：Bohdan Markus、Chul‐Hoon Kwon

  DOI：10.1002/jps.2600831216

  日期：1994.12

  metabolic fate of aromatic nitriles, in contrast to their aliphatic counterparts, have been minimal and the subject of controversy. The in vitro metabolic fate of several aromatic nitriles with varying substituents was investigated by using rat liver subcellular fractions, with a particular emphasis on the nitrile moiety. Benzonitriles and 4-cyanophenols underwent oxidative metabolism to produce ring-hydroxylated

  与芳族腈相比，对芳族腈的代谢命运的研究很少，并且是有争议的主题。通过使用大鼠肝脏的亚细胞级分，研究了几种具有不同取代基的芳香腈的体外代谢命运，特别着重于腈部分。苯甲腈和4-氰基苯酚经过氧化代谢产生环羟基化代谢产物。另一方面，2-氰基苯酚对新陈代谢具有抗性。邻甲苯胺被代谢并产生邻氰基苄醇和邻苯二甲酰亚胺。然而，邻苯二甲酸酯是从邻-氰基苄醇（最初的代谢产物）化学衍生而来的。4-硝基苄腈对环上的氧化具有抗性，但在需氧和厌氧条件下均易于还原为相应的胺代谢物。硝基氧（3-碘-4-羟基-5-硝基苯甲腈）被代谢产生3-碘-4-羟基-5-硝基苯甲酰胺和3-碘-4-羟基-5-硝基苯甲酸。负责这种水解代谢的酶主要定位在胞质溶胶中。在所测试的腈中，邻甲苯甲腈和硝腈产生了代谢物，其中腈部分被修饰。然而，硝基昔洛尔是唯一一种通过大鼠肝酶直接在腈部分代谢的化合物。
• COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM FOR LITHOGRAPHY
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1560070A1

  公开（公告）日：2005-08-03

  There is provided a composition for forming anti-reflective coating for anti-reflective coating that has a good absorption of light at a wavelength utilized for manufacturing a semiconductor device, that exerts a high protection effect against light reflection, that has a high dry etching rate compared with the photoresist layer. Concretely, the composition for forming anti-reflective coating contains a triazine trione compound, oligomer compound or polymer compound having hydroxyalkyl structure as substituent on nitrogen atom.

  本发明提供了一种用于形成防反射涂层的组合物，该组合物对用于制造半导体器件的波长的光具有良好的吸收性，对光的反射具有较高的保护效果，与光刻胶层相比具有较高的干蚀刻率。具体来说，用于形成抗反射涂层的组合物含有一种三嗪三酮化合物、低聚物化合物或聚合物化合物，其氮原子上的取代基为羟烷基结构。
• Henry; Sharp, Journal of the Chemical Society, 1924, vol. 125, p. 1057
  作者：Henry、Sharp

  DOI：——

  日期：——
• 3-NITRO-4-HYDROXY-5-IODO-BENZOIC ACID AND THE MERCURY DERIVATIVE OF PARA-HYDROXY-META-NITROPHENYL CARBINOL.
  作者：Morris S. Kharasch

  DOI：10.1021/ja01438a022

  日期：1921.5
• SALTS OF PAROXETINE
  申请人：SMITHKLINE BEECHAM PLC

  公开号：EP1091958A1

  公开（公告）日：2001-04-18