ethyl 4-(2-hydroxypropan-2-yl)benzoate | 70738-01-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: ethyl 4-(2-hydroxypropan-2-yl)benzoate
• CAS: 70738-01-1
• 化学式: C₁₂H₁₆O₃
• 分子量: 208.257
• InChiKey: DOZHQAIHSDBASN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.42
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ethyl 4-(2-hydroxypropan-2-yl)benzoate 、 二苯基乙炔 在 六氟磷酸银 、 [RhCl2(p-cymene)]2 、 copper(II) acetate monohydrate 作用下， 以 2-甲基-2-丁醇 为溶剂， 110.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 22.0h， 以80%的产率得到ethyl 1,1-dimethyl-3,4-diphenyl-1H-isochromene-6-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  钌（II）催化的C ？H弱配位的脂肪族羟基的活化

  摘要：

  阳离子钌（II）配合物已被用于炔烃与苄醇的高效氧化环合反应，以提供装饰多样化的异色酮。羟基定向Ç  H / O  ħ官能化过程的空气的气氛下有效地进行。详细机理研究都表示动力学相关的C  ^ h金属化。

  DOI：

  10.1002/chem.201400161
• 作为产物：
  描述：

  ethyl 4-isopropylbenzoate 在 氢溴酸 、 氧气 、 uranyl(VI) acetate dihydrate 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 20.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 48.0h， 以73%的产率得到ethyl 4-(2-hydroxypropan-2-yl)benzoate
  参考文献：
  名称：

  Stepwise benzylic oxygenation via uranyl-photocatalysis

  摘要：

  使用铀酰光催化剂，在常温下实现对苄基分子的逐步氧化。通过溶剂和添加剂调节铀酰光催化剂的氧化还原电位，确保了逐步氧化的准确性。

  DOI：

  10.1039/d1gc04042a

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• Direct α‐Arylation of Alcohols with Aryl Halides through a Radical Chain Mechanism
  作者：Kohei Aoki、Kyohei Yonekura、Yuko Ikeda、Ryota Ueno、Eiji Shirakawa

  DOI：10.1002/adsc.202000216

  日期：2020.5.26

  Alcohols were found to be arylated directly at their α‐C−H bond with aryl halides in the presence of a base and a substoichiometric amount of t ‐BuOOt ‐Bu through a homolytic aromatic substitution mechanism.

  人们发现，在存在碱和亚化学计量量的t- BuOO t- Bu的情况下，醇通过均溶芳族取代机制直接在芳基卤化物的α–C–H键上芳基化。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• [EN] PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF PHENYLACETIC ACID DERIVATIVES<br/>[FR] PROCEDE DE PRODUCTION DE DERIVES D'ACIDE PHENYLACETIQUE
  申请人：HOFFMANN LA ROCHE

  公开号：WO2002079134A1

  公开（公告）日：2002-10-10

  The present invention relates to a process for the manufacture of compounds of general formula (I), wherein R2a, R2b are, independently from each other, hydrogen; halogen; lower alkoxy; cyano; -COOH; lower alkoxycarbonyl; or lower alkyl, optionally substituted by halogen; and R3a, R3b are, independently from each other, hydrogen; lower alkyl; lower cycloalkyl or, if taken together, -(CH¿2?)n with n=2,3 or 5. The compounds of formula (I) are valuable intermediates for the manufacture of therapeutically active compounds such as 2-(3,5-bis-trifluoromethyl-phenyl)-N-methyl-N-(6-morpholin-4-yl-4-o-tolyl-pyridin-3-yl)-isobutyramide and 2-(3,5-bis-trifluoromethyl-phenyl)-N-methyl-N-(2-morpholin-4-yl-4-o-tolyloxy-pyrimidin-5-yl)-isobutyramide.

  本发明涉及一种制备通式（I）化合物的方法，其中R2a，R2b独立地为氢; 卤素; 低烷氧基; 腈; -COOH; 低烷氧羰基; 或低烷基，可选择地被卤素取代; 而R3a，R3b独立地为氢; 低烷基; 低环烷基或，如果一起取，为-(CH¿2?)n，其中n = 2,3或5。通式（I）化合物是制备具有治疗活性化合物的有价值的中间体，例如2-（3,5-双三氟甲基苯基）-N-甲基-N-（6-吗啉-4-基-4-对甲苯基吡啶-3-基）-异丁酰胺和2-（3,5-双三氟甲基苯基）-N-甲基-N-（2-吗啉-4-基-4-对甲苯氧基嘧啶-5-基）-异丁酰胺的制备。
• CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US20120282546A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明涉及一种具有高溶解度、高灵敏度、能够形成良好形状的抗蚀图案，且很少引起抗蚀图案崩塌的环状化合物；一种制备该环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体揭示了一种具有特定结构的环状化合物，制备该环状化合物的方法，含有该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。